一种高强度TiC掺杂W‑Ti‑Si‑B复合材料及制备方法技术

技术编号:13741986 阅读:116 留言:0更新日期:2016-09-23 00:43
本发明专利技术公开了一种高强度TiC掺杂W‑Ti‑Si‑B复合材料及制备方法,其中高强度TiC掺杂W‑Ti‑Si‑B复合材料的掺杂第二相为TiH2、TiC、Si以及B;各原料按质量百分比构成为:TiH2 10‑15wt%,TiC 1.5wt%,Si 0.5‑1wt%,B 0.5‑1wt%,余量为W。本发明专利技术通过60~80小时的球磨,使得W和Ti极大程度的固溶,显著增强晶界结合力,Si和B能够与W形成弥散的中间相,且第二相分布更加均匀,钨晶粒被极大细化到亚微米级别,从而使硬度和抗拉强度得到显著提高,其硬度值达到Hv1130‑1160。

【技术实现步骤摘要】
一、
本专利技术涉及一种复合材料及其制备方法,具体地说是一种高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料及其制备方法。二、
技术介绍
受控热核聚变是目前解决能源问题的重要途径之一,托卡马克装置的专利技术使其科学性得到证实。托卡马克装置中面向等离子体的第一壁材料(PFM)要求良好的导热性,抗热冲击性和高熔点,低溅射产额,低的氢再循环作用,低放射性等。高Z钨材料被认为是第一壁材料的最佳选择,但其存在的低温脆性,重结晶和高温强度等一系列问题影响其在聚变装置中的应用。从材料制备的方面,解决这些问题的途径包括添加弥散的第二相(氧化物或碳化物)以及合金化,以此来增加钨基材料的强韧性。目前,常见添加的第二相为TiC,La2O3,Y2O3,合金化元素为Ti,V,Ta等。首先,Ti的添加可以极大程度的降低W基材料的烧结温度,提高其致密度,同时,Ti能够有效的防止烧结过程中钨晶粒长大。此外,通过机械合金化的制备方法可以促进钨钛形成固溶体,从而提高其界面强度。再则,弥散分布的第二相可以显著增加复合材料的强度,其协同添加能够极大的改善钨基材料的力学性能。三、
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料及其制备方法,通过TiC掺杂W-Ti-Si-B粉体使复合材料的强度得到提高。本专利技术高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料,各原料按质量百分比构成为:TiH2 10-15wt%,TiC 1.5wt%,Si 0.5-1wt%,B 0.5-1wt%,余量为W。本专利技术高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料的制备方法,包括如下步骤:1、球磨:将W粉、TiH2粉、Si粉、B粉以及TiC粉置于真空球磨罐中,在氩气气氛中球磨60~80小时,得到TiC掺杂W-Ti-Si-B复合粉体;球磨机的转速为400转/分,球磨罐和磨球的材质为WC,球料比为20:1。2、烧结:将所述TiC掺杂W-Ti-Si-B复合粉体装入石墨模具,再将磨具放入放电等离子烧结炉中,室温下对烧结炉抽真空至真空度为5-10Pa,高温烧结得到TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料。高温烧结的参数设置如下:升温速率设置为100℃/min,升温至600℃时充入氩气作为保护气,在600℃保温15min
后升温至1300℃保温5min,随后再升温至1600℃保温3min,保温结束后以100℃/min的速率降温到室温,即得到TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料。烧结过程中控制压力≤48MPa。原始粉末粒度为:W粉粒度为1-2微米,TiH2粒度为30-50微米,Si粉粒度为1-2微米,B粉粒度为10-20微米,TiC粒度为20微米。本专利技术的有益效果体现在:通过60~80小时的球磨,使得W和Ti极大程度的固溶,显著增强晶界结合力,Si和B能够与W形成弥散的中间相,且第二相分布更加均匀,钨晶粒被极大细化到亚微米级别,从而使硬度和抗拉强度得到显著提高,其硬度值达到Hv1130-1160。下面结合附图和实施例对本专利技术做进一步的说明,本专利技术的目的和效果将变得更加明显。四、附图说明图1是TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料的TEM图片其衍射斑点。图1a是TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料的TEM图片,图1b是图1a的面扫图,可见其存在一个明显的过渡区,图1c是过渡区的衍射斑点,标定结果为钨钛固溶体,说明通过长时间的球磨增加了钨钛的固溶程度,增强了第二相与基体的结合力,从而极大的提高了材料的强度。图2是本专利技术制备的W-Ti-Si-B复合材料的SEM照片,表明第二相分布均匀,有利于提高强度。五、具体实施方式实施例1:本实施例中高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料,其原料按质量百分比构成如下:TiH210wt%,TiC 1.5wt%,Si 0.5wt%,B 0.5wt%,余量为W。W粉粒度为1-2微米,TiH2粒度为30-50微米,Si粉粒度为1-2微米,B粉粒度为10-20微米,TiC粒度为20微米。本实施例中高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料的制备方法如下:1、球磨:用电子天平称取26.25g钨粉、3g TiH2、0.15g Si粉、0.15g B粉和0.45g TiC粉放入真空球磨罐中,球磨60小时得到TiC掺杂W-Ti-Si-B复合粉体;球磨过程中真空球磨罐里充氩气作为保护气。设定球磨机的转速为400转/分,球磨罐和磨球的材质为WC,球料比为20:1。2、烧结:将TiC掺杂W-Ti-Si-B复合粉体装入石墨模具,再将磨具放入放电等离子烧结炉中,室温下对烧结炉抽真空至真空度为5Pa,在600℃充入氩气作为保护气,升温速率为100℃/min,烧结过程中在600℃,1300℃,1600℃分别保温15min,5min,3min,烧结中最
大压力为47.3MPa,保温后以100℃/min的速率降温到室温,即得到TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料。烧结后的复合材料第二相分布均匀,硬度和抗拉强度得到显著提高,其硬度值达到Hv1130。实施例2:本实施例中高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料,其原料按质量百分比构成如下:TiH212wt%,TiC 1.5wt%,Si 0.7wt%,B 0.7wt%,余量为W。W粉粒度为1-2微米,TiH2粒度为30-50微米,Si粉粒度为1-2微米,B粉粒度为10-20微米,TiC粒度为20微米。本实施例中高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料的制备方法如下:1、球磨:用电子天平称取25.53g钨粉、3.6g TiH2、0.21g Si粉、0.21g B粉和0.45g TiC粉放入真空球磨罐中,球磨80小时得到TiC掺杂W-Ti-Si-B复合粉体;球磨过程中真空球磨罐里充氩气作为保护气。设定球磨机的转速为400转/分,球磨罐和磨球的材质为WC,球料比为20:1。2、烧结:将TiC掺杂W-Ti-Si-B复合粉体装入石墨模具,再将磨具放入放电等离子烧结炉中,室温下对烧结炉抽真空至真空度为8Pa,在600℃左右充入氩气作为保护气,升温速率为100℃/min,烧结过程中在600℃,1300℃,1600℃分别保温15min,5min,3min,烧结中最大压力为47.3MPa,保温后以100℃/min的速率降温到室温,即得到TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料。烧结后的复合材料钨钛形成固溶体,第二相分布均匀,硬度和抗拉强度得到显著提高,其硬度值达到Hv1150。实施例3:本实施例中高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料,其原料按质量百分比构成如下:TiH215wt%,TiC 1.5wt%,Si 1wt%,B 1wt%,余量为W。W粉粒度为1-2微米,TiH2粒度为30-50微米,Si粉粒度为1-2微米,B粉粒度为10-20微米,TiC粒度为20微米。本实施例中高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料的制备方法如下:1、球磨:用电子天平称取24.45g钨粉、4.5g TiH2、0.3g Si粉、0.3g B粉和0.45g TiC粉放入真空球磨罐中,球磨80小时得到TiC掺杂W-Ti-Si-B复合粉体;球磨过程中真空球磨罐里充氩气作为保护气。设定球磨机的转速为400转/分,球磨罐和磨球的材质为本文档来自技高网
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一种<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/24/CN105950933.html" title="一种高强度TiC掺杂W‑Ti‑Si‑B复合材料及制备方法原文来自X技术">高强度TiC掺杂W‑Ti‑Si‑B复合材料及制备方法</a>

