一种用于微型元件加工的抛光设备制造技术

一种用于微型元件加工的抛光设备，包括基座、设置于所述基座上端的支撑架、设置于所述支撑架上端的电机、设置于所述电机一侧的抛光装置以及设置于所述电机上方的打砂装置，所述基座上部设有一“十”字形凹槽，所述支撑架下方设有与上述“十”字形凹槽相匹配的滑块。本实用新型专利技术设置的抛光装置与打砂装置可以同时满足抛光与打砂的要求，减少了更换加工设备的繁琐，提高了加工效率。此外，上述“十”字形凹槽和与之相匹配的滑块可实现上述抛光设备的自由移动，方便加工工件。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及机械加工
，特别涉及一种用于微型元件加工的抛光设备。
技术介绍
常用的抛光设备包括抛光装置，也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。在实际使用过程中，由于所生产出来的产品通常会出现披峰、毛边等不良现象，需要加工人员利用砂纸对其进行人工打砂处理，以改善产品的表面外观，减少不良品数量。但是由于人工打砂工作强度极大，且长时间操作容易使加工人员出现水肿、起泡等不良反应，且加工效率低，极大地影响了加工生产。此外，常用的抛光设备中的电机一般都是直接固定在工作台上，不好移动调节固定位置，不利于工件的加工。
技术实现思路
基于此，本技术要解决的技术问题和提出的技术任务是对现有技术方案进行完善和改进，提供一种用于微型元件加工的抛光设备，所述抛光设备包括基座、设置于所述基座上端的支撑架、设置于所述支撑架上端的电机、设置于所述电机一侧的抛光装置以及设置于所述电机上方的打砂装置，所述基座上部设有一“十”字形凹槽，所述支撑架下方设有与上述“十”字形凹槽相匹配的滑块。进一步的，所述支撑架的一侧设有可调节高度的旋钮，所述旋钮包括粗调节旋钮与细调节旋钮，所述粗调节旋钮与细调节旋钮相互配合使用，以便对所述支撑架的高度进行准确调节，便于工件的加工。进一步的，所述电机包括第一电机转轴与第二电机转轴。该设置可以实现同时与所述抛光装置和所述打砂装置进行传动作用。进一步的，所述抛光装置包括第一电机转轴、固定螺钉以及抛光盘。所述打砂装置包括第二电机转轴、传动轮、传动皮带、打砂转轴以及砂纸。进一步的，所述“十”字形凹槽贯穿所述基座的上部。该设置可以实现上述抛光设备的自由移动，方便工件的加工。进一步的，所述滑块为圆形滑块，所述圆形滑块上下两端的半径要大于中部的半径，该设置可以实现上述支撑架与所述基座之间的紧密嵌合而不至于滑脱，保证了所述抛光设备在加工工件时的稳定性。本技术设置的抛光装置与打砂装置可以同时满足抛光与打砂的要求，减少了更换加工设备的繁琐，提高了加工效率。此外，上述“十”字形凹槽和与之相匹配的滑块可实现上述抛光设备的自由移动，方便加工工件。附图说明图1为本技术提出的一种用于微型元件加工的抛光设备的结构图。图2为图1所示的一种用于微型元件加工的抛光设备中基座的俯视图。图3为图1所示的一种用于微型元件加工的抛光设备中滑块的结构图。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的首选实施例。但是本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本技术的公开内容更加透彻全面。请参阅图1，图1为本技术提出的一种用于微型元件加工的抛光设备的结构图，所述抛光设备包括基座11、设置于所述基座11上端的支撑架12、设置于所述支撑架12上端的电机13、设置于所述电机13一侧的抛光装置14以及设置于所述电机13上方的打砂装置15，所述基座11上部设有一“十”字形凹槽113，所述支撑架12下方设有与上述“十”字形凹槽113相匹配的滑块121。进一步的，所述支撑架12的下方还设有一滑块121，所述支撑架12的一侧设有可调节高度的旋钮，所述旋钮包括粗调节旋钮123与细调节旋钮122，所述
粗调节旋钮123与细调节旋钮122相互配合使用，以便对所述支撑架12的高度进行准确调节，便于工件的加工。在进行高度调节时，先转动粗调节旋钮123将该抛光设备进行初步定位，随后转动细调节旋钮122进行精确定位。当达到合适的位置时再对工件进行打砂或者抛光处理。进一步的，所述电机13包括第一电机转轴141与第二电机转轴155。该设置可以实现电机与所述抛光装置14和所述打砂装置15同时进行传动作用。进一步的，所述抛光装置14包括第一电机转轴141、固定螺钉142以及抛光盘143。所述打砂装置15包括第二电机转轴155、传动轮154、传动皮带153、打砂转轴152以及砂纸151。所述打砂装置15可以对初加工过的产品进行打砂处理，除掉表面的披峰与毛边，经过打砂处理之后的工件再利用抛光装置14对其进行抛光处理，从而最终达到合格工件的标准。请参阅图2，图2为图1所示的一种用于微型元件加工的抛光设备中基座的俯视图，所述基座包括基台111、基座主体112以及“十”字形凹槽113，所述“十”字形凹槽113贯穿所述基座11的上部。该设置可以实现上述抛光设备的自由移动，方便工件的加工。请参阅图3，图3为图1所示的一种用于微型元件加工的抛光设备中滑块121的结构图，所述滑块121为圆形滑块，所述圆形滑块121上下两端的半径R1要大于中部的半径R2，该设置可以实现上述支撑架12与所述基座之间的紧密嵌合而不至于滑脱，保证了所述抛光设备在加工工件时的稳定性。以上所述实施例仅表达了本技术的其中一种优选实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本技术专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。因此，本技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于微型元件加工的抛光设备，其特征在于，所述抛光设备包括基座、设置于所述基座上端的支撑架、设置于所述支撑架上端的电机、设置于所述电机一侧的抛光装置以及设置于所述电机上方的打砂装置，所述基座上部设有一“十”字形凹槽，所述支撑架下方设有与上述“十”字形凹槽相匹配的滑块。

【技术特征摘要】
1.一种用于微型元件加工的抛光设备，其特征在于，所述抛光设备包括基座、设置于所述基座上端的支撑架、设置于所述支撑架上端的电机、设置于所述电机一侧的抛光装置以及设置于所述电机上方的打砂装置，所述基座上部设有一“十”字形凹槽，所述支撑架下方设有与上述“十”字形凹槽相匹配的滑块。2.根据权利要求1所述的用于微型元件加工的抛光设备，其特征在于，所述支撑架的一侧设有可调节高度的旋钮，所述旋钮包括粗调节旋钮与细调节旋钮。3.根据权利要求1所述的用于微型元件加工的抛光设备，其特征在于，所述电机包括第一电机转轴...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶善有，
申请(专利权)人：鹰潭市佳鑫精密元件有限公司，
类型：新型
国别省市：江西;36