1-芳基-3-烷基吡唑杀虫剂制造技术

技术编号:13295218 阅读:85 留言:0更新日期:2016-07-09 13:26
本发明专利技术公开了式1的化合物,包括其所有的几何异构体和立体异构体、N‑氧化物和盐,其中Q为并且Z、R1、R2a、R2b、R2c、R2d、J1、J2和M如在本公开中所定义。本发明专利技术还公开了包含式1的化合物的组合物和用于防治无脊椎害虫的方法,所述方法包括使所述无脊椎害虫或其环境与生物学有效量的本发明专利技术的化合物或组合物接触。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及适于农学和非农学用途的某些吡唑化合物、它们的N-氧化物、盐和它们的组合物,以及使用它们来防治无脊椎害虫诸如农学和非农学环境中的节肢动物的方法。
技术介绍
为了获得高作物效率,防治无脊椎害虫是极为重要的。无脊椎害虫对农作物生长和储存的损害会导致产量显著降低,从而造成消费者成本上升。对于林业、温室作物、观赏植物、苗圃作物、贮藏食物和纤维产品、牲畜、居室、草皮、木制品以及公共卫生和动物卫生,防治无脊椎害虫也是重要的。为此目的,有许多产品是可商购获得的,但是持续需要更有效、更经济、毒性更小、对环境更安全或具有不同作用位点的新型化合物。
技术实现思路
本专利技术涉及式1的化合物(包括所有几何异构体和立体异构体)、其N-氧化物和其盐,以及包含它们的组合物和它们在防治无脊椎害虫方面的用途:其中Q为R1为C1-C6烷基、C2-C6烯基或C2-C6炔基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、C(X)R5a、C(O)OR6a、C(X)NR7aR8a、NR9aR10a、OR12a、S(O)nR11a、SO2NR9aR10a、Si(R14)3和Z1:或R1为完全或部分饱和的3元至10元环或者完全或部分饱和的7元至11元环系,各环或环系包含选自碳原子和至多4个杂原子的环成员,所述杂原子独立地选自至多2个O、至多2个S、和至多4个N,其中至多3个碳原子环成员独立地选自C(=O)和C(=S),并且所述硫原子环成员独立地选自S、S(O)或S(O)2,各环或环系为未取代的或被1至4个R4取代;Z为被1至3个R4取代的苯基;或Z为5元或6元杂芳族环或者8元至10元杂芳族二环环系,各环或环系为未取代的或被1至3个R4取代:Z1为3元至10元环或7元至11元环系,各环或环系包含选自碳原子和至多4个杂原子的环成员,所述杂原子独立地选自至多2个O、至多2个S、和至多4个N,其中至多3个碳原子环成员独立地选自C(=O)和C(=S),并且所述硫原子环成员独立地选自S、S(O)或S(O)2,各环或环系为未取代的或被1至4个R4取代;R2a和R2c各自独立地为H、卤素、氰基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、OR12或S(O)nR11;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;R2b和R2d各自独立地为H、卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、OR12、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基,C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;或苯基或5元或6元杂芳族环,各环为未取代的或被1至3个R4取代;J1为直接键、-C(R3aR3b)-或-C(R3aR3b)C(R3aR3b)-;J2为直接键或-C(R3cR3d)-;M为-C(R3e)(A)-、-N(A1)-、-O-或-S(O)n-;A为卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C(O)R5a、C(O)OR6a、C(O)NR7aR8a、NR9aR10a、OR12a和S(O)nR11a;或苯基、5元或6元杂芳族环或7元至11元杂芳族环系,各环或环系为未取代的或被1至3个R4取代;A1为氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基,C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C(O)R5a、C(O)OR6a、C(O)NR7aR8a、NR9aR10a、OR12a和S(O)nR11a;或苯基、5元或6元杂芳族环或7元至11元杂芳族环系,各环或环系为未取代的或被1至3个R4取代;或为未取代的或被1至3个R4取代的苄基;每个R3a和R3c各自独立地为H、卤素、氰基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、OR12或S(O)nR11;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;每个R3b和R3d各自独立地为H、卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、OR12、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;或苯基或5元或6元杂芳族环,各环为未取代的或被1至3个R4取代;R3e为H、卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、OR12、NR9R10、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;或苯基或5元或6元杂芳族环,各环为未取代的或被1至3个R4取代;R3e和A能够与它们所连接的碳原子合在一起形成3元至7元环,所述环包含选自碳原子和至多2个杂原子的环成员,所述杂原子独立地选自一个氧、一个硫和至多2个氮原子,其中至多2个碳原子环成员独立地选自C(=O)和C(=S),并且硫原子环成员选自S、S(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种选自式1的化合物,其N‑氧化物或其盐,其中Q为R1为C1‑C6烷基、C2‑C6烯基或C2‑C6炔基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、C(X)R5a、C(O)OR6a、C(X)NR7aR8a、NR9aR10a、OR12a、S(O)nR11a、SO2NR9aR10a、Si(R14)3和Z1;或R1为完全或部分饱和的3元至10元环或者完全或部分饱和的7元至11元环系,各环或环系包含选自碳原子和至多4个杂原子的环成员,所述杂原子独立地选自至多2个O、至多2个S、和至多4个N,其中至多3个碳原子环成员独立地选自C(=O)和C(=S),并且所述硫原子环成员独立地选自S、S(O)或S(O)2,各环或环系为未取代的或被1至4个R4取代;Z为被1至3个R4取代的苯基;或Z为5元或6元杂芳族环或者8元至10元杂芳族二环环系,各环或环系为未取代的或被1至3个R4取代;Z1为3元至10元环或7元至11元环系,各环或环系包含选自碳原子和至多4个杂原子的环成员,所述杂原子独立地选自至多2个O、至多2个S、和至多4个N,其中至