包括弯曲部件的设备、包括施加力的方法、以及介质处理设备技术

技术编号:13674778 阅读:139 留言:0更新日期:2016-09-08 00:12
描述了一种设备,其具有弯曲部件(70),所述弯曲部件被构造成向介质处理装置(10)的介质路径(20)内的介质的第一部分施加力。所述设备具有支撑部分(80),所述支撑部分(80)被构造成将所述设备联接至所述介质处理装置。所述介质路径提供所述介质沿着其被运送的路径并且具有进给区(30)。所述弯曲使所述介质的第二部分运动远离所述介质路径的所述进给区。还描述了一种向介质施加力的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
许多介质处理装置,诸如打印机和扫描仪,被构造成沿着介质路径运送介质。例如,打印机可以将油墨沉积在沿着介质路径运送的纸上,并且扫描仪可以捕获穿过一个或多个图像获取装置的文件的图像。在这些介质处理装置中,介质通常利用沿着介质路径或者在介质路径的起始处布置的一个或多个进给区进入介质路径。介质进给区可以使用摩擦来运送介质。例如,介质进给区可以包括一个或多个旋转辊,该一个或多个旋转辊定位成接触介质路径内的介质。从而,在旋转辊和介质之间的摩擦使介质沿着介质路径运送。附图说明图1是示出通过根据对比示例的介质处理装置的横截面的示意图;图2是示出根据对比示例的介质处理装置的介质进给区的特写的示意图;图3是示出通过根据示例的已经联接至设备的介质处理装置的横截面的示意图;图4a是示出在根据示例的设备的存在情况下介质的第一部分的示意图;图4b是示出在根据示例的设备不存在的情况下介质的第一部分的示意图;图5a是示出在联接至图3的设备的介质处理装置的介质进给区附近的介质的第二部分的示意图;图5b是示出在根据对比示例的介质处理装置的介质进给区附近的介质的第二部分的示意图;图6a是示出用于根据示例的设备的示例性支撑部分的示意透视图;图6b是示出用于根据示例的设备的示例性臂部分的示意透视图;图6c是示出用于根据示例的设备的示例性辊的示意透视图;图6d是示出根据示例的设备的示意图透视;图7是示出联接至根据示例的设备的介质处理装置的示意图;图8a和图8b是示出用于根据示例的设备的支撑部分的示例性轴孔的示意图;以及图9是图示根据示例的方法的流程图。具体实施方式某些介质处理装置包括介质运送件,该介质运送件布置成紧接着介质处理将介质送回到初始区。例如,可以在两个相对方向上沿着介质运送件驱动介质和/或可以按路径运送介质以便使用共同的介质保持区。在这些情况下,如果已经由介质处理装置处理过的介质被送回到该装置中,那么可能有麻烦。这种行为可能导致介质逐渐堵塞在介质路径中和/或损坏介质。这在使用批量扫描装置时可能会发生。图1是示出通过示例性介质处理装置10的横截面的示意图。介质处理装置10具有由上表面20a和下表面20b限定的介质路径20。该介质路径通常在介质处理装置内延伸,从而驱动介质40通过一个或多个致动器和/或传感器,例如,打印头和/或电荷耦合装置阵列。该介质路径可以是线性的和/或弯曲的。介质处理装置10包括进给区30,进给区30用于将介质40进给到装置中并且沿着介质运送件。该介质运送件可以包括,除其他外,皮带驱动机械装置和/或辊驱动机械装置。进给区30可以被视为是介质运送件的起点。在图1中,首先将介质40定位在到介质运送件的入口处的介质托盘45上。在这种情况下,介质40的一部分沿着介质路径20延伸。在图1中所示的具体示例中,进给区30包括两个辊30a和30b,在这两个辊30a、30b之间运送介质40。辊30a、30b的旋转使在这两个辊30a、30b之间的任何介质40均沿着介质路径20运送。例如,一张纸可以接触下辊30b。然后,下辊30b可以在顺时针方向上旋转。在这种情况下,纸和下辊30b之间的摩擦力驱动纸在这两个辊30a、30b之间前进,即,在图1中从左到右。在包括进给区30的介质处理装置中,诸如在图1所示的介质处理装置中,可以将已经由该装置处理过的介质40送回到介质运送件中。例如,可以经由进给区30将介质40进给到介质处理装置中。介质40可以通过一个或多个致动器和/或传感器,并且然后可以返回到介质托盘45。可以经由环形带机械装置或者通过逆转一个或多个辊(例如,辊30a和30b)的旋转方向来返回介质。一旦介质40已经被处理,然后介质40安置在介质托盘45上,直到被介质处理装置的使用者移除。在这种情况下,虽然介质40正安置在介质托盘45上并且等待使用者移除,但是介质40可能仍与进给区30接触或者在进给区30附近。这可能会导致介质40被进给区30再次捕获并且送回到介质进给路径或者介质处理装置10的其他部分中。为了辅助解释,图2示出了示例性介质进给区30的特写,介质进给区30包括上辊30a和下辊30b。在所示的示例性布置中,上辊30a在顺时针方向上旋转,并且下辊30b在逆时针方向上旋转。因此,在向左方向上运送介质40。当介质40从辊30a、30b出来时,重力使得介质40的一部分(在这种情况下为后部分)仍然保持与下辊30b接触。下辊30b的继续或者随后旋转,以及下辊30b和介质40 的后部分之间的摩擦能够使介质40的后部分被辊30b“再次捕获”。