本实用新型专利技术属于玻璃技术领域，具体涉及一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其结构为：玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复合介质层/第二银层/第二保护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质层/氧化锆膜；本实用新型专利技术的膜层能够经受700℃的高温钢化，钢化后颜色稳定，膜层钢化后无外观缺陷。
【技术实现步骤摘要】
本技术属于玻璃
，具体涉及一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃被证明是当今最好的建筑节能玻璃。通过在普通玻璃表面镀低辐射膜而改善其性能，有效限制红外光透过，充分降低玻璃两侧的热交换，使其与普通玻璃和传统镀膜玻璃相比，具有优良的节能性能、光学性能和环保性能。低辐射镀膜玻璃己被广泛应用于世界各地的建筑中，特别是经济和科学技术比较发达的国家和地区。低辐射镀膜本身随着研发的深入也在进行着更新换代，不仅满足建筑设计潮流审美的需要，而且节能性也得到进一步提高。其中，三银低辐射镀膜玻璃因为其具有更低的红外线透过率、辐射率和传热系数，使其更节能，从而被广泛应用。但是，三银低辐射镀膜玻璃因膜层结构复杂，在钢化过程中容易产生钢化后颜色不稳定、有色道、膜层擦拭实验不合格等问题。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术的目的在于提供一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，该玻璃膜层能够经受700℃的高温钢化，钢化后颜色稳定，膜层钢化后无外观缺陷。一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃的结构为：玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复合介质层/第二银层/第二保护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质层/氧化 锆膜。较佳地，所述第一复合介质层的厚度为20～50nm、第一银层的厚度为5～15nm、第一保护层的厚度为1～1-10nm、第二复合介质层的厚度为55～110nm、第二银层的厚度为5～15nm、第二保护层的厚度为1～10nm、第三复合介质层的厚度为55～110nm、第三银层的厚度为5～15nm、第三保护层的厚度为1～10nm、第四复合介质层的厚度为35～70nm、氧化锆膜的厚度为3～10nm。厚度在一定的范围内，可起到减少摩擦，提升抗划伤性能。太厚的话，表面就过于粗糙，反而起到相反的效果。此膜层能够有效增加膜系的抗划伤性能，提高产品的可处理加工特性，减少膜面划伤等缺陷。较佳地，所述第一复合介质层包括氮化硅、氧化锌和AZO；所述氮化硅的厚度为10～25nm、所述氧化锌的厚度为5～15nm、所述AZO的厚度为5～10nm。较佳地，所述第一保护层、第二保护层和第三保护层为镍铬层。较佳地，所述第二复合介质层包括氮化硅、氧化锌锡、氧化锌和AZO，所述氮化硅的厚度为20～40nm、所述氧化锌锡的厚度为20～40nm、所述氧化锌的厚度为10～20nm、所述AZO的厚度为5～10nm。较佳地，所述第三复合介质层包括氮化硅、氧化锌锡、氧化锌、AZO，所述氮化硅的厚度为20～40nm、所述氧化锌锡的厚度为20～40nm、所述氧化锌的厚度为10～20nm、所述AZO的厚度为5～10nm。较佳地，第四复合介质层包括AZO、氧化锌和氮化硅，所述AZO的厚度为5～10nm、所述氧化锌的厚度为10～20nm、所述氮化硅的厚度为20～40nm。制备所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，具体为：玻璃基片清洗—磁控溅射镀膜—切割—磨边—钢化；其中，1)、底部SiN的N2量要较少；例如，氮化硅的基础配比为，氩气:氮气＝1000:900(单位：SCCM)，底部氮化硅气氛配比则为，氩气:氮气＝1000:700，以形成致密的结构，能够增加跟玻璃基片的结合力。2)、中间层SiN与上下的氧化物介质层接触的介面处通入少量的O2，形 成SiOxNy结构，与上下两层的氧化物介质层之间的结合力更好。例如，第二复合介质层中，氮化硅的下一层是氧化锌锡，则在靠近氧化锌锡的那层氮化硅将气氛配比改为，氩气:氮气:氧气＝1000:900:50(单位：SCCM)，这里指的是两层之间的介面处，形成SiOxNy的厚度一般为1～5nm。3)、顶部SiN的N2量要多，形成应力小的稍疏松结构。例如，氮化硅的基础配比为，氩气:氮气＝1000:900(单位：SCCM)，底部氮化硅气氛配比则为，氩气:氮气＝800:1100。4)、ZnSnO、ZnAlO膜应按化学计量比或者过氧工艺溅射以减少应力。5)、顶部保护层ZrO2高功率富O2溅射，以形成纳米微晶粗糙的表面，表面粗糙则接触面小，摩擦系数小，抗划伤性能强。Zr靶功率为60～100千瓦，富O2溅射，例如Ar:O2＝500:1200，氧气较多。