用于电子器件的材料制造技术

本发明专利技术涉及式(I)或(II)的取代的苯并蒽化合物。本申请此外涉及包含所述苯并蒽化合物的电子器件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本申请涉及包含取代的苯并蒽化合物的电子器件。根据本专利技术的术语电子器件通常是指包含有机材料的电子器件。其优选是指OLED。OLED的通用结构和功能原则为本领域技术人员所知且特别在US 4539507、US 5151629、EP 0676461和WO 1998/27136中被描述。关于电子器件的性能数据，特别是考虑到例如在显示器中或作为光源的广泛商业用途，需要进一步的改进。在这方面特别重要的是电子器件的寿命、效率和工作电压及所达到的色值。对于特定应用而言，同样重要的是具有可利用的可溶性化合物。尤其是在蓝色发光OLED的情况下，存在改进器件的寿命和发射光的色值的潜力。实现所述改进的一个重要起始点是选择优选与荧光发光体化合物相组合的用作电子器件的发光层中的基质的化合物。出于本申请的目的，在发光层中的基质(或基质化合物或基质材料)是指存在于电子器件的发光层中、但不是发光体化合物，即并不或并不显著地参与在由发光层实现的光发射中的化合物。发光体化合物相应地是指发光层的化合物，其在电子器件工作时发射光。根据本申请的术语荧光发光体涵盖其中光发射自单重态发生的化合物。许多化合物在现有技术中被描述为用于发光层的基质化合物。其实例为在2-、6-、9-和10-位处具有芳基取代基的蒽，如在例如WO 2007/110129中所描述的；双蒽化合物，如在例如WO 2007/065678中所描述的；或在9-和10-位处具有彼此不同的取代基的蒽化合物，如在例如EP 1 553154中所描述的。例如在WO 2008/145239中，现有技术此外描述用于此用途的具有特定取代型式的苯并蒽化合物。其中公开的苯并蒽化合物的特征在于其在2位、3位、4位、5位或6位之一处具有芳基或杂芳基基团，而没有其它取代基，尤其是在7位和12位处没有取代基。尽管在WO 2008/145239中公开的化合物具有很好的性质，然而，需要持续改进。在此特别关注的是，有助于发射光的深蓝色坐标和/或电子器件的更长寿命的新型化合物的开发。此外，对于特定应用而言，相当关注的是具有在常见有机溶剂中，尤其是在用于制造电子器件的印刷方法或旋涂方法中采用的溶剂中具有改进的溶解度的可获得化合物。对于可充当从现有技术已知的化合物的替代物的新型化合物也存在兴趣。所述化合物的期望用途并不局限于作为基质使用，而且包括作为例如电子传输材料、空穴传输材料或发光体使用。在关于适用于电子器件的新型化合物的研究中，现在已经出乎意料地发现具有下式(I)或(II)的限定取代型式的苯并蒽化合物显著地适合在电子器件中使用。特别地，他们实现了提供具有发射光的深蓝色坐标的OLED、提供具有长寿命的OLED和提供在有机溶剂中具有良好溶解度的化合物的上文提到的工艺目的中的一个或多个，优选全部。本专利技术因此涉及式(I)或(II)的化合物其中以下适用于所出现的符号：Ar1选自可被一个或多个基团R2取代的具有6～40个芳族环原子的芳族环系或可被一个或多个基团R2取代的具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系；R0为C(＝O)R3、CN、Si(R3)3、P(＝O)(R3)2、OR3、S(＝O)R3、S(＝O)2R3、具有1～20个C原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3～20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团或具有2～20个C原子的烯基或炔基基团，其中上文提到的基团可各自被一个或多个基团R3取代且其中在上文提到的基团中的一个或多个CH2基团可被-R3C＝CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C＝O、C＝NR3、-C(＝O)O-、-C(＝O)NR3-、NR3、P(＝O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替；基团R0可连接到基团R1且可形成环；L为选自可被一个或多个基团R2取代的具有6～40个芳族环原子的芳族环系或可被一个或多个基团R2取代的具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系的n价基团；或L为化学键，其中n于是等于2；R1、R2在每次出现时相同或不同地为H，D，F，C(＝O)R3，CN，Si(R3)3，N(R3)2，P(＝O)(R3)2，OR3，S(＝O)R3，S(＝O)2R3，具有1～20个C原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3～20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团或具有2～20个C原子的烯基或炔基基团，其中上文提到的基团可各自被一个或多个基团R3取代且其中在上文提到的基团中的一个或多个CH2基团可被-R3C＝CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C＝O、C＝NR3、-C(＝O)O-、-C(＝O)NR3-、NR3、P(＝O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替，或具有6～40个芳族环原子的芳族环系，其可被一个或多个基团R3取代，或具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系，其可被一个或多个基团R3取代；两个或更多个基团R1或R2可彼此连接且可形成环；R3在每次出现时相同或不同地为H，D，F，C(＝O)R4，CN，Si(R4)3，N(R4)2，P(＝O)(R4)2，OR4，S(＝O)R4，S(＝O)2R4