本实用新型专利技术涉及一种低本底屏蔽装置，包括屏蔽体及支撑屏蔽体的支撑骨架(7)，所述屏蔽体为多层复合结构，其包括两端固定层(1)、设置在两端固定层之间的屏蔽层(3)，屏蔽层(3)与两端固定层(1)之间通过胶粘接，屏蔽体的四周设有扣板(8)，该扣板(8)固接在固定层(1)固接。采用本实用新型专利技术的屏蔽装置，能够保证装置的屏蔽形能及稳定性能；安装方便；以满足辐射防护领域的使用要求。
【技术实现步骤摘要】
本技术属于辐射防护领域，具体涉及一种低本底屏蔽装置。
技术介绍
低本底屏蔽装置作为建设低本底实验室的最后一道屏障，起着至关重要的作用，而低本底屏蔽装置的结构件作为屏蔽装置的核心，决定着屏蔽性能、结构稳定性、安装以及外观。现有的屏蔽室，存在以下几个技术问题：在屏蔽性能方面：低本底屏蔽装置对结构件的屏蔽性能要求较高，特别是屏蔽层中各种屏蔽材料的放置顺序与厚度，有着严格的要求；因现有的屏蔽室在安装时未考虑上述因素，所以在使用时不能很好的满足要求。在结构稳定性方面：由于低本底屏蔽装置防护要求高，所需采用的屏蔽铅板厚，屏蔽装置六面的重量都比较重，此外放置于屏蔽装置内部的仪器多数也超过1吨，此外鉴于铅较为软，在实际使用过程中会因自重下沉，需要进行固定；因现有的屏蔽体两端及四周均未采用固定结构，所以会导致铅层下沉，进而结构性能不稳定。在安装方面：屏蔽装置屏蔽体安装也是决定屏蔽系统屏蔽性能的一个关键环节，目前类似装置由于没有采取标准化、模块化结构设计技术，安装接口纵横交错，不仅影响了屏蔽效果，还影响了屏蔽装置的外观。
技术实现思路
针对现有技术中存在的缺陷，本技术提供一种低本底屏蔽装置，屏蔽性能好、稳定性强、安装方便。为达到以上目的，本技术采用的技术方案是：提供一种低本底屏蔽装置，包括屏蔽体及支撑屏蔽体的支撑骨架，所述屏蔽体为多层复合结构，其包括两端固定层、设置在两端固定层之间的屏蔽层，所述屏蔽层与两端固定层之间通过胶层粘接，屏蔽体的四周覆有扣板，该扣板与屏蔽体固接。进一步，所述屏蔽体与支撑骨架之间通过螺栓连接，在螺栓的头部外围设有对螺栓孔起补充防护作用的铅帽，该铅帽与支撑骨架固接。进一步，所述屏蔽体上设有上缺口或下缺口，相邻的屏蔽体之间采用错位搭接，构成所需要的屏蔽空间。进一步，所述支撑骨架为槽钢结构，其开口部覆盖碳钢板，使之形成空腔，该空腔可作为补充防护层。本技术的有益技术效果在于：(1)本技术通过在屏蔽层的上下两端设有固定层，四周固定扣板，由此，保证了屏蔽层结构的稳定性，有效解决了屏蔽层在使用过程中下沉问题；(2)本技术通过在连接螺栓的头部设有铅帽，可对螺栓孔起补充防护作用，避免射线漏出。(3)在屏蔽体上设有上缺口或下缺口，相邻两个屏蔽体采用错位搭接的方式，满足辐射防护最优化的要求，避免接口处出现射线漏出；(4)支撑骨架采用槽钢结构，在槽钢开口部覆盖碳钢板，使之形成空腔，可作为补充防护层。附图说明图1是本技术低本底屏蔽装置的结构示意图；图2是屏蔽体的对接图；图3是支撑骨架与屏蔽层的固定图。图中：1-碳钢压板2-胶层3-铅板4-铜板5-螺栓6-铅帽7-支撑骨架8-扣板9-屏蔽体10-上缺口11-下缺口具体实施方式下面结合附图，对本技术的具体实施方式作进一步详细的描述。如图1所示，是本技术提供的低本底屏蔽装置，包括屏蔽体9及支撑屏蔽体的支撑骨架7，屏蔽体9为多层复合结构，包括上下两端固定层及设置在上下两端固定层之间的屏蔽层。其中上下两端固定层采用碳钢压板1，屏蔽层采用上下设置的铅板3和铜板4，上述材料以及厚度根据实际需要确定。