多3个碳原子环成员独立地选自C(=O)和C(=S),并且所述硫原子环成员独立地选S、S(O)或S(O)2,各环或环系为未取代的或被1至4个R4取代;R2a和R2c各自独立地为H、卤素、氰基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、OR12或S(O)nR11;或C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、C3‑C7环烷基、C4‑C8环烷基烷基或C3‑C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基和S(O)nR11a;R2b和R2d各自独立地为H、卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、OR12、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基,C3‑C7环烷基、C4‑C8环烷基烷基或C3‑C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基和S(O)nR11a;或苯基或5元或6元杂芳族环,各环为未取代的或被1至3个R4取代;J1为直接键、‑C(R3aR3b)‑或‑C(R3aR3b)C(R3aR3b)‑;J2为直接键或‑C(R3cR3d)‑;M为‑C(R3e)(A)‑、‑N(A1)‑、‑O‑或‑S(O)n‑;A为卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、C3‑C7环烷基、C4‑C8环烷基烷基或C3‑C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C(O)R5a、C(O)OR6a、C(O)NR7aR8a、NR9aR10a、OR12a和S(O)nR11a;或苯基、5元或6元杂芳族环或者7元至11元杂芳族环系,各环或环系为未取代的或被1至3个R4取代;A1为氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基,C3‑C7环烷基、C4‑C8环烷基烷基或C3‑C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C(O)R5a、C(O)OR6a、C(O)NR7aR8a、NR9aR10a、OR12a和S(O)nR11a;或苯基、5元或6元杂芳族环或者7元至11元杂芳族环系,各环或环系为未取代的或被1至3个R4取代;或者为未取代的或被1至3个R4取代的苄基;每个R3a和R3c各自独立地为H、卤素、氰基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、OR12或S(O)nR11;或C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、C3‑C7环烷基、C4‑C8环烷基烷基或C3‑C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基和S(O)nR11a;每个R3b和R3d各自独立地为H、卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、OR12、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、C3‑C7环烷基、C4‑C8环烷基烷基或C3‑C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、O...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.20 US 61/9065951.一种选自式1的化合物,其N-氧化物或其盐,
其中
Q为
R1为C1-C6烷基、C2-C6烯基或C2-C6炔基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述
取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、C(X)R5a、C(O)OR6a、C(X)NR7aR8a、NR9aR10a、OR12a、S(O)
nR11a、SO2NR9aR10a、Si(R14)3和Z1;或
R1为完全或部分饱和的3元至10元环或者完全或部分饱和的7元至11元环系,各环或环
系包含选自碳原子和至多4个杂原子的环成员,所述杂原子独立地选自至多2个O、至多2个
S、和至多4个N,其中至多3个碳原子环成员独立地选自C(=O)和C(=S),并且所述硫原子环
成员独立地选自S、S(O)或S(O)2,各环或环系为未取代的或被1至4个R4取代;
Z为被1至3个R4取代的苯基;或Z为5元或6元杂芳族环或者8元至10元杂芳族二环环系,
各环或环系为未取代的或被1至3个R4取代;
Z1为3元至10元环或7元至11元环系,各环或环系包含选自碳原子和至多4个杂原子的环
成员,所述杂原子独立地选自至多2个O、至多2个S、和至多4个N,其中至多3个碳原子环成员
独立地选自C(=O)和C(=S),并且所述硫原子环成员独立地选S、S(O)或S(O)2,各环或环系
为未取代的或被1至4个R4取代;
R2a和R2c各自独立地为H、卤素、氰基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、OR12或S(O)nR11;或C1-
C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取代
的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1-C4烷基、C1-
C4卤代烷基和S(O)nR11a;
R2b和R2d各自独立地为H、卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、OR12、S
(O)nR11或SO2NR9R10;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基,C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-
C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、
硝基、OR12a、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;或苯基或5元或6元杂芳族环,各环为未取
代的或被1至3个R4取代;
J1为直接键、-C(R3aR3b)-或-C(R3aR3b)C(R3aR3b)-;
J2为直接键或-C(R3cR3d)-;
M为-C(R3e)(A)-、-N(A1)-、-O-或-S(O)n-;
A为卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1-C6烷
基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取代的或
被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷
