【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开的实施例属于可再生能源领域,并且具体地讲,涉及制造具有区分开的P型和N型区架构的太阳能电池发射极区的方法,以及所得太阳能电池。
技术介绍
光伏电池(常被称为太阳能电池)是熟知的用于将太阳辐射直接转换为电能的装置。一般来讲,使用半导体加工技术在基板的表面附近形成p-n结而在半导体晶片或基板上制造太阳能电池。照射在基板表面上并进入基板内的太阳辐射在基板主体中形成电子空穴对。电子空穴对迁移至基板中的p掺杂区和n掺杂区,从而使掺杂区之间生成电压差。将掺杂区连接至太阳能电池上的导电区,以将电流从电池引导至与其耦接的外部电路。效率是太阳能电池的重要特性,因其直接与太阳能电池发电能力有关。同样,制备太阳能电池的效率直接与此类太阳能电池的成本效益有关。因此,提高太阳能电池效率的技术或提高制造太阳能电池效率的技术是普遍所需的。本公开的一些实施例允许通过提供制造太阳能电池结构的新工艺而提高太阳能电池的制造效率。本公开的一些实施例允许通过提供新型太阳能电池结构来提高太阳能电池效率。附图说明图1示出了根据本公开的实施例的背接触太阳能电池的一部分的剖视图。图2示出了根据本公开的另一个实施例的背接触太阳能电池的一部分的剖视图。图3为根据本公开的实施例的流程图,所述流程图列出了与图5A-5F相对应的制造太阳能电池的方法中的操作。图4为根据本公开的实施例的流程图,所述流程图列出了与图5A-< ...
【技术保护点】
一种背接触太阳能电池,包括:基板,所述基板具有光接收表面和背表面;第一导电类型的第一多晶硅发射极区,所述第一导电类型的第一多晶硅发射极区设置在第一薄介电层上,所述第一薄介电层设置在所述基板的所述背表面上;第二不同导电类型的第二多晶硅发射极区,所述第二不同导电类型的第二多晶硅发射极区设置在第二薄介电层上,所述第二薄介电层设置在所述基板的所述背表面上;第三薄介电层,所述第三薄介电层直接侧向设置在所述第一多晶硅发射极区和所述第二多晶硅发射极区之间;第一导电触点结构,所述第一导电触点结构设置在所述第一多晶硅发射极区上;以及第二导电触点结构,所述第二导电触点结构设置在所述第二多晶硅发射极区上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.12.20 US 14/136,7511.一种背接触太阳能电池,包括:
基板,所述基板具有光接收表面和背表面;
第一导电类型的第一多晶硅发射极区,所述第一导电类型的第
一多晶硅发射极区设置在第一薄介电层上,所述第一薄介
电层设置在所述基板的所述背表面上;
第二不同导电类型的第二多晶硅发射极区,所述第二不同导电
类型的第二多晶硅发射极区设置在第二薄介电层上,所述
第二薄介电层设置在所述基板的所述背表面上;
第三薄介电层,所述第三薄介电层直接侧向设置在所述第一多
晶硅发射极区和所述第二多晶硅发射极区之间;
第一导电触点结构,所述第一导电触点结构设置在所述第一多
晶硅发射极区上;以及
第二导电触点结构,所述第二导电触点结构设置在所述第二多
晶硅发射极区上。
2.根据权利要求1所述的背接触太阳能电池,还包括:
绝缘层,所述绝缘层设置在所述第一多晶硅发射极区上,其中
所述第一导电触点结构被设置为穿过所述绝缘层,并且其
中所述第二多晶硅发射极区的一部分与所述绝缘层重叠但
与所述第一导电触点结构分开。
3.根据权利要求1所述的背接触太阳能电池,还包括:
绝缘层,所述绝缘层设置在所述第一多晶硅发射极区上;以及
第二导电类型的多晶硅层,所述第二导电类型的多晶硅层设置
在所述绝缘层上,其中所述第一导电触点结构被设置为穿
过所述第二导电类型的所述多晶硅层以及穿过所述绝缘
层。
4.根据权利要求1所述的背接触太阳能电池,其中所述第二多晶硅发
射极区和所述第二薄介电层设置在所述基板中设置的凹陷部中。
5.根据权利要求4所述的背接触太阳能电池,其中所述凹陷部具有纹
理化表面。
6.根据权利要求1所述的背接触太阳能电池,其中所述第一多晶硅发
射极区和所述第一薄介电层设置在所述基板的所述背表面的平坦部
分上,并且其中所述第二多晶硅发射极区和所述第二薄介电层设置
在所述基板的所述背表面的纹理化部分上。
7.根据权利要求1所述的背接触太阳能电池,其中所述第一和第二导
电触点结构各自包括分别设置在所述第一和第二多晶硅发射极区上
的基于铝的金属晶种层,并且各自还包括设置在所述基于铝的金属
晶种层上的金属层。
8.根据权利要求1所述的背接触太阳能电池,其中所述第一和第二导
电触点结构各自包括分别设置在所述第一和第二多晶硅发射极区上
的金属硅化物层,并且各自还包括设置在所述金属硅化物层上的金
属层。
9.根据权利要求8所述的背接触太阳能电池,其中所述金属硅化物层
包含选自硅化钛(TiSi2)、硅化钴(CoSi2)、硅化钨(WSi2)和硅化镍
(NiSi或NiSi2)的材料。
10.根据权利要求1所述的背接触太阳能电池,还包括:
第四薄介电层,所述第四薄介电层设置在所述基板的所述光接
收表面上;
第二导电类型的多晶硅层,所述第二导电类型的多晶硅层设置
在所述第四薄介电层上;以及
抗反射涂层(ARC),所述抗反射涂层(ARC)设置在所述第二导电
类型的所述多晶硅层上。
11.根据权利要求1所述的背接触太阳能电池,其中所述基板为N型单
晶硅基板,所述第一导电类型为P型,并且所述第二导电类型为N
型。
12.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:林承笵,大卫·D·史密斯,邱泰庆,斯塔凡·韦斯特贝格,基兰·马克·特雷西,文卡塔苏布拉马尼·巴鲁,
申请(专利权)人:太阳能公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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