成型模具及低密合性材料制造技术

技术编号:13833318 阅读:58 留言:0更新日期:2016-10-14 15:23
本发明专利技术的成型模具是成型成型品时所使用的成型模具,其包括:金属制的基材(10);陶瓷层(20),该陶瓷层设置在基材(10)之上,包含氧化钇、氮及4A族元素的阳离子,用于与成型品接触。上述成型模具还可以包括介于基材(10)和陶瓷层(20)之间的中间层(30)。中间层(30)具有硬度高于基材(10)的硬度并且韧性大于陶瓷层(20)的韧性的部分。上述成型模具在模具表面被清洁后接着用于成型成型品。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种成型成型品时所使用的成型模具及低密合性材料
技术介绍
专利文献1(日本特开2011-79261号公报)公开了在由陶瓷形成的基材(5)的表面(8)形成有脱模层(4)的成型模具。
技术实现思路
专利技术要解决的问题专利文献1中记载的脱模层(4)的脱模性、低密合性及防污性优异。另外,专利文献1中使用了由陶瓷形成的基材,这样的话,会存在难以对基材进行机械加工、难以对基材进行处理(容易产生裂纹、缺口)等问题。在本申请文件中,“防污性”是指,防止污物附着的性质和附着的污物容易脱落(被去除)的性质这两个性质。针对某物质表现出低密合性的材料被认为具有针对该物质的防污性。基于此,在本申请文件中适当地使用“防污性”和“低密合性”这两个词汇。本专利技术是鉴于上述的问题而提出的。本专利技术的第一目的在于,提供一种脱模性及低密合性优异且不易产生裂纹、缺口的成型模具。本专利技术第二目的在于,提供一种低密合性优异且不易产生裂纹、缺口的低密合性材料。用于解决问题的方案本专利技术的成型模具为成型成型品时所使用的成型模具,其特征在于,包括:金属制的基材;以及陶瓷层,该陶瓷层设置在基材之上,包含氧化钇、氮及4A族元素的阳离子,用于与成型品接触,该成型模具在模具表面被清洁
后接着用于成型成型品。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,还包括介于基材和陶瓷层之间的粘合层。本专利技术的成型模具是成型成型品时所使用的成型模具,其特征在于,包括:金属制的基材;陶瓷层,该陶瓷层包含氧化钇、氮及4A族元素的阳离子,用于与成型品接触;以及中间层,该中间层介于基材和陶瓷层之间,该成型模具在模具表面被清洁后接着用于成型成型品。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,还包括介于基材和中间层之间的粘合层。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,还包括介于中间层和陶瓷层之间的粘合层。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,中间层以单层形成。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,中间层以多层形成。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,中间层以多层形成,使粘合层介于多个中间层中的至少两个中间层之间。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,粘合层以单层形成。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,粘合层以多层形成。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,中间层具有硬度高于基材的硬度并且韧性大于陶瓷层的韧性的部分。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,中间层至少在靠陶瓷层侧的表面部分的硬度高于基材的硬度。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,中间层包括缓冲层,该缓冲层构的硬度随着从基材侧朝向陶瓷层侧去而变高。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,中间层包括通过变更中间层的组成而使硬度连续变化的缓冲层。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,中间层包括由M-A系(M为钛、铬、镍、锆、铝或硅,A为氮、碳或氧)的氮化物、碳化物、氧化物形成的部分。在上述的成型模具中,本专利技术的成型模具的特征在于,粘合层包括由钛、铬、镍、锆、钇、铝、硅的单体或它们的混合物形成的部分,或者,包括由单体的氧化物或含有多个单体的氧化物形成的部分。本专利技术的低密合性材料是针对成型成型品时所使用的树脂具有低密合性的低密合性材料,其特征在于,包括:金属制的基材;以及陶瓷层,该陶瓷层设置在基材之上,包含氧化钇、氮及4A族元素的阳离子,用于与树脂接触。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,还包括介于基材和中间层之间的粘合层。本专利技术的低密合性材料是针对成型成型品时所使用的树脂具有低密合性的低密合性材料,其特征在于,包括:金属制的基材;陶瓷层,该陶瓷层包含氧化钇、氮及4A族元素的阳离子,用于与树脂接触;以及中间层,该中间层介于基材和陶瓷层之间。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,还包括介于基材和中间层之间的粘合层。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,还包括介于中间层和陶瓷层之间的粘合层。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,中间层
以单层形成。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,中间层以多层形成。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,中间层以多层形成,使粘合层介于多个中间层中的至少两个中间层之间。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,粘合层以单层形成。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,粘合层以多层形成。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,中间层具有硬度高于基材的硬度并且韧性大于陶瓷层的韧性的部分。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,中间层至少在靠陶瓷层侧的表面部分的硬度高于基材的硬度。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,中间层包括缓冲层,该缓冲层的硬度随着从基材侧朝向陶瓷层侧去而变高。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,中间层包括通过变更中间层的组成而使硬度连续变化的缓冲层。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,中间层包括由M-A系(M为钛、铬、镍、锆、铝或硅,A为氮、碳或氧)的氮化物、碳化物、氧化物形成的部分。在上述的低密合性材料中,本专利技术的低密合性材料的特征在于,粘合层包括由钛、铬、镍、锆、钇、铝、硅的单体或它们的混合物形成的部分,或者,包括由单体的氧化物或含有多个单体的氧化物形成的部分。此外,本申请说明书中提及的“硬度”的意思是指:使用株式会社岛津制作所制的“超显微动态硬度计”(型号:DUH-211S),在“压头:三角锥
压头(Berkovich type,棱间角度为115°),从表面压入深度:0.1μm,负荷速度:设定值80(0.8758mN/sec),负荷保持时间:15sec”这样的测量条件下所测得的硬度。专利技术的效果根据本专利技术,能够提供脱模性及低密合性优异且不易产生裂纹、缺口的成型模具和低密合性优异且不易产生裂纹、缺口的低密合性材料。从能基于附图被理解的以下对本专利技术的详细说明,明确本专利技术的上述目的以及其他目的、特征、方案、优点。附图说明图1是表示本专利技术的一实施方式的成型模具的剖面的图。图2是表示本专利技术的其他实施方式的成型模具的剖面的图。图3是更详细地表示中间层的构造的一例的剖面图。图4是更详细地表示中间层的构造的其他例的剖面图。图5是更详细地表示中间层的构造的其他例的剖面图。图6是表示对本专利技术一实施例的成型模具和比较例的成型模具评价脱模性后所得到的实验结果的图。图7是表示使用本专利技术的一实施例的成型模具进行规定次数的成型动作后的该成型模具的底面的照片。图8是表示使用比较例的成型模具进行规定次数的成型动作后的该成型模具的底面的照片。图9A是本专利技术的一实施例的成型模具和比较例的成型模具在成型前的底面的照片,图9B是表示使用本专利技术的一实施例的成型模具进行规定次数的成型动作后的该成型模具的底面的照片以及使用比较例的成型模具进行规定次数的成型动作后的该成型模具的底面的照片。图10A是表示利用本专利技术的一实施例的成型模具和比较例的成本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种成型模具,其是成型成型品时所使用的成型模具,其特征在于,该成型模具包括:金属制的基材;以及陶瓷层,该陶瓷层设置在所述基材之上,包含氧化钇、氮及4A族元素的阳离子,用于与所述成型品接触,该成型模具在模具表面被清洁后接着用于成型所述成型品。

