【技术实现步骤摘要】
201610242995
【技术保护点】
一种基于MGTI的高色散镜结构,其特征在于,由下到上依次包括基底(1)、高反射膜层(2)、G‑T腔(3)和对称腔(4),膜系结构表达式为G/(HL)^n(HxL)^m(HxLH)^m(LxHL)^m/A,其中G为基底材料,H为光学厚度为λ/4的高折射率材料,L为光学厚度为λ/4的低折射率材料,n为高反射膜层的周期数,x为G‑T腔和对称腔的厚度,m为G‑T腔和对称腔的周期数,A为空气层。
【技术特征摘要】
1.一种基于MGTI的高色散镜结构,其特征在于,由下到上依次包括基底
(1)、高反射膜层(2)、G-T腔(3)和对称腔(4),膜系结构表达式为
G/(HL)^n(HxL)^m(HxLH)^m(LxHL)^m/A,其中G为基底材料,H为光学厚度为
λ/4的高折射率材料,L为光学厚度为λ/4的低折射率材料,n为高反射膜层的周
期数,x为G-T腔和对称腔的厚度,m为G-T腔和对称腔的周期数,A为空气层。
2.如权利要求1所述的基于MGTI的高色散镜结构,其特征在于,所述高
反射膜层(2)由高折射率膜层和低折射率膜层交替组成,其结构为(HL)^n,
周期数n选取范围在8~18之间。
3.如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:王胭脂,陈宇,朱美萍,张伟丽,齐红基,邵建达,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:上海;31
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