有害生物防除剂的制造法制造技术

本发明专利技术为了稳定且廉价地供给作为有害生物防除剂所要求的量的具有2‑酰基亚氨基吡啶结构的衍生物，提供一种方法，包括：将式(A)所表示的化合物的2位氨基使用酰基化剂进行酰基化，从而制造式(B)所表示的化合物的工序；及将式(B)所表示的化合物的1位氮原子进一步烷基化的工序。式中，Ar表示苯基、或5‑6元的杂环，R1表示C1‑6的烷基，Y表示氢原子、卤原子、羟基、可以被卤原子取代的C1‑6烷基、可以被卤原子取代的C1‑6烷氧基、氰基、甲酰基、硝基。

【技术实现步骤摘要】
本申请是申请日为2012年8月24日、申请号为201280041558.3、专利技术名称为“有害生物防除剂的制造法”的专利申请的分案申请。
本专利技术涉及具有2-酰基亚氨基吡啶结构的新的有害生物防除剂的制造方法。现有技术目前为止已发现多种有害生物防除剂，然而因为药剂灵敏性低下的问题、效果的持续性、使用时的安全性等，目前依然追求新的药剂。尤其是在东亚、东南亚的水稻栽培中，如非专利文献1所示，由对包含以吡虫啉(Imidacloprid)为代表的新烟碱(Neonicotinoids)类、及以氟虫腈(Fipronil)为代表的苯基吡唑系药剂等的主要杀虫剂发展了药剂抵抗性的飞虱类造成的灾害已表面化，期待针对发展了抵抗性的飞虱类的特效药。另外，要求稳定且廉价地提供作为有害生物防除剂所要求的量的这些新的药剂。作为具有2-酰基亚氨基吡啶结构的有害生物防除剂的制造方法，已知专利文献1～3、非专利文献2。专利文献1公开了具有与后述式(I)所表示的化合物同样的环结构的除草剂。专利文献2、以及专利文献3公开了具有与式(I)所表示的化合物类似的环结构的杀虫剂。非专利文献2公开了将与具有式(I)所表示的化合物类似的环结构的化合物作为合成中间体。然而，专利文献1、专利文献2、专利文献3、非专利文献2所记载的制造方法，是将后述的式(Ba)所表示的化合物作为中间体的制造方法，没有记载将后述的式(B)所表示的化合物作为中间体的制造。另外，专利文献1、专利文献2、专利文献3、非专利文献2中公开了将式(Ba)所表示的化合物作为中间体的制造方法，但没有关于后述的式(Ia)所表示的化合物的制造的具体记载。另外，对于N-[1-((6-氯吡啶-3-基)甲基)吡啶-2(1H)-亚基]-2,2,2-三氟乙酰胺，公开了结构式，作为该化合物的物性值记载了折射率为nD(25.5)＝1.4818(专利文献2的第1表化合物号3)，但不包含在已认定有害生物防除活性的化合物组的列表中(专利文献2的第2表、第3表)。进而，专利文献3公开了N-[1-((6-氯吡啶-3-基)甲基)吡啶-2(1H)-亚基]-2,2,2-三氟乙酰胺的结构式，作为该化合物的物性值记载了熔点为60～62℃(专利文献3的表7的实施例号12)，在实施例中并未举出具有害生物防除活性的化合物的例子。专利文献2及专利文献3中并未公开N-[1-((6-氯吡啶-3-基)甲基)吡啶-2(1H)-亚基]-2,2,2-三氟乙酰胺的具体制造方法。另外，非专利文献3中公开了作为2-乙酰胺吡啶的互变异构体的N-(吡啶-2(1H)-亚基]-乙酰胺，但没有记载其具体制造方法、和/或卤代衍生物的制造方法。现有技术文献专利文献专利文献1：欧洲专利申请公开第432600号说明书专利文献2：日本特开平05-78323号公报专利文献3：欧洲专利申请公开第268915号说明书非专利文献非专利文献1：Masaya Matsumura等,Pest Management Science,2008年、64卷、11号、1115～1121页非专利文献2：Botho Kickhofen等,Chemische Berichte,1955年、88卷、1103～1108页非专利文献3：Wladysl,aw Pietrzycki等，Bulletin des Societes Chimiques Belges,1993年、102卷、11-12号、709～717页