【技术特征摘要】
2015.03.30 JP 2015-0694681.一种成型模具,其是成型成型品时所使用的成型模具,其特征在于,该成型模具包括:金属制的基材;以及陶瓷层,该陶瓷层设置在所述基材之上,包含氧化钇、氮及4A族元素的阳离子,用于与所述成型品接触,该成型模具在模具表面被清洁后接着用于成型所述成型品。2.根据权利要求1所述的成型模具,其中,该成型模具还包括介于所述基材和所述陶瓷层之间的粘合层。3.一种成型模具,其是成型成型品时所使用的成型模具,其特征在于,该成型模具包括:金属制的基材;陶瓷层,该陶瓷层包含氧化钇、氮及4A族元素的阳离子,用于与所述成型品接触;以及中间层,该中间层介于所述基材和所述陶瓷层之间,该成型模具在模具表面被清洁后接着用于成型所述成型品。4.根据权利要求3所述的成型模具,其中,该成型模具还包括介于所述基材和所述中间层之间的粘合层。5.根据权利要求3所述的成型模具,其中,该成型模具还包括介于所述中间层和所述陶瓷层之间的粘合层。6.根据权利要求3所述的成型模具,其中,所述中间层以单层形成。7.根据权利要求3所述的成型模具,其中,所述中间层以多层形成。8.根据权利要求3所述的成型模具,其中,所述中间层以多层形成,使粘合层介于多个所述中间层中的至少两个中
\t间层之间。9.根据权利要求2、4、5、8中任一项所述的成型模具,其中,所述粘合层以单层形成。10.根据权利要求2、4、5、8中任一项所述的成型模具,其中,所述粘合层以多层形成。11.根据权利要求3所述的成型模具,其中,所述中间层具有硬度高于所述基材的硬度并且韧性大于所述陶瓷层的韧性的部分。12.根据权利要求3所述的成型模具,其中,所述中间层至少在靠陶瓷层侧的表面部分的硬度高于所述基材的硬度。13.根据权利要求3所述的成型模具,其中,所述中间层包括缓冲层,该缓冲层的硬度随着从所述基材侧朝向所述陶瓷层侧去而变高。14.根据权利要求3所述的成型模具,其中,所述中间层包括通过变更所述中间层的组成而使硬度连续变化的缓冲层。15.根据权利要求3所述的成型模具,其中,所述中间层包括由M-A系的氮化物、碳化物、氧化物形成的部分,所述M为钛、铬、镍、锆、铝或硅,所述A为氮、碳或氧。16.根据权利要求2、4、5、8中任一项所述的成型模具,其中,所述粘合层包括由钛、铬、镍、锆、钇、铝、硅的单体或它们的混合物形成的部分,或者,包括由所述单体的氧化物或含有多个所述单体的氧化...

【专利技术属性】
技术研发人员:藤原邦彦东大助岸本智子
申请(专利权)人:东和株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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