【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制成技术,具体涉及一种具有内部循环风扇的超净间。
技术介绍
超净间用于制药工业或者半导体制成工业,在制作晶圆、TFT或者LCD时,都需要使用超净间,超净间最主要的作用在于控制产品所接触的大气的洁净度日及温湿度,使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造。现有技术中,超净间的循环风扇往往是从外部进行循环,这样有一定概率代入外部的。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本专利技术公开了一种。本专利技术的技术方案如下:一种具有内部循环风扇的超净间,包括设置于超净间两侧的入风端、设置于超净间后端的出风端和设置于超净间内侧左右边的走风通道;超净间左右两侧的中轴线上设置有操作通道,操作通道的两侧设置有起重设备;在所述起重设备和所述走风通道之间设置有左右通透的储物区,储物区中放置有储物架;贴靠储物区的外侧还设置有内循环风扇单元,超净间后端还设置有用于供操作员出入的门;所述出风端的入风口设置在门的左右两侧,出风端的出风口设置于超净间的左右边的墙壁之上;所述入风端处还设置有多个并列排布的外循环风扇单元,外循环风扇单元均贴靠超净间两侧墙壁安装。本专利技术的有益技术效果是:本专利技术设置有内循环风扇,可以增强超净间之内的循环效果。又由于内循环风扇贴靠储物区安装,可以针对储物区的空气进行循环,保证放置于储物区中的物品达到相关的超净标准。附图说明图1是本专利技术的示意图。具体实施方式如图1所示,本专利技术包括设置于超净间两侧的入风端1、设置于超净间后端的出风端2和设置于超净间内侧左右边的走风通道3;超净间左右两侧的中轴线上设置有操作通道4,操作通道4的两侧设置有起重设 ...
【技术保护点】
一种具有内部循环风扇的超净间,其特征在于,包括设置于超净间两侧的入风端(1)、设置于超净间后端的出风端(2)和设置于超净间内侧左右边的走风通道(3);超净间左右两侧的中轴线上设置有操作通道(4),操作通道(4)的两侧设置有起重设备(5);在所述起重设备(5)和所述走风通道(3)之间设置有左右通透的储物区(7),储物区(7)中放置有储物架(8);贴靠储物区(7)的外侧还设置有内循环风扇单元(6),超净间后端还设置有用于供操作员出入的门(9);所述出风端(2)的入风口设置在门(9)的左右两侧,出风端(2)的出风口设置于超净间的左右边的墙壁之上;所述入风端(1)处还设置有多个并列排布的外循环风扇单元(10),外循环风扇单元(10)均贴靠超净间两侧墙壁安装。
【技术特征摘要】
1.一种具有内部循环风扇的超净间,其特征在于,包括设置于超净间两侧的入风端(1)、设置于超净间后端的出风端(2)和设置于超净间内侧左右边的走风通道(3);超净间左右两侧的中轴线上设置有操作通道(4),操作通道(4)的两侧设置有起重设备(5);在所述起重设备(5)和所述走风通道(3)之间设置有左右通透的储物区(7),储物区(7)中...
【专利技术属性】
技术研发人员:吕耀安,
申请(专利权)人:无锡宏纳科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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