一种超导回旋加速器真空设备制造技术
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于设备保护领域，具体涉及一种超导回旋加速器真空设备。
技术介绍
超导回旋加速器中心区磁场强度约2-5T，主磁铁的漏磁场会对周围元器件的工作产生影响，分子泵、低温泵，真空阀门等需要在磁场中运动的部件对磁场强度很敏感，常规的分子泵、低温泵等均要求工作环境磁场强度低于50Gauss，对于超导回旋加速器，真空设备大多位于超导回旋加速器主磁铁盖板附近，真空设备位置处的磁场甚至高达1000Gauss，远远大于常规真空设备的所要求的工作磁场环境。由此，本专利技术提供一种超导回旋加速器强磁场环境真空设备的保护装置，将真空设备保护筒体和真空设备连接的真空室形成磁场回路，保护筒体内的真空设备。
技术实现思路
针对现有技术中存在的缺陷，本专利技术的目的在于提供一种超导回旋加速器真空设备，确保在强磁场环境下长期安全使用，解决了在强磁场环境下真空设备使用工程技术困难的问题。为达到以上目的，本专利技术采用的技术方案是：提供一种超导回旋加速器真空设备，包括泵体及与其相连接的真空阀门，所述真空阀门与超导回旋加速器真空室相连接；在泵体及真空阀门的外围设有磁屏蔽筒体，该磁屏蔽筒体一端封闭，另一端与真空室相连接，进而在磁屏蔽筒体内部与真空室之间形成磁场回路。进一步，所述磁屏蔽筒体为平开式、可拆卸结构。进一步，所述磁屏蔽筒体包括上筒体和下筒体，上筒体的上开口处和下筒体的下开口处设有对应的半圆形凹槽。进一步，所述上筒体和下筒体上分别设有第一连接部件和第二连接部件。进一步，所述泵体与真空阀门通过密封件连接。本专利技术的有益技术效果在于：(1)本专利技术的真空设备，在泵体及真空阀门的外围设置...
【技术保护点】
一种超导回旋加速器真空设备，包括泵体(4)及与其相连接的真空阀门(3)，其特征是：所述真空阀门(3)与超导回旋加速器真空室(1)相连接；在泵体(4)及真空阀门(3)的外围设有磁屏蔽筒体(2)，该磁屏蔽筒体(2)一端封闭，另一端与真空室(1)相连接，在磁屏蔽筒体内部与真空室之间形成磁场回路。
【技术特征摘要】
1.一种超导回旋加速器真空设备，包括泵体(4)及与其相连接的真空阀门(3)，其特征是：所述真空阀门(3)与超导回旋加速器真空室(1)相连接；在泵体(4)及真空阀门(3)的外围设有磁屏蔽筒体(2)，该磁屏蔽筒体(2)一端封闭，另一端与真空室(1)相连接，在磁屏蔽筒体内部与真空室之间形成磁场回路。2.如权利要求1所述的一种超导回旋加速器真空设备，其特征是：所述磁屏蔽筒体(2)为平开式、可拆卸结构。3.如权利要求2所述的一...
【专利技术属性】
技术研发人员：张素平，邢建升，潘高峰，王川，张东昇，
申请(专利权)人：中国原子能科学研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。