一种基于MGTI的高色散镜结构制造技术

技术编号:13296780 阅读:80 留言:0更新日期:2016-07-09 14:58
一种基于Modified Gires‑Tournois interferometer(MGTI)镜的高色散镜结构,由下到上依次为基底、高反射膜层、G‑T腔和对称腔,表达式:G/(HL)^n(HxL)^m(HxLH)^m(LxHL)^m/A,其中G代表基底材料,H和L分别代表光学厚度为λ/4的高低折射率材料,x为腔的厚度,m为G‑T腔和对称腔的周期数,n为高反射率膜层周期数,A为空气层。本发明专利技术通过由两个周期型对称膜系组成的对称腔取代标准镜的部分反射膜层,G‑T腔与对称腔形成串联形式,调节G‑T腔和对称腔中周期数以及腔厚度,满足了超短超快激光系统中用于脉冲压缩的低损耗、大色散补偿量的高色散镜设计需求。

【技术实现步骤摘要】
201610242995

【技术保护点】
一种基于MGTI的高色散镜结构,其特征在于,由下到上依次包括基底(1)、高反射膜层(2)、G‑T腔(3)和对称腔(4),膜系结构表达式为G/(HL)^n(HxL)^m(HxLH)^m(LxHL)^m/A,其中G为基底材料,H为光学厚度为λ/4的高折射率材料,L为光学厚度为λ/4的低折射率材料,n为高反射膜层的周期数,x为G‑T腔和对称腔的厚度,m为G‑T腔和对称腔的周期数,A为空气层。

【技术特征摘要】
1.一种基于MGTI的高色散镜结构,其特征在于,由下到上依次包括基底
(1)、高反射膜层(2)、G-T腔(3)和对称腔(4),膜系结构表达式为
G/(HL)^n(HxL)^m(HxLH)^m(LxHL)^m/A,其中G为基底材料,H为光学厚度为
λ/4的高折射率材料,L为光学厚度为λ/4的低折射率材料,n为高反射膜层的周
期数,x为G-T腔和对称腔的厚度,m为G-T腔和对称腔的周期数,A为空气层。
2.如权利要求1所述的基于MGTI的高色散镜结构,其特征在于,所述高
反射膜层(2)由高折射率膜层和低折射率膜层交替组成,其结构为(HL)^n,
周期数n选取范围在8~18之间。
3.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:王胭脂陈宇朱美萍张伟丽齐红基邵建达
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
类型:发明
国别省市:上海;31

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