真空控制阀制造技术

技术编号:13184196 阅读:65 留言:0更新日期:2016-05-11 15:40
本发明专利技术提供了一种真空控制阀,是包括由本体连接电磁阀,该本体内部设有第一容置室与第二容置室、以及由通道A、通道B、通道C所组成的多个通道;而第一容置室中的一端接口设有一真空发生器,能配合通道A与设有滑轴的第二容置室相通连,而一真空调整杆设于该第二容置室下方,通过通道B与第一容置室、以及通道C与第二容置室相通连,且该本体下方另设有一真空吸入口,能与通道B相通,当气体通过该本体内真空发生器产生真空吸力时,利用相互通连的多个通道,产生真空回吸的作用使该滑轴能得到有帮助的真空吸力,将该滑轴快速移动到最大行程,并缩减移动时间,让气体所供给压力,能降低损耗通过该真空发生器,以产生最大真空度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种真空控制阀,主要是利用电磁阀与真空发生器相结合后,进而利用该内部多个通道所产生回吸路径,加以导引真空发生器内部的真空吸力于滑轴,使滑轴可顺利达到最大位移,并传送全部的供给压力给真空发生器,此回吸作用可减低供给压力的消耗,使气体资源能获完善利用,以及减低资源浪费。
技术介绍
一般在市售现有产品中,如图8中所示,电磁阀9通常配合真空发生器91 (利用正压气源产生负压)使用,当气源于进气口 93输入后,通过本体95中所具向导孔94来传送压力,由该电磁阀9内的可动铁开关来供给压力给真空发生器91,而于真空吸入口 92产生真空,此为市售产品中常见的技术;其真空吸入口 92再通过配合吸盘进行各种物料的吸附与搬运用途,共同特点在于所需抽气量小,真空度要求不高且为间歇性工作。当真空发生器91所需流量增大时,因受限于电磁阀9的有效断面积,就必需更换有效断面积更大的电磁阀9,才能达到流量需求的目的,但其缺点在于电磁阀9体积会越换越大型,也同时增加产品的成本。
技术实现思路
对于现有的电磁阀与真空发生器的组设,由前述所知流量需配合电磁阀有效断面积增加,才能满足真空发生器的流量提高的目的,因此有需求者,则会通过本体配合有效断面积更大的电磁阀进行连接,来达成其目的;本专利技术的真空发生器的优点在于:能让相同尺寸的电磁阀,控制更大的真空发生器,不再因流量需求与电磁阀有效断面积大小而有所受限。其主要是在于滑轴的设计技术,当电磁阀激磁后,会供给压力给滑轴,并通过滑轴于电磁阀端的圆面积而产生推力,使滑轴克服弹簧预设的弹力,而产生移动动作;当该滑轴打开后,该真空发生器内部的供给压力由O逐渐增大,而所产生的真空度(负压)也逐渐增加,通过回吸作用于滑轴真空吸力端的圆面积则产生真空吸力,实时协助该滑轴继续前进,直到滑轴的最大行程,也同时产生最大真空度。本专利技术于电磁阀切换开关的所需时间,能由滑轴设计配合真空吸力,且于现有结构相比较下,所需时间也缩减许多,更因真空吸力的辅助下,使真空发生器所得到的供给压力几乎无损失,等同于电磁阀的供给压力,能达成前述优点。【附图说明】图1为本专利技术的立体图。图2为本专利技术的立体系统图。图3为本专利技术的剖面示意图。图4为本专利技术的气体作业与真空回吸路径示意图。图5为本专利技术的通道的局部剖面位置示意图。图6为本专利技术的滑轴受真空回吸向下的局部示意图。图7为本专利技术的滑轴回复定位的局部示意图。图8为现有技术的示意图。符号说明:I 本体151挡止部11第一容置室 16滑轴111接口161弹性组件112排气口162电磁阀端12第二容置室 163真空吸力端121进气口2 电磁阀13通道3 真空发生器131通道A4 气体132通道B5 真空吸力133通道CAl气体作业路径14真空吸入口 A2真空回吸路径15 真空调整杆9 电磁阀93进气口91 真空发生器 94向导孔92 真空吸入口 95本体【具体实施方式】通常根据本专利技术,该最佳的可行实施例,并配合附图详细说明后,以增加对本专利技术的了解;本专利技术是一种真空控制阀,本体I上方连接有一电磁阀2呈固定状,该本体I内部设有第一容置室11与第二容置室12、以及用以连接相通用途的多个通道13,且该多个通道13是由通道A131、通道B132、通道C133组成,而第一容置室11中设置有一个真空发生器3,其位置位于该第一容置室11 一端的接口 111,该第一容置室11的另一端则设有一排气口112 ;配合图1?