技术实现思路
专利技术要解决的课题提供后述式(I)所表示的具有2-酰基亚氨基吡啶结构的有害生物防除剂，特别是提供稳定且廉价地提供作为有害生物防除剂所要求的量的N-[1-((6-氯吡啶-3-基)甲基)吡啶-2(1H)-亚基]-2,2,2-三氟乙酰胺的制造方法。用于解决课题的方法即，根据第一专利技术，本专利技术者们通过以式(A)所表示的化合物作为出发物质，以式(B)所表示的化合物作为中间体，而得到作为目的有用的下述式(I)所表示的化合物，从而完成了本专利技术。提供下述式(I)所表示的化合物的制造方法，[式中，Ar表示可被取代的苯基、或可被取代的5～6元的杂环，R1表示可被取代的C1-6的烷基，Y表示氢原子、卤原子、羟基、可被卤原子取代的C1-6烷基、可被卤原子取代的C1-6烷氧基、氰基、甲酰基、硝基。]该方法如下述反应式所示，包括：式(B)所表示的化合物的制造工序、和烷基化工序，[式中，R1和Y表示与上述相同的含义，R2表示(1)三氟乙酰氧基、(2)可被卤原子取代的C1-6烷氧基、或苯基可被卤原子、甲基、氰基、硝基、甲氧基取代的苄氧基、(3)除了三氟乙酰氧基以外的可被卤原子取代的C1-6烷基羰氧基、苯基可被卤原子、甲基、氰基、硝基、甲氧基取代的苯基羰氧基、(4)羟基、(5)卤原子，R4表示卤原子、可被卤原子取代的C1-6烷基磺酰氧基(C1-6alkylsulfoxy group)、可被卤原子或甲基取代的苯基磺酰氧基(phenylsulfoxy group)。所述式(B)所表示的化合物的制造工序是，将式(A)所表示的化合物的2位氨基，使用R1COR2所表示的酰基化剂进行酰基化，从而制造式(B)所表示的化合物的工序，所述烷基化工序是，将式(B)所表示的化合物的1位氮原子进一步使用Ar-CH2-R4进行烷基化的工序。根据第二专利技术，提供所述式(B)所表示的有用中间体(但是，R1为甲基或苯基且Y为氢原子的化合物除外)、及其盐。根据第三专利技术，提供下述式(Ia)所表示的化合物的制造方法，[式中，R3表示卤原子、氰基、硝基、三氟甲基，X表示碳原子或氮原子，R1a表示被卤素取代的C1-6烷基。]该制造方法如下述反应式所示。[其中，R1a、R4、R3及X表示与上述相同的含义，R2a表示(1)三氟乙酰氧基、(2)可被卤原子取代的C1-6烷氧基、或苯基可被卤原子、甲基、氰基、硝基、甲氧基取代的苄氧基、(3)除了三氟乙酰氧基以外的可被卤原子取代的C1-6烷基羰氧基、苯基可被卤原子、甲基、氰基、硝基、甲氧基取代的苯基羰氧基、(4)羟基、或(5)卤原子。]根据第四专利技术，提供通过下述反应式所制造的式(I’)所表示的化合物。[其中，式(I’)所表示的化合物是具有以下的(a)或(b)、或者(a)及(b)的物性的N-[1-((6-氯吡啶-3-基)甲基)吡啶-2(1H)-亚基]-2,2,2-三氟乙酰胺。(a)在粉末X射线衍射中，至少在下述衍射角(2θ)具有衍射角峰。衍射角：8.6±0.2°、14.2±0.2°、17.5±0.2°、18.3±0.2°、19.7±0.2°、22.3±0.2°、30.9±0.2°、35.3±0.2°(b)在差示扫描量热分析(DSC)中，熔点显示155～158℃。]专利技术的效果通过本专利技术，可以根据需要通过一锅(One-pot)有效且收率良好地制造作为有害生物防除剂有用的2-酰基亚氨基吡啶衍生物。附图说明图1是显示以第一制法调制的N-[1-((6-氯吡啶-3-基)甲基)吡啶-2(1H)-亚基]-2,2,2-三氟乙酰胺的晶体的粉末X射线晶体分析的结果的图。图2是显示以第一制法调制的N-[1-((6-氯吡啶-3-基)甲基)吡啶-2(1H)-亚基]-2,2,2-三氟乙酰胺的晶体的差示扫描量热分析的结果的图。图3是显示以第二制法调制的N-本文档来自技高网...