作为具体示例,在辊30a、30b随后改变旋转方向同时介质40仍然保持在辊30a、30b附近的情况下,介质40的后部分可以被辊30a、30b“再次捕获”并且拉回到介质路径20中。作为另一个示例,下辊30b在相同(即,逆时针)方向上的继续旋转可能会使介质40的后部分被拉到在下辊30b和下壁20b之间的间隙50中。下辊30b的进一步继续旋转能够使介质40的更多部分进给到间隙50中。介质40可能会卡在间隙50中从而堵塞介质路径20。替代地或额外地,介质40可能会被损坏。通常,将理解的是,介质40和进给区30的运动部分的任何接触均能够使介质40被捕获并且进给到介质处理装置10的非期望的一部分中,即,介质40不应该被送入的部分中。通过介质处理装置10的进给区30对处理过的介质40的再次捕获可以在成批处理介质40(例如,一片或多片介质)的介质处理装置中发现。这是因为,一旦第一片介质40已经通过介质处理装置处理,第一片介质40的后部分通常将仍保持在第一片介质40从其排出的最后进给区30附近。当进给区30开始再次操作(以便沿着介质路径20运送第二片介质40)时,第一片介质40能够通过进给区40被再次捕获。因此,为了避免这种情况,在处理第二片介质之前,必须将第一片介质从介质处理装置移除。这对介质处理装置10的使用者来说有些繁重,特别是在需要处理大批量的介质40时。图3示意性地示出了介质处理装置10的示例性修改,该装置可以提供独特优势。图3的介质处理装置20装配有设备60,设备60包括弯曲部件70。弯曲部件70用于引起介质40弯曲。更具体地,弯曲部件70被构造成使得在介质40正沿着介质路径20被运送并且通过弯曲部件70的同时,弯曲部件70与介质40的一部分接触并且向介质40的该部分施加力。该力使得介质40在弯曲部件70周围弯曲从而在介质40中产生弯曲。这继而会使得刚刚从进给区30出来的介质40的第二部分(在这种情况下为后部分)运动远离进给区30。这种效果可以在图4a、图4b、图5a和图5b中更清楚地看出。更具体地,图4a示出了设备60,并且更具体地弯曲部件70,的特写。在所示的示例中,当在弯曲部件70下方运送介质40时,弯曲部件70对在弯曲部件70下方的介质40的第一部分40a施加基本上向下的力。这使得介质40的第一部分40a在弯曲部件70周围弯曲从而在介质40的第一部分40a中产生弯曲。图4b示出了在不存在弯曲部件70的情况下介质40的第一部分40a。如可以看到的,在图4b描绘的介质40中不存在弯曲。图5a和图5b示出了介质处理装置10的进给区30的特写。图5a示出了使用弯曲部件的情况;图5b示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设备,其包括:支撑部分,所述支撑部分被构造成将所述设备联接至介质处理装置,所述介质处理装置具有介质路径,介质沿着所述介质路径被运送,所述介质路径具有进给区;弯曲部件,所述弯曲部件被构造成向所述介质路径内的介质的第一部分施加力并且从而引起所述介质弯曲,所述弯曲使所述介质的第二部分运动远离所述介质路径的所述进给区。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种设备,其包括:支撑部分,所述支撑部分被构造成将所述设备联接至介质处理装置,所述介质处理装置具有介质路径,介质沿着所述介质路径被运送,所述介质路径具有进给区;弯曲部件,所述弯曲部件被构造成向所述介质路径内的介质的第一部分施加力并且从而引起所述介质弯曲,所述弯曲使所述介质的第二部分运动远离所述介质路径的所述进给区。2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述弯曲部件包括用于向所述介质的所述第一部分施加所述力的至少一个辊。3.根据权利要求1或2所述的设备,其中,所述弯曲部件围绕垂直于所述介质沿着所述介质路径的运送方向的轴线能旋转地联接至所述支撑部分。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的设备,其中,所述弯曲部件围绕偏离所述弯曲部件的重心的轴线能旋转地联接至所述支撑部分。5.根据权利要求2所述的设备,其中,所述弯曲部件包括臂部分,所述臂部分包括使辊部分联接至所述支撑部分的细长构件。6.根据权利要求1至5中的任一项所述的设备,其中,所述弯曲部件经由轴联接至所述支撑部分的轴孔,并且其中,所述轴孔被构造成使得所述弯曲部件能够缩回到所述轴孔的一部分中,从而使所述弯曲部件维持在所述弯曲部件不再向所述介质施加力的位置中。7.根据权利要求1至6中的任一项所述的设备,其中,所述弯曲部件在介质的所述第一部分上沿着基本上垂直于所述介质运送方向的方向延伸,借此在所述介质的宽度上产生基本上均匀的弯曲。8.根据权利要求1至7中的任一项所述的设备,其中,所述设备包括多个弯曲部件,所述多个弯曲部件在介质的所述第一部分上沿着...

【专利技术属性】
技术研发人员:F戈麦斯
申请(专利权)人:惠普发展公司有限责任合伙企业
类型:发明
国别省市:美国;US

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1