【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请的主题与下列申请相关:于2012年4月20日提交的、申请号为13/452,145、题为“具有烟室的被动电弧管理系统(PassiveArcManagementSystemwithaFlueChamber)”的共同受让的美国申请;于2013年7月17日提交的、申请号为PCT/US13/50797、题为“电气设备的内部电弧管理和通风(InternalArcManagementandVentilationforElectricalEquipment)”的国际申请;于2014年9月30日提交的、申请号为14/501,946、题为“主断路器线路侧电源导体的被动电弧保护(PassiveArcProtectionforMainBreakerLineSidePowerConductors)”的美国申请;与本申请同时提交的申请号为14/585,477、题为“母线端部灭弧室(BusEndArcInterrupter)”的美国申请;及与本申请同时提交的申请号为14/585,518、题为“用于处理内部电弧的方法(MethodforTreatingInternalArcs)”的美国申请(分别地,案卷号CRC-0266、CRC-0275、CRC-0299、CRC-0300和CRC-0301),以上均通过引用将其整个地并入本文。专利
本专利技术大体涉及用于控制和限制由配电设备中的电弧造成的损害的方法和系统,更具体地,涉及用于降低内部电 ...
【技术保护点】
一种具有电弧转移特征的耐弧配电盘,包括:母线组,所述母线组在所述配电盘上,所述母线组在其中具有多条平行且间隔开的母线;相屏障,所述相屏障被纵向设置在相邻的母线之间且与所述母线实质上平行和等距;通道构件,所述通道构件被纵向安装在所述相邻的母线之间且包围所述相屏障的一侧使得所述通道构件与所述相屏障形成在所述相邻的母线之间纵向延伸的成形的过道;和电弧屏障,所述电弧屏障从所述通道构件的后侧实质上垂直于所述通道构件的后侧而伸出,使得当断路器连接到所述母线组时,所述电弧屏障、所述母线和所述通道构件与所述断路器形成蜿蜒的电弧通路,形成在所述相邻的母线之间的任何电弧被捕获在所述蜿蜒的电弧通路内;其中,在所述相邻的母线之间的所述蜿蜒的电弧通路内捕获的任何电弧,通过所述蜿蜒的电弧通路内的电弧爆炸压力而穿过所述通道构件中的开口转移到所述成形的过道内。
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
2014.12.30 US 14/585,7031.一种具有电弧转移特征的耐弧配电盘,包括:
母线组,所述母线组在所述配电盘上,所述母线组在其中具有多条平
行且间隔开的母线;
相屏障,所述相屏障被纵向设置在相邻的母线之间且与所述母线实质
上平行和等距;
通道构件,所述通道构件被纵向安装在所述相邻的母线之间且包围所
述相屏障的一侧使得所述通道构件与所述相屏障形成在所述相邻的母线
之间纵向延伸的成形的过道;和
电弧屏障,所述电弧屏障从所述通道构件的后侧实质上垂直于所述通
道构件的后侧而伸出,使得当断路器连接到所述母线组时,所述电弧屏障、
所述母线和所述通道构件与所述断路器形成蜿蜒的电弧通路,形成在所述
相邻的母线之间的任何电弧被捕获在所述蜿蜒的电弧通路内;
其中,在所述相邻的母线之间的所述蜿蜒的电弧通路内捕获的任何电
弧,通过所述蜿蜒的电弧通路内的电弧爆炸压力而穿过所述通道构件中的
开口转移到所述成形的过道内。
2.根据权利要求1所述的耐弧配电盘,其中,所述相屏障将转移到所
述成形的过道内的任何电弧朝向所述母线组的端部进行引导。
3.根据权利要求1所述的耐弧配电盘,还包括布置在所述通道构件内
的所述开口中的单向阀,所述单向阀阻止来自所述成形的过道的电弧气体
和等离子体的流进入所述蜿蜒的电弧通路。
4.根据权利要求1所述的耐弧配电盘,其中,所述通道构件重叠所述
相屏障的一部分,使得在所述成形的过道中在相邻的母线之间没有视线路
径。
5.根据权利要求1所述的耐弧配电盘,还包括连接到所述母线组的断
路器,所述断路器具有罩,所述罩具有从所述罩伸出的实质上平行的罩构
\t件,所述罩构件与所述母线和所述电弧屏障交错以在所述相邻的母线之间
形成所述蜿蜒的通路。
6.根据权利要求5所述的耐弧配电盘,还包括空隙填充物,所述空隙
填充物具有与所述断路器的罩和罩构件类似的罩和罩构件,当所述空隙填
充物附接到所述母线组时,所述空隙填充物的罩构件与所述母线和所述电
弧屏障交错,以和所述母线、所述通道构件和所述电弧屏障形成蜿蜒的电
技术研发人员:蒂莫西·法伯尔,卡梅伦·伍德森,
申请(专利权)人:施耐德电气美国股份有限公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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