【技术保护点】
下述式(I)所表示的化合物的制造方法，式中，Ar表示可被取代的苯基、或可被取代的5～6元的杂环，R1表示可被取代的C1‑6的烷基，Y表示氢原子、卤原子、羟基、可被卤原子取代的C1‑6烷基、可被卤原子取代的C1‑6烷氧基、氰基、甲酰基、硝基，该方法如下述反应式所示，包括：酰基化工序和烷基化工序，所述酰基化工序是，将式(A)所表示的化合物的2位氨基，使用R1COR2所表示的酰基化剂，在无溶剂条件下或在不影响反应的溶剂中，在碱存在下，在N,N’‑二环己基碳二亚胺、1‑乙基‑3‑(3‑二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、1,1’‑羰基二咪唑、二吡啶基二硫、二咪唑基二硫、1,3,5‑三氯苯甲酰氯、1,3,5‑三氯苯甲酸酐、六氟磷酸(苯并三唑‑1‑基氧基)三吡咯烷基、六氟磷酸溴三(吡咯烷基)、五氧化二磷、硫酸、多聚磷酸、亚硫酰氯、三氯氧磷或乙二酰氯的存在下或不存在下，进行酰基化，从而制造式(B)所表示的化合物的工序，所述式(A)中，Y表示与上述相同的含义，所述R1COR2中，R1表示与上述相同的含义，R2表示(1)三氟乙酰氧基、(2)可被卤原子取代的C1‑6烷氧基、或苯基可被卤原子、甲基、氰基、硝基、甲氧基取代的苄氧基、(3)除了三氟乙酰氧基以外的可被卤原子取代的C1‑6烷基羰氧基、苯基可被卤原子、甲基、氰基、硝基、甲氧基取代的苯基羰氧基、(4)羟基、(5)卤原子，所述烷基化工序是，将式(B)所表示的化合物的1位氮原子进一步使用Ar‑CH2‑R4，在无溶剂条件下或在不影响反应的溶剂中进行烷基化的工序，所述Ar‑CH2‑R4中，Ar表示与上述相同的含义，R4表示卤原子、可被卤原子取代的C1‑6烷基磺酰氧基、可被卤原子或甲基取代的苯基磺酰氧基。...

