【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体处理领域，特别是涉及一种大型晶圆UV擦除设备。
技术介绍
现有的专用于集成电路的UV擦除设备动辄二、三十万元一套，价格高昂，且需要定期更换灯管，市场上的进口灯管价格较高，一整套全部更换需数万元的费用，使用成本过高。
技术实现思路
本技术的主要目的为提供一种大型晶圆UV擦除设备，降低使用成本，散热性能好，同时保证UV能量的充足和可靠性。本技术提出了一种大型晶圆UV擦除设备，包括有盖板、壳体、灯管层和托盘，所述托盘和灯管层从下到上依次设置在所述壳体内，所述盖板设置在所述壳体顶端，所述灯管层下方设置有灯管，所述灯管层下表面和所述灯管之间还设置有反射层。进一步地，所述反射层为铝箔纸。进一步地，所述壳体底部固接有多个支撑用的脚杯。进一步地，所述壳体左右两侧面上开有通孔，所述一侧通孔为进气口，另一侧通孔为出气口。进一步地，所述壳体通孔位置外表面安装有横流风扇。进一步地，所述盖板上开有排气孔。本技术的有益效果是：减低对UV灯管的要求，可以使用普通UV灯管来替代高质量的UV灯管，降低企业生产成本，提高企业竞争力；增强了设备的散热能力，提高设备使用寿命。附图说明图1是本技术一实施例的结构爆炸图；图2是本技术一实施例的结构示意图；图3是本技术一实施例的灯管层下表面结构示意图。本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。参照图1和图2，提出本技术一实施例，一种大型晶圆UV擦除设备，包括有，盖板1、壳体5、灯管层2和托盘3，托盘3上放置有用于擦除的晶圆7，灯管层2...
【技术保护点】
一种大型晶圆UV擦除设备，其特征在于，包括有盖板、壳体、灯管层和托盘，所述托盘和灯管层从下到上依次设置在所述壳体内，所述盖板设置在所述壳体顶端，所述灯管层下方设置有灯管，所述灯管层下表面和所述灯管之间还设置有反射层。
【技术特征摘要】
1.一种大型晶圆UV擦除设备，其特征在于，包括有盖板、壳体、灯管层和托盘，所述托盘和灯管层从下到上依次设置在所述壳体内，所述盖板设置在所述壳体顶端，所述灯管层下方设置有灯管，所述灯管层下表面和所述灯管之间还设置有反射层。2.如权利要求1所述的大型晶圆UV擦除设备，其特征在于，所述反射层为铝箔纸。3.如权利要求1所述的大型晶圆UV擦除设备，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：林延海，
申请(专利权)人：深圳市立能威微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。