6)、对于Ag膜的种子层ZnAlO等，用高功率60～100千瓦、低Ar、富O2的气氛，容易得到柱状的晶体结构，有利于Ag膜的生长。本技术的结构为：玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复合介质层/第二银层/第二保护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质层/氧化锆膜；本技术不仅能有效提升膜层抗划伤性能，而且膜层能够经受700℃的高温钢化，钢化后颜色稳定，膜层钢化后无外观缺陷，并通过钢化温度敏感性实验、钢化延时实验、不同厚度玻璃基片钢化实验、不同厚度玻璃基片弯钢化实验。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式下面结合具体实施方式对本技术作进一步的详细说明，以助于本领域技术人员理解本技术。实施例1见图1，一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，结构为：玻璃基片1/第一复合介质层21[氮化硅(厚度10nm)、氧化锌(5nm)、AZO(10nm)]/第一银层31(15nm)/镍铬41(1nm)/第二复合介质层22[氮化硅(20nm)、氧化锌锡(40nm)、氧化锌(10nm)、AZO(5nm)]第二银层32(15nm)/镍铬42(1nm)/第三复合介质层23[氮化硅(20nm)、氧化锌锡(20nm)、氧化锌(10nm)、AZO(10nm)]/第三银层33(5nm)/镍铬43(10nm)/第四复合介质层24[AZO(5nm)、氧化锌(20nm)、氮化硅(20nm)]/ZrOx5(10nm)。实施例2一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，结构为：玻璃基片/第一复合介质层[氮化硅(厚度25nm)、氧化锌(15nm)、AZO(5nm)]/第一银层(5nm)/镍铬(10nm)/第二复合介质层[氮化硅(40nm)、氧化锌锡(20nm)、氧化锌(20nm)、AZO(10nm)]第二银层(5nm)/镍铬(10nm)/第三复合介质层[氮化硅(40nm)、氧化锌锡(40nm)、氧化锌(20nm)、AZO(5nm)]/第三银层(15nm)/镍铬(1nm)/第四复合介质层[AZO(10nm)、氧化锌(10nm)、氮化硅(40nm)]/ZrOx(3nm)。实施例3一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，结构为：玻璃基片/第一复合介质层[氮化硅(厚度15nm)、氧化锌(8nm)、AZO(8nm)]/第一银层(8nm)/镍铬(3nm)/第二复合介质层[氮化硅(25nm)、氧化锌锡(30nm)、氧化锌(15nm)、AZO(6nm)]第二银层(10nm)/镍铬(3nm)/第三复合介质层[氮化硅(35nm)、氧化锌锡(30nm)、氧化锌(15nm)、AZO(6nm)]/第三银层(10nm)/镍铬(3nm)/第四复合介质层[AZO(6nm)、氧化锌(15nm)、氮化硅(25nm)]/ZrOx(5nm)。实施例4一种可钢化的三银低辐射镀膜玻本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃的结构为：玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复合介质层/第二银层/第二保护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质层/氧化锆膜。
【技术特征摘要】
1.一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃的结构为：玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复合介质层/第二银层/第二保护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质层/氧化锆膜。2.如权利要求1所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一复合介质层的厚度为20～50nm、第一银层的厚度为5～15nm、第一保护层的厚度为1～1-10nm、第二复合介质层的厚度为55～110nm、第二银层的厚度为5～15nm、第二保护层的厚度为1～10nm、第三复合介质层的厚度为55～110nm、第三银层的厚度为5～15nm、第三保护层的厚度为1～10nm、第四复合介质层的厚度为35～70nm、氧化锆膜的厚度为3～10nm。3.如权利要求2所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一复合介质层包括氮化硅、氧化锌和AZO；所述氮化硅的厚度为10～25nm、所述氧化锌的厚度为5～1...
【专利技术属性】
技术研发人员：余华骏，黄颖，梁瑞记，叶光岱，
申请(专利权)人：东莞南玻工程玻璃有限公司，中国南玻集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。