图3所示,该第二容置室12位于第一容置室11的右边,此两者是通过该第一容置室11的接口 111,配合通道A131相连通于第二容置室12的侧缘,而该第二容置室12的侧缘还连接有一进气口 121,此外,该本体I下方设有一真空吸入口 14,且该真空吸入口 14通过本体I内部所设的通道B132相通连;一真空调整杆15其前端配设有一挡止部151,一并设于该本体I内部位于该第二容置室12的下方,该真空调整杆15能通过调节挡止部151,进而控制通过真空调整杆15的真空吸力5的强度或启闭该真空吸力5,而该第二容置室12下方还设有一通道C133用以相通连于该真空调整杆15,而前述的通道B132也相通连该真空调整杆15所设位置,由上述结构中,能得知本专利技术第一容置室11、第二容置室12、真空吸入口 14、以及真空调整杆15之间,通过多个通道13相互通连。而前述第二容置室12,还包含有一滑轴16,通过一弹性组件161 (本专利技术实施例中是以弹簧为例,能替换为具复位功能的相关构件,并不以此为限)配合置设于该第二容置室12内部,而该滑轴16上方设有一电磁阀端162、下方设有一真空吸力端163。请参阅图4?图5所示,当气体4经由进气口 121输入后,根据伯努利定律于同一管线的连续流体输入而言,配合图中为本体I内部未装各组件时的剖视图,更能清楚了解该气体作业路径Al的走向,而该第一容置室11下方通道B132,而让真空吸入口 14产生真空吸力5,以此吸附物品于生产制程中使用,此为本领域常见的设计技术。然而,本专利技术的特点是在于该通道B132设计,于前述结构说明亦有提及,该通道B132相通连该真空调整杆15所设位置,且通道C133通连第二容置室12,而该第二容置室12内所设滑轴16,因该通道C133的真空吸力5会将该滑轴16于气体4输入通过时,能加以辅助该滑轴16的下降速度,使输出气体4的流量能够更快达到预计输出值,且能减少电磁阀2的能源使用量;如图6所示为主,并辅以图3?图5参阅,此为第二容置室12的滑轴16受真空回吸作用的连续动作;由(A)可见为刚开始输入气体4,该滑轴16受到电磁阀2驱动而开始动作;⑶为该滑轴16已开始向下移动,此时气体4随气体作业路径A通过至排气口 112,而第一容置室11内通过通道B132与通道C133产生的真空回吸路径A2,将该滑轴16向下吸引产生移动动作;(C)为该滑轴16向下移动至该第二容置室12底端,此时的输入气体4能完全通过,此时的弹性组件161也被压缩至最大。如图7所示为主,并辅以图3?图5参阅,此为第二容置室12的滑轴16于真空回吸作用停止后的复位连续动作;由(D)可见当停止气体4输入后,该真空吸力5也会逐渐消失,该弹性组件161则会开始带动该滑轴16复位,经由(E)、(F)至初始状态。然而,本专利技术于该滑轴16上方的电磁阀端162的圆面积,需大于该滑轴16下方的真空吸力端163的圆面积,若两者面积相等或电磁阀端162的圆面积小于真空吸力端163的圆面积时,将产生滑轴16复位动作时,真空吸力5大于弹性组件161的复归力量,而产生故障情形(如滑轴无法复位、电磁阀无法关闭等)。以上所述仅是本专利技术的优选实施方式,需要指出的是,这些实施例仅用于说明本专利技术而不用于限制本专利技术的范围,而且,在阅读了本专利技术的内容之后,本领域相关技术人员可以对本专利技术做出各种改动或修改,这些等价形式同样落入本申请所附权利要求书所限定的范围。【主权项】1.一种真空控制阀,包括: 一本体,上方连接一电磁阀呈固定状,该本体内部设有第一容置室与第二容置室、以及用以连接相通的多个通道,而第一容置室中设有一真空发生器位于该第一容置室一端的接口,该第一容置室另一端则设有一排气口,而第二容置室侧缘配合该通道A,相对应于第一容本文档来自技高网...
真空控制阀

【技术保护点】
一种真空控制阀,包括:一本体,上方连接一电磁阀呈固定状,该本体内部设有第一容置室与第二容置室、以及用以连接相通的多个通道,而第一容置室中设有一真空发生器位于该第一容置室一端的接口,该第一容置室另一端则设有一排气口,而第二容置室侧缘配合该通道A,相对应于第一容置室一端的接口相通连,且第二容置室侧缘另连接一进气口,该本体下方另配合该通道B设有一真空吸入口;一真空调整杆,配合该通道C与该第一容置室、及真空吸入口相通连;一滑轴,配合弹性组件置设于该第二容置室内,且该滑轴下缘配合该通道与一真空调整杆相通连;当气体由进气口进入时,滑轴向下移动,气体依序通过第二容置室与第一容置室后,由排气口输出;其特征在于,当气体通过本体时,该第一容置室经通道B产生真空回吸作用,使第二容置室通过通道C与通道B相通连,使该滑轴同时受真空回吸作用,产生向下移动直至底部,以此能将该滑轴移动时间缩减,并让气体所供给压力,能降低损耗通过该真空发生器,以产生最大真空度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:游平政
申请(专利权)人:台湾气立股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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