，具有1～20个C原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3～20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团或具有2～20个C原子的烯基或炔基基团，其中上文提到的基团可各自被一个或多个基团R4取代且其中在上文提到的基团中的一个或多个CH2基团可被-R4C＝CR4-、-C≡C-、Si(R4)2、C＝O、C＝NR4、-C(＝O)O-、-C(＝O)NR4-、NR4、P(＝O)(R4)、-O-、-S-、SO或SO2代替，或具有6～40个芳族环原子的芳族环系，其可被一个或多个基团R4取代，或具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系，其可被一个或多个基团R4取代；两个或更多个基团R3可彼此连接且可形成环；R4在每次出现时相同或不同地为H、D、F、CN或具有1～20个C原子的脂族、芳族或杂芳族有机基团，其中，一个或多个H原子还可被D、F或CN代替；两个或更多个取代基R4可彼此连接且可形成环；n等于2、3、4、5或6；其中式(I)或(II)的化合物可在指示为未取代的位置中的每一个处含有基团R1；且其中排除下列化合物：图示意指基团Ar1在选自苯并蒽的1位～12位的任何期望位置处键合。上述情况也适用于在式(II)中的基团L的表示。图示意指基团R0在选自苯并蒽的5位、6位、7位、8位、9位、10位、11位或12位的位置处键合。在本申请中，使用苯并蒽结构的以下位置编号：本专利技术的意义上的芳基含有6～60个芳族环原子；本专利技术的意义上的杂芳基含有5～60个芳族环原子，其至少一个为杂原子。所述杂原子优选选自N、O和S。这代表基本定义。如果在本专利技术的说明书中例如关于存在的芳族环原子或杂原子的数目指示其它优选方式，则这些适用。芳基或杂芳基基团在此意指简单的芳族环，即苯，或简单的杂芳族环，例如吡啶、嘧啶或噻吩，或稠合(缩合)的芳族或杂芳族多环，例如萘、菲、喹啉或咔唑。稠合(缩合)的芳族或杂芳族多环在本申请的意义上由彼此稠合的两个或更多个简单芳族或杂芳族环构成。可在每种情况下被上文提到的基团取代且可经由任何期望位置连接到芳族或杂芳族环系的芳基或杂芳基基团尤其是指源自以下的基团：苯、萘、蒽、菲、芘、二氢芘、苝、荧蒽、苯并蒽、苯并菲、并四苯、并五苯、苯并芘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种式(I)或(II)的化合物，其中以下适用于所出现的符号：Ar1选自具有6～40个芳族环原子的芳族环系，所述芳族环系可被一个或多个基团R2取代，或具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系，所述杂芳族环系可被一个或多个基团R2取代；R0为C(＝O)R3、CN、Si(R3)3、P(＝O)(R3)2、OR3、S(＝O)R3、S(＝O)2R3、具有1～20个C原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3～20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团或具有2～20个C原子的烯基或炔基基团，其中上文提到的基团可各自被一个或多个基团R3取代且其中在上文提到的基团中的一个或多个CH2基团可被‑R3C＝CR3‑、‑C≡C‑、Si(R3)2、C＝O、C＝NR3、‑C(＝O)O‑、‑C(＝O)NR3‑、NR3、P(＝O)(R3)、‑O‑、‑S‑、SO或SO2代替；基团R0可连接到基团R1且可形成环；L为选自可被一个或多个基团R2取代的具有6～40个芳族环原子的芳族环系或可被一个或多个基团R2取代的具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系的n价基团；或L为化学键，其中n于是等于2；R1、R2在每次出现时相同或不同地为H，D，F，C(＝O)R3，CN，Si(R3)3，N(R3)2，P(＝O)(R3)2，OR3，S(＝O)R3，S(＝O)2R3，具有1～20个C原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3～20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团或具有2～20个C原子的烯基或炔基基团，其中上文提到的基团可各自被一个或多个基团R3取代且其中在上文提到的基团中的一个或多个CH2基团可被‑R3C＝CR3‑、‑C≡C‑、Si(R3)2、C＝O、C＝NR3、‑C(＝O)O‑、‑C(＝O)NR3‑、NR3、P(＝O)(R3)、‑O‑、‑S‑、SO或SO2代替，或具有6～40个芳族环原子的芳族环系，所述芳族环系可被一个或多个基团R3取代，或具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系，所述杂芳族环系可被一个或多个基团R3取代；两个或更多个基团R1或R2可彼此连接且可形成环；R3在每次出现时相同或不同地为H，D，F，C(＝O)R4，CN，Si(R4)3，N(R4)2，P(＝O)(R4)2，OR4，S(＝O)R4，S(＝O)2R4，具有1～20个C原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3～20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团或具有2～20个C原子的烯基或炔基基团，其中上文提到的基团可各自被一个或多个基团R4取代且其中在上文提到的基团中的一个或多个CH2基团可被‑R4C＝CR4‑、‑C≡C‑、Si(R4)2、C＝O、C＝NR4、‑C(＝O)O‑、‑C(＝O)NR4‑、NR4、P(＝O)(R4)、‑O‑、‑S‑、SO或SO2代替，或具有6～40个芳族环原子的芳族环系，所述芳族环系可被一个或多个基团R4取代，或具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系，所述杂芳族环系可被一个或多个基团R4取代；两个或更多个基团R3可彼此连接且可形成环；R4在每次出现时相同或不同地为H，D，F，CN或具有1～20个C原子的脂族、芳族或杂芳族有机基团，其中，一个或多个H原子还可被D、F或CN代替；两个或更多个取代基R4可彼此连接且可形成环；n等于2、3、4、5或6；其中所述式(I)或(II)的化合物可在指示为未取代的位置中的每一个处含有基团R1；且其中排除下列化合物：...