【技术保护点】
一种高强度TiC掺杂W‑Ti‑Si‑B复合材料,其特征在于:掺杂第二相为TiH2、TiC、Si以及B;各原料按质量百分比构成为:TiH2 10‑15wt%,TiC 1.5wt%,Si 0.5‑1wt%,B 0.5‑1wt%,余量为W。

【技术特征摘要】
1.一种高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料,其特征在于:掺杂第二相为TiH2、TiC、Si以及B;各原料按质量百分比构成为:TiH2 10-15wt%,TiC 1.5wt%,Si 0.5-1wt%,B 0.5-1wt%,余量为W。2.一种权利要求1所述的高强度TiC掺杂W-Ti-Si-B复合材料,其特征在于包括如下步骤:(1)球磨:将W粉、TiH2粉、Si粉、B粉以及TiC粉置于真空球磨罐中,在氩气气氛中球磨60~80小时,得到TiC掺杂W-Ti-Si-B复合粉体;球磨机的转速为400转/分,球磨罐和磨球的材质为WC,球料比为20:1。(2)烧结:将所述TiC掺杂W-Ti-Si-B复合粉体装入石墨模具,再将磨具放入放电等离子烧结炉中,室温下对烧结炉抽真空至真空度为...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴玉程王爽罗来马昝祥朱晓勇
申请(专利权)人:合肥工业大学
类型:发明
国别省市:安徽;34

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