基、C(O)R5a、C(O)OR6a、C(O)NR7aR8a、NR9aR10a、OR12a和S(O)nR11a;或苯基、5元或6元杂芳族环或
者7元至11元杂芳族环系,各环或环系为未取代的或被1至3个R4取代;
A1为氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1-C6烷基、
C2-C6烯基、C2-C6炔基,C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取代的或被
至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、
C(O)R5a、C(O)OR6a、C(O)NR7aR8a、NR9aR10a、OR12a和S(O)nR11a;或苯基、5元或6元杂芳族环或者7
元至11元杂芳族环系,各环或环系为未取代的或被1至3个R4取代;或者为未取代的或被1至
3个R4取代的苄基;
每个R3a和R3c各自独立地为H、卤素、氰基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、OR12或S(O)nR11;或
C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯基,各自为未取
代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1-C4烷基、
C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;
每个R3b和R3d各自独立地为H、卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、OR12、
S(O)nR11或SO2NR9R10;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或
C3-C6环烯基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰
基、硝基、OR12a、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;或苯基或5元或6元杂芳族环,各环为
未取代的或被1至3个R4取代;
R3e为H、卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、OR12、NR9R10、S(O)nR11或
SO2NR9R10;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基、C4-C8环烷基烷基或C3-C6环烯
基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、
OR12a、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;或苯基或5元或6元杂芳族环,各环为未取代的
或被1至3个R4取代;
R3e和A能够与它们所连接的碳原子合在一起形成3元至7元环,所述环包含选自碳原子
和至多2个杂原子的环成员,所述杂原子独立地选自一个氧、一个硫和至多2个氮原子,其中
至多2个碳原子环成员独立地选自C(=O)和C(=S),并且硫原子环成员选自S、S(O)或S
(O)2,所述环为未取代的或被至多4个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基和C1-
C4烷基;
或当R2a、R2b、R2c、R2d、R3a、R3b、R3c、R3d或R3e中的任何两个独立地为C1-C4烷基时,则所述两
个R2a、R2b、R2c、R2d、R3a、R3b、R3c、R3d或R3e能够合在一起以形成环;
每个R4独立地为卤素、氰基、硝基、C(X)R5、C(O)OR6、C(X)NR7R8、NR9R10、OR12、S(O)nR11或
SO2NR9R10;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基或C4-C8环烷基烷基,各自为未取
代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1-C4烷基、
C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;
每个R5独立地为H;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基或C4-C8环烷基烷基,
各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、
C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;或苯基或5元或6元杂芳族环,各环为未取代的或被1
至3个R13取代;
每个R5a独立地为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基;
每个R6独立地为C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基或C4-C8环烷基烷基,各自
为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12a、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;或苯基或5元或6元杂芳族环,各环为未取代的或被1至3个
R13取代;
每个R6a独立地为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基;
每个R7和R8独立地为H;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C7环烷基或C4-C8环烷基
烷基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代基独立地选自卤素、氰基、硝基、
OR12a、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和S(O)nR11a;或苯基或5元或6元杂芳族环,各环为未取代的
或被1至3个R13取代;
每个R7a和R8a独立地为H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基;
每个R9和R10独立地为H、C(X)R5、C(O)OR6或C(X)NR7R8;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔
基,C3-C7环烷基或C4-C8环烷基烷基,各自为未取代的或被至少一个取代基取代,所述取代
基独立地选自卤素、氰基、硝基、OR12...

【专利技术属性】
技术研发人员:OK阿马德TF小帕胡特斯基
申请(专利权)人:纳幕尔杜邦公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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