【技术特征摘要】
2011.08.26 JP PCT/JP2011/069352;2012.02.29 JP 20121.下述式(I)所表示的化合物的制造方法，式中，Ar表示可被取代的苯基、或可被取代的5～6元的杂环，R1表示可被取代的C1-6的烷基，Y表示氢原子、卤原子、羟基、可被卤原子取代的C1-6烷基、可被卤原子取代的C1-6烷氧基、氰基、甲酰基、硝基，该方法如下述反应式所示，包括：酰基化工序和烷基化工序，所述酰基化工序是，将式(A)所表示的化合物的2位氨基，使用R1COR2所表示的酰基化剂，在无溶剂条件下或在不影响反应的溶剂中，在碱存在下，在N,N’-二环己基碳二亚胺、1-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、1,1’-羰基二咪唑、二吡啶基二硫、二咪唑基二硫、1,3,5-三氯苯甲酰氯、1,3,5-三氯苯甲酸酐、六氟磷酸(苯并三唑-1-基氧基)三吡咯烷基、六氟磷酸溴三(吡咯烷基)、五氧化二磷、硫酸、多聚磷酸、亚硫酰氯、三氯氧磷或乙二酰氯的存在下或不存在下，进行酰基化，从而制造式(B)所表示的化合物的工序，所述式(A)中，Y表示与上述相同的含义，所述R1COR2中，R1表示与上述相同的含义，R2表示(1)三氟乙酰氧基、(2)可被卤原子取代的C1-6烷氧基、或苯基可被卤原子、甲基、氰基、硝基、甲氧基取代的苄氧基、(3)除了三氟乙酰氧基以外的可被卤原子取代的C1-6烷基羰氧基、苯基可被卤原子、甲基、氰基、硝基、甲氧基取代的苯基羰氧基、(4)羟基、(5)卤原子，所述烷基化工序是，将式(B)所表示的化合物的1位氮原子进一步使用Ar-CH2-R4，在无溶剂条件下或在不影响反应的溶剂中进行烷基化的工序，所述Ar-CH2-R4中，Ar表示与上述相同的含义，R4表示卤原子、可被卤原子取代的C1-6烷基磺酰氧基、可被卤原子或甲基取代的苯基磺酰氧基。2.如权利要求1所述的方法，其中，Ar为6-氯-3-吡啶基，Y为氢原子。3.如权利要求1所述的方法，所述酰基化工序中使用的碱是无机碱、有机碱或醇化物。4.如权利要求1所述的方法，所述酰基化工序中使用的碱是碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、氢氧化钠、氢氧化镁、氢氧化钙、氢氧化锂、氢氧化钡、1,8-二氮杂二环[5.4.0]十一碳-7-烯、1,5-二氮杂二环[4.3.0]壬-5-烯、三乙胺、二异丙基乙基胺、吡啶、甲基吡啶、二甲基氨基吡啶、乙醇钠、甲醇钠或叔丁醇钾。5.如权利要求1所述的方法，所述酰基化工序中使用的溶剂是芳香族烃系溶剂、酯系溶剂、醚系溶剂、非质子性极性有机溶剂、卤素系溶剂、烃系溶剂、酮系溶剂、水或它们的混合溶剂。6.如权利要求1所述的方法，所述酰基化工序中使用的溶剂是甲苯、二甲苯、乙苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙醚、异丙醚、四氢呋喃、二烷、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、乙腈、二氯甲烷、氯仿、环己烷、丙酮、甲乙酮、水或它们的混合溶剂。7.如权利要求1所述的方法，所述烷基化工序中使用的溶剂是醚系溶剂、非质子性极性有机溶剂、卤素系溶剂、芳香族烃系溶剂或它们的混合溶剂。8.如权利要求1所述的方法，所述烷基化工序中使用的溶剂是乙醚、异丙醚、四氢呋喃、二烷、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、N,N-二甲基乙酰胺、乙腈、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-甲基-2-哌嗪酮、N,N-二甲基-2-咪唑烷酮、乙腈、二氯甲烷、氯仿、甲苯、二甲苯、乙苯或它们的混合溶剂。9.下述式(Ia)所表示的化合物的制造方法，式中，R3表示卤原子、氰基、硝基、三氟甲基，X表示碳原子或氮原子，R1a表示被卤素取代的C1-6烷基，该方法如下述反应式所示，包括：烷基化工序和酰基化工序，所述烷基化工序是，将式(Aa)所表示的化合物的1位氮原子，使用式(Ca)所表示的化合物，在无溶剂条件下或在不影响反应的溶剂中进行烷基化，从而制造式(Ba)所表示的化合物的工序，所述式(Ca)中，R3、X表示与上述相同的含义，R4表示卤原子、可被卤原子取代的C1-6烷基磺酰氧基、可被卤原子或甲基取代的苯基磺酰氧基，所述酰基化工序是，将式(Ba)所表示的化合物的亚氨基，使用R1aCOR2a所表示...

【专利技术属性】
技术研发人员：中西希，福田芳正，橘田繁辉，大野育也，
申请(专利权)人：明治制果药业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP