【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种膜厚测量方法及膜厚测量装置。
技术介绍
在专利文献1中,记载有层叠有透光性薄膜的复合膜的制造方法。在该专利文献1中,记载了在基材膜的两面形成有超薄膜的情况下,来自形成于背面的超薄膜的反射光会影响到形成于表面的超薄膜的厚度测量。而且,专利文献1所记载的方法试图通过使光吸收材混入至基材膜来降低这样的影响。在专利文献2中,记载有形成于透明基板上的薄膜的厚度测定方法。在该专利文献2中,记载了向形成于透明基板的表面上的薄膜照射光,当基于其反射光而测定薄膜的厚度时,来自透明基板的背面的反射光会影响到测定精度。为了解决该问题,在专利文献2所记载的测定方法中,考虑作为来自透明基板的背面的反射光被检测出的比例的背面反射系数贡献率γ,测定薄膜的厚度。在专利文献3中,记载有向多层薄膜照射光,基于其反射光的分光光谱而测定多层薄膜的厚度的方法。在该专利文献3所记载的测定方法中,使用高速傅立叶变换法,测定在基材的两面形成有膜的被测定膜的表面上及背面上的各膜的厚度。另外,使用透过率较低的波长频带下的反射光、及透过率较高的波长频带下的反射光,测定表面上及背面上的各膜的厚度。在专利文献4中,记载有测定形成于基板上的膜厚的方法。在该专利文献4所记载的测定方法中,为了即使基板表面的凹凸状态存在不均也可效率良好地测定各基板的膜厚,一边使基板的膜厚的假定值变化一边针对每个膜厚基于基板为镜面的情况下的理论上的反射率与受光数据的关系,算出入射至受光部的反射光的比率(受光比率)。再有,使用该受光比率与上述的理论上的反射率来设定关于具有假定的膜厚的基板的反射光谱的模型数据,并与受光数据 ...
【技术保护点】
一种膜厚测量方法,其特征在于,是对包含具有表面及背面的基材、形成于所述表面上的第1膜、及形成于所述背面上的第2膜的测量对象物的膜厚进行测量的方法,所述膜厚测量方法包括:光照射步骤,其向所述测量对象物的所述表面侧照射光;光检测步骤,其对所述测量对象物的所述表面侧的反射光的各波长的强度进行检测;及膜厚特定步骤,其通过对实测分光反射率与理论分光反射率进行比较而决定所述第1膜的膜厚,所述实测分光反射率是基于所述光检测步骤中的检测结果而获得的各波长的反射率,所述理论分光反射率是采纳有作为所述表面侧的反射率的表面反射率、作为所述表面侧的透过率的表面透过率、及作为所述背面侧的反射率的背面反射率的理论上的各波长的反射率,在所述膜厚特定步骤中,对使所述表面反射率的值、所述表面透过率的值、及所述背面反射率的值变化而获得的多个理论分光反射率与所述实测分光反射率进行比较,基于最接近于该实测分光反射率的所述理论分光反射率,决定所述第1膜的膜厚。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.01.30 JP 2014-0159731.一种膜厚测量方法,其特征在于,是对包含具有表面及背面的基材、形成于所述表面上的第1膜、及形成于所述背面上的第2膜的测量对象物的膜厚进行测量的方法,所述膜厚测量方法包括:光照射步骤,其向所述测量对象物的所述表面侧照射光;光检测步骤,其对所述测量对象物的所述表面侧的反射光的各波长的强度进行检测;及膜厚特定步骤,其通过对实测分光反射率与理论分光反射率进行比较而决定所述第1膜的膜厚,所述实测分光反射率是基于所述光检测步骤中的检测结果而获得的各波长的反射率,所述理论分光反射率是采纳有作为所述表面侧的反射率的表面反射率、作为所述表面侧的透过率的表面透过率、及作为所述背面侧的反射率的背面反射率的理论上的各波长的反射率,在所述膜厚特定步骤中,对使所述表面反射率的值、所述表面透过率的值、及所述背面反射率的值变化而获得的多个理论分光反射率与所述实测分光反射率进行比较,基于最接近于该实测分光反射率的所述理论分光反射率,决定所述第1膜的膜厚。2.如权利要求1所述的膜厚测量方法,其特征在于,在所述膜厚特定步骤中,算出相对于所述第1膜的膜厚的值及所述第2膜的膜厚的值的所述表面反射率的值、所述表面透过率的值、及所述背面反射率的值,使所述第1膜的膜厚的值及所述第2膜的膜厚的值变化,从而获取所述多个理论分光反射率。3.如权利要求1或2所述的膜厚测量方法,其特征在于,在所述膜厚特定步骤中,基于最接近于所述实测分光反射率的所述理论分光反射率的所述表面反射率的值及所述表面透过率的值中的至少任一方的值,求出所述第1膜的膜厚的值。4.如权利要求1至3中任一项所述的膜厚测量方法,其特征在于,所述第1膜包含多个层,在所述膜厚特定步骤中,基于最接近于所述实测分光反射率的所述理论分光反射率,决定所述第1膜的所述多个层各自的层厚。5.如权利要求1至4中任一项所述的膜厚测量方法,其特征在于,在所述膜厚特定步骤中,基于最接近于所述实测分光反射率的所述理论分光反射率,进一步决定所述第2膜的膜厚。6.如权利要求1至5中任一项所述的膜厚测量方法,其特征在于,在所述膜厚特定步骤中,基于最接近于所述实测分光反射率的所述理论分光反射率的所述背面反射率的值,求出所述第2膜的膜厚的值。7.如权利要求1至6中任一项所述的膜厚测量方法,其特征在于,所述第2膜包含多个层,在所述膜厚特定步骤中,基于最接近于所述实测分光反射率的所述理论分光反射率,决定所述第2膜的所述多个层各自的层厚。8.一种膜厚测量方法,其特征在于,是对包含具有表面及背面的基材、形成于所述表面上的第1膜、及形成于所述背面上的第2膜的测量对象物的膜厚进行测量的方法,所述膜厚测量方法包括:光照射步骤,其向所述测量对象物的所述表面侧照射光;光检测步骤,其对所述测量对象物的所述背面侧的透过光的各波长的强度进行检测;及膜厚特定步骤,其通过对实测分光透过率与理论分光透过率进行比较而决定所述第1膜的膜厚,所述实测分光透过率是基于所述光检测步骤中的检测结果而获得的各波长的透过率,所述理论分光透过率是采纳有作为所述表面侧的透过率的表面透过率及作为反射率的表面反射率、以及作为所述背面侧的透过率的背面透过率及作为反射率的背面反射率的理论上的各波长的透过率,在所述膜厚特定步骤中,对分别使所述表面透过率的值及所述表面反射率的值、以及所述背面透过率的值及所述背面反射率的值变化而获得的多个理论分光透过率与所述实测分光透过率进行比较,基于最接近于该实测分光透过率的所述理论分光透过率,决定所述第1膜的膜厚。9.如权利要求8所述的膜厚测量方法,其特征在于,所述第1膜包含多个层,在所述膜厚特定步骤中,基于最接近于所述实测分光透过率的所述理论分光透过率,决定所述第1膜的所述多个层各自的层厚。10.如权利要求8或9所述的膜厚测量方法,其特征在于,在所述膜厚特定步骤中,基于最接近于所述实测分光透过率的所述理论分光透过率,进一步决定所述第2膜的膜厚。11.如权利要求8至10中任一项所...
【专利技术属性】
技术研发人员:大塚贤一,中野哲寿,
申请(专利权)人:浜松光子学株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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