上碳钢压板1与铅板3之间、铅板3与铜板4之间、铜板4与下碳钢压板1之间均设有胶层2，胶层2将相邻的两层粘接在一起。屏蔽体9四周设有碳钢扣板8，该碳钢扣板8与屏蔽层之间通过胶粘接，碳钢扣板8与上下碳钢压板1之间通过焊接固定。屏蔽体9与支撑骨架7通过螺栓5连接，在螺栓5的头部外围设有铅帽6，该铅帽6固定在支撑骨架7，用于对螺栓贯穿孔起补充防护。如图2所示，屏蔽体9设有标准化上缺口10或标准化下缺口11，相邻屏蔽体采用错位搭接，构成所需要屏蔽空间，该错位搭接的方式符合辐射防护最优化的要求。如图3所示，支撑骨架7为槽钢结构，在槽钢结构开口部覆碳钢板，槽钢结构与碳钢板之间形成一个空腔，作为补充防护层。下面对屏蔽体的连接方法及装配方式进行具体介绍：1.屏蔽层固定形式屏蔽层设置为钢铅铜铁等多层复合的形式，鉴于铅较为软，在实际使用过程中会因自重下沉，本结构件第一步在将铅板、铜板等主屏蔽层与上下两块碳钢压板用特种胶粘接在一起，然后在四周粘接碳钢扣板，并将扣板与压板焊接在一起；第二步在屏蔽层上打贯穿孔，用螺栓将屏蔽层与支撑骨架进行固定，每个螺栓上都盖有铅帽，用于贯穿孔的补充防护，同时应用多种铅板固定手段，有效解决铅板使用过程中的下沉问题。2.模块化结构：将屏蔽体制作成宽幅为300mm、500mm、1000mm的标准化的模块，可以根据现场需要拼装成不同规格的空间，模块之间采用错位搭接的方式，满足辐射防护最优化的要求，避免接口处出现射线漏入。此外通过严格控制生产尺寸公差，将结构件制作成标准模块，保证了相同规格结构件的互换性。3.补充防护空腔在支撑骨架上覆碳钢板，使得支撑骨架与碳钢板之间形成空腔，该空腔作为预留补充防护层，可根据现场实际需要在空腔内填充不同种类的屏蔽材料，用以增加屏蔽层种类和厚度。当设计和实际发生偏差时能够根据实际情况在空腔内增加钢、铅、铜、铁等屏蔽材料以满足总体设计屏蔽要求。综上所述，本技术低本底屏蔽装置采用特定的加工手段进行加工，外观齐整、结构可靠、具备良好互换性，有效地解决了铅材料在使用过程中的下沉变形问题，为低本底屏蔽装置的建设提供了可靠的实施技术。本技术的低本底屏蔽装置并不限于上述具体实施方式，本领域技术人员根据本技术的技术方案得出其他的实施方式，同样属于本实用新型的技术创新范围。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种低本底屏蔽装置，其特征是：包括屏蔽体(9)及支撑屏蔽体的支撑骨架(7)，所述屏蔽体(9)为多层复合结构，其包括两端固定层(1)、设置在两端固定层之间的屏蔽层(3)，所述屏蔽层(3)与两端固定层(1)之间通过胶层(2)粘接，屏蔽体(9)的四周覆有扣板(8)，该扣板(8)与屏蔽体(9)固接。
【技术特征摘要】
1.一种低本底屏蔽装置，其特征是：包括屏蔽体(9)及支撑屏蔽体的
支撑骨架(7)，所述屏蔽体(9)为多层复合结构，其包括两端固定层(1)、
设置在两端固定层之间的屏蔽层(3)，所述屏蔽层(3)与两端固定层(1)
之间通过胶层(2)粘接，屏蔽体(9)的四周覆有扣板(8)，该扣板(8)
与屏蔽体(9)固接。
2.如权利要求1所述的一种低本底屏蔽装置，其特征是：所述屏蔽体
(9)与支撑骨架(7)之间通过螺栓(5)连接，在螺...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗晓渭，李小明，郭俊，郭朝选，张铻，
申请(专利权)人：中国辐射防护研究院，
类型：新型
国别省市：山西;14
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