【技术实现步骤摘要】
201521131294
【技术保护点】
一种导电布的专用生产设备,包括镀膜腔室,其特征在于,还包括用于向镀膜腔室内充入气体的气体压强控制系统、用于控制镀膜腔室内温度的温控系统、用于为镀膜腔室提供阳极层型离子源的离子表面处理装置以及控制镀膜腔室内真空度的真空抽气系统;镀膜腔室的其中两端分别设置有放卷装置和收卷装置,其中放卷装置和收卷装置之间设置有多排磁控溅射靶,相邻排磁控溅射靶之间形成镀膜通道,相邻两个镀膜通道之间设置有冷却辊,放卷装置出来的导电布基材通过各镀膜通道以及绕过各冷却辊后由收卷装置进行收卷,离子表面处理装置设置在放卷装置出来的镀膜通道前端的两侧,向经过镀膜通道的导电布基材提供阳极层型离子源。
【技术特征摘要】
1.一种导电布的专用生产设备,包括镀膜腔室,其特征在于,还包括用于
向镀膜腔室内充入气体的气体压强控制系统、用于控制镀膜腔室内温度的温控
系统、用于为镀膜腔室提供阳极层型离子源的离子表面处理装置以及控制镀膜
腔室内真空度的真空抽气系统;镀膜腔室的其中两端分别设置有放卷装置和收
卷装置,其中放卷装置和收卷装置之间设置有多排磁控溅射靶,相邻排磁控溅
射靶之间形成镀膜通道,相邻两个镀膜通道之间设置有冷却辊,放卷装置出来
的导电布基材通过各镀膜通道以及绕过各冷却辊后由收卷装置进行收卷,离子
表面处理装置设置在放卷装置出来的镀膜通道前端的两侧,向经过镀膜通道的
导电布基材提供阳极层型离子源。
2.根据权利要求1所述的导电布的专用生产设备,其特征在于,所述每排
磁控溅射靶中包括3个以上磁控溅射靶。
3.根据权利要求1所述的导电布的专用生产设备,其特征在于,离子表面
处理装置包括外阴极、内阴极、磁铁、阳极和气体通道;其中外阴极为顶部开
有口的方形结构,外阴极顶部开口处设置有内部阴极,在外阴极内底部与内阴
极底部之间设置有磁铁,阳极设置于外阴极、内阴极和磁铁围成的空间中,气
体通道设置在外阴极底部,气体通过外阴极底部进入到外阴极...
【专利技术属性】
技术研发人员:李家樑,
申请(专利权)人:广州市新景机电股份有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
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