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.04.16 EP 14001391.31.一种式(I)或(II)的化合物，其中以下适用于所出现的符号：Ar1选自具有6～40个芳族环原子的芳族环系，所述芳族环系可被一个或多个基团R2取代，或具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系，所述杂芳族环系可被一个或多个基团R2取代；R0为C(＝O)R3、CN、Si(R3)3、P(＝O)(R3)2、OR3、S(＝O)R3、S(＝O)2R3、具有1～20个C原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3～20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团或具有2～20个C原子的烯基或炔基基团，其中上文提到的基团可各自被一个或多个基团R3取代且其中在上文提到的基团中的一个或多个CH2基团可被-R3C＝CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C＝O、C＝NR3、-C(＝O)O-、-C(＝O)NR3-、NR3、P(＝O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替；基团R0可连接到基团R1且可形成环；L为选自可被一个或多个基团R2取代的具有6～40个芳族环原子的芳族环系或可被一个或多个基团R2取代的具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系的n价基团；或L为化学键，其中n于是等于2；R1、R2在每次出现时相同或不同地为H，D，F，C(＝O)R3，CN，Si(R3)3，N(R3)2，P(＝O)(R3)2，OR3，S(＝O)R3，S(＝O)2R3，具有1～20个C原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3～20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团或具有2～20个C原子的烯基或炔基基团，其中上文提到的基团可各自被一个或多个基团R3取代且其中在上文提到的基团中的一个或多个CH2基团可被-R3C＝CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C＝O、C＝NR3、-C(＝O)O-、-C(＝O)NR3-、NR3、P(＝O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替，或具有6～40个芳族环原子的芳族环系，所述芳族环系可被一个或多个基团R3取代，或具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系，所述杂芳族环系可被一个或多个基团R3取代；两个或更多个基团R1或R2可彼此连接且可形成环；R3在每次出现时相同或不同地为H，D，F，C(＝O)R4，CN，Si(R4)3，N(R4)2，P(＝O)(R4)2，OR4，S(＝O)R4，S(＝O)2R4，具有1～20个C原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3～20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团或具有2～20个C原子的烯基或炔基基团，其中上文提到的基团可各自被一个或多个基团R4取代且其中在上文提到的基团中的一个或多个CH2基团可被-R4C＝CR4-、-C≡C-、Si(R4)2、C＝O、C＝NR4、-C(＝O)O-、-C(＝O)NR4-、NR4、P(＝O)(R4)、-O-、-S-、SO或SO2代替，或具有6～40个芳族环原子的芳族环系，所述芳族环系可被一个或多个基团R4取代，或具有5～40个芳族环原子的杂芳族环系，所述杂芳族环系可被一个或多个基团R4取代；两个或更多个基团R3可彼此连接且可形成环；R4在每次出现时相同或不同地为H，D，F，CN或具有1～20个C原子的脂族、芳族或杂芳族有机基团，其中，一个或多个H原子还可被D、F或CN代替；两个或更多个取代基R4可彼此连接且可形成环；n等于2、3、4、5或6；其中所述式(I)或(II)的化合物可在指示为未取代的位置中的每一个处含有基团R1；且其中排除下列化合物：2.根据权利要求1所述的式(I)或(II)的化合物，其特征在于选自H和D的基团R1在7位处存在或者特征在于基团R0在7位处存在。3.根据权利要求1或2所述的化合物，其特征在于所述式(I)的化合物除了苯并蒽骨架之外还含有至少一个具有14～18个芳族环原子的稠合芳基基团。4.根据权利要求1～3中的一项或多项所述的化合物，其特征在于所述基团Ar1在所述苯并蒽上在选自2位、3位、4位、5位和6位的位置处键合。5.根据权利要求1～4中的一项或多项...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍尔格·海尔，拉拉伊莎贝尔·罗德里格斯，比特·布克哈特，塞巴斯汀·迈耶，
申请(专利权)人：默克专利有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE