卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种光学高反射抛物屏的制造工艺，特别涉及卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺；本发明专利技术所述的卫星用辐冷光学高反射抛物屏由反射面(1)、抛物屏体(2)、抛物屏背板(3)组成；采用特殊的加工工艺，可以完成卫星用辐冷光学高反射抛物屏的加工，本发明专利技术完成了卫星用辐冷光学高反射抛物屏的结构设计，解决了卫星用辐冷光学高反射抛物屏制造过程中存在的工艺技术难题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学高反射抛物屏的制造工艺，特别涉及卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺。
技术介绍
光学高反射抛物屏在卫星上具有广泛的应用。然而，目前的制造工艺很难达到卫星使用所需，卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺仍然是一大技术难题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对上述问题提供卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺，卫星用辐冷光学高反射抛物屏由反射面(1)、抛物屏体(2)、抛物屏背板(3)组成；反射面(1)初始点A、B分别位于X-Z坐标轴中的坐标位置为：B(8.5，48.8)；A(135.3，195.8)；抛物面曲线方程为Y2＝2*Z(140+1.7*Z/133.3)，长度单位为mm。本专利技术卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺流程为：铝合金毛坯铸造---第一次热处理：加热到80℃，保温48小时，消除加工剩余应力，起到防止变形的作用---线切割粗加工---第二次热处理：加热到60℃，保温48小时，消除加工剩余应力---粗磨粗精加工---第三次热处理：加热到60℃，保温48小时，消除加工剩余应力，防止变形---精磨精加工---第四次热处理：降温到-100℃，保温1小时，渗氮处理，提高表面硬度---超精磨密加工---抛物面抛光到表面粗糙度达到0.025μm，在抛光过程中，应注意控制热能的产生，防止工件变形---镀Ag反射膜(Ag反射膜厚度为90-140纳米)---镀保护膜(保护膜材料为：Ag膜10-20纳米+Al2O3膜10-20纳米+SiO2膜60-100纳米)，镀膜后应保证镀膜表面的粗糙度达到0.025μm，从而保证红外反射率≥95％，可见光反射率≥93％；同时，非镜面部分红外反射率≥90％；对抛物屏背板应进行防护，防止氧化；反射膜与保护膜的结合必须完整，结合牢固，不得有露底现象。附图说明图1是本专利技术卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺的断面结构示意图；图2是本专利技术卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺的背部结构图；图3是本专利技术卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺在Y-Z坐标系中抛物屏反射面曲线。附图中标注说明：1--反射面；2-抛物屏体；3--抛物屏背板。具体实施方式下面结合附图与具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。图1是本专利技术卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺的断面结构示意图；图2是本专利技术卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺的背部结构图；图3是本专利技术卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺在Y-Z坐标系中抛物屏反射面曲线。结合图1、图2、图3所示，卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺方法包括：参照图1所示，卫星用辐冷光学高反射抛物屏由反射面(1)、抛物屏体(2)、抛物屏背板(3)组成；反射面(1)初始点A、B分别位于X-Z坐标轴中的坐标位置为：B(8.5，48.8)；A(135.3，195.8)；抛物面曲线方程为Y2＝2*Z(140+1.7*Z/133.3)，长度单位为mm。参照图1所示，本专利技术卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺流程为：铝合金毛坯铸造---第一次热处理：加热到80℃，保温48小时，消除加工剩余应力，起到防止变形的作用---线切割粗加工---第二次热处理：加热到60℃，保温48小时，消除加工剩余应力---粗磨粗精加工---第三次热处理：加热到60℃，保温48小时，消除加工剩余应力，防止变形---精磨精加工---第四次热处理：降温到-100℃，保温1小时，渗氮处理，提高表面硬度---超精磨密加工---抛物面抛光到表面粗糙度达到0.025μm，在抛光过程中，应注意控制热能的产生，防止工件变形---镀Ag反射膜(Ag反射膜厚度为90-140纳米)---镀保护膜(保护膜材料为：Ag膜10-20纳米+Al2O3膜10-20纳米+SiO2膜60-100纳米)，镀膜后应保证镀膜表面的粗糙度达到0.025μm，从而保证红外反射率≥95％，可
见光反射率≥93％；同时，非镜面部分红外反射率≥90％；对抛物屏背板应进行防护，防止氧化；反射膜与保护膜的结合必须完整，结合牢固，不得有露底现象。本文档来自技高网...

【技术保护点】
卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺，其特征在于：该反射抛物屏由反射面(1)、抛物屏体(2)、抛物屏背板(3)组成；反射面(1)初始点A、B分别位于X‑Z坐标轴中的坐标位置为：B(8.5，48.8)；A(135.3，195.8)；抛物面曲线方程为Y2＝2*Z(140+1.7*Z/133.3)，长度单位为mm。

【技术特征摘要】
1.卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺，其特征在于：该反射抛物屏由反射面(1)、抛物屏体(2)、抛物屏背板(3)组成；反射面(1)初始点A、B分别位于X-Z坐标轴中的坐标位置为：B(8.5，48.8)；A(135.3，195.8)；抛物面曲线方程为Y2＝2*Z(140+1.7*Z/133.3)，长度单位为mm。2.用于权利要求1所述的卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺，其特征是，所述的卫星用辐冷光学高反射抛物屏制作工艺流程为：本发明卫星用辐冷光学高反射抛物屏及其制作工艺流程为：铝合金毛坯铸造---第一次热处理：加热到80℃，保温48小时，消除加工剩余应力，起到防止变形的作用---线切割粗加工---第二次热处理：加热到60℃，保温48小时，消除加工剩余应力--...

【专利技术属性】
技术研发人员：张益著，徐贵芳，
申请(专利权)人：金华市佛尔泰精密机械制造有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33