【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于从硅晶片生产太阳能电池的方法,该方法包括用蚀刻气体蚀刻该晶片的步骤,其中对该晶片的表面进行蚀刻以使该表面粗糙,该蚀刻气体由F2与以下组分的混合物组成:氮、氦和/或氩。
【技术特征摘要】
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