感光性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜及其应用技术

技术编号:13120535 阅读:48 留言:0更新日期:2016-04-06 09:59
本发明专利技术提供一种感光性组合物、硬化膜及其制造方法、以及使用硬化膜的应用,感光性组合物即便在低温下进行加热的情况下,所得硬化膜的硬度也优异,且光刻的图案化性优异,进而所得显示装置的触控检测能力的稳定性优异。感光性组合物含有:聚合性单体、具有碱显影性基的化合物、光聚合引发剂、聚合抑制剂、分子内具有一个选自由三级氨基及芳香族含氮杂环基所组成的组群中的基团的胺化合物、以及溶剂,且聚合性单体含有分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基的聚合性单体,相对于感光性组合物的总固体成分量,胺化合物的含量为10质量%以下。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种感光性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、以及使用硬化膜的液 晶显示装置、有机电致发光(Electroluminescence,EL)显示装置、触摸屏及触摸屏显示装 置。
技术介绍
液晶显示装置、有机EL显示装置等平板显示器(flat panel display)被广泛使 用。近来,在这些显示器的制造工序中,从减少对基板或电路等的损伤(damage)、节能化等 观点来看,需要制造工序中的各种硬化膜的加热温度的低温化。 作为这种感光性组合物,例如专利文献1中记载了一种触摸屏的保护膜形成用感 放射线性树脂组合物及其形成方法,所述触摸屏的保护膜形成用感放射线性树脂组合物含 有(A)碱可溶性树脂、(B)选自式a及式b中的具有一个以上的乙烯性不饱和基的化合物、 及(C)感放射线性聚合引发剂。 (这里,X是选自氢原子、碳数1~6的烷基、丙烯酰基或甲基丙烯酰基中,至少一 个为丙烯酰基或甲基丙烯酰基。W表示碳数1~6的亚烷基、含有一个不饱和键的碳数2~ 6的亚烷基、亚苯基、环己基) 日本专利第5201066号公报
技术实现思路
然而,对于专利文献1中记载的感光性组合物来说,加热温度需要200°C以上,在 低温(例如180°C以下、进而150°C以下)下进行加热的情况下,无法获得充分的硬度。 本专利技术所欲解决的问题在于提供一种感光性组合物、使所述感光性组合物硬化而 成的硬化膜及其制造方法、以及使用所述硬化膜的液晶显示装置、有机EL显示装置、触摸 屏及触摸屏显示装置,所述感光性组合物即便在低温下进行加热的情况下,所得硬化膜的 硬度也优异,且光刻的图案化性优异,进而所得显示装置的触控检测能力的稳定性优异。 本专利技术的所述问题是通过以下的〈1>、〈11>、〈13>或〈16>~〈19>所记载的手段来 解决。以下与作为优选实施方式的〈2>~〈10>、〈12>、〈14>及〈15> -起记载。 〈1> 一种感光性组合物,含有;作为成分A的聚合性单体、作为成分B的具有碱显 影性基的化合物、作为成分C的光聚合引发剂、作为成分D的聚合抑制剂、作为成分E的分 子内具有一个选自由三级氨基及芳香族含氮杂环基所组成的组群中的基团的胺化合物、以 及作为成分F的溶剂,且成分A含有分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基的聚合性单 体,相对于感光性组合物的总固体成分量,成分E的含量为10质量%以下; 〈2>根据〈1>所记载的感光性组合物,其中相对于感光性组合物的总固体成分量, 成分E的含量为0. 5质量%~10质量% ; 〈3>根据〈1>或〈2>所记载的感光性组合物,其中成分B所具有的碱显影性基为羧 基; 〈4>根据〈1>至〈3>中任一项所记载的感光性组合物,其中成分B为分子内具有三 个以上的(甲基)丙烯酰基与一个以上的羧基的聚合性单体; 〈5>根据〈1>至〈4>中任一项所记载的感光性组合物,进一步含有烷氧基硅烷化合 物作为成分G ; 〈6>根据〈1>至〈5>中任一项所记载的感光性组合物,进一步含有无机粒子作为成 分Η ; 〈7>根据〈1>至〈6>中任一项所记载的感光性组合物,其中成分Ε是选自由吗啉衍 生物、哌啶或其衍生物、哌啶酮衍生物、苄胺衍生物及咪唑或其衍生物所组成的组群中; 〈8>根据〈1>至〈7>中任一项所记载的感光性组合物,其中成分D含有选自由吩噻 嗪、吩噁嗪及这些化合物的衍生物所组成的组群中的至少一种; 〈9>根据〈1>至〈8>中任一项所记载的感光性组合物,其中相对于感光性组合物的 总固体成分量,分子量超过10, 〇〇〇的聚合物成分的含量为25质量%以下; 〈10>根据〈1>至〈9>中任一项所记载的感光性组合物,其中相对于感光性组合物 的总固体成分量,分子量超过10, 〇〇〇的聚合物成分的含量为10质量%以下; 〈11> 一种硬化膜的制造方法,至少依次包括工序1~工序5, 工序1 :将根据〈1>至〈10>中任一项所记载的感光性组合物涂布在基板上的涂布 工序 工序2 :从所涂布的感光性组合物中除去溶剂的溶剂除去工序 工序3 :通过光化射线对经溶剂除去的感光性组合物的至少一部分进行曝光的曝 光工序 工序4 :通过水性显影液对经曝光的感光性组合物进行显影的显影工序 工序5 :对经显影的感光性组合物进行热处理的热处理工序; 〈12>根据〈11>所记载的硬化膜的制造方法,其中工序5中的热处理温度为 80°C ~180°C : 〈13> -种硬化膜,其是使根据〈1>至〈10>中任一项所记载的感光性组合物硬化而 成; 〈14>根据〈13>所记载的硬化膜,其为层间绝缘膜或外涂膜; 〈15>根据〈13>或〈14>所记载的硬化膜,其为触摸屏用外涂膜; 〈16> -种液晶显示装置,具有根据〈13>或〈14>所记载的硬化膜; 〈17> -种有机电致发光显示装置,具有根据〈13>或〈14>所记载的硬化膜; 〈18> -种触摸屏,具有根据〈13>至〈15>中任一项所记载的硬化膜; 〈19> 一种触摸屏显示装置,具有根据〈13>至〈15>中任一项所记载的硬化膜。 根据本专利技术,可提供一种感光性组合物、使所述感光性组合物硬化而成的硬化膜 及其制造方法、以及使用所述硬化膜的液晶显示装置、有机EL显示装置、触摸屏及触摸屏 显示装置,所述感光性组合物即便在低温下进行加热的情况下,所得硬化膜的硬度也优异, 且光刻的图案化性优异,进而所得显示装置的触控检测能力的稳定性优异。【附图说明】 图1表不有机EL显不装置的一例的构成概念图。且表不底部发光(bottom emission)型的有机EL显示装置中的基板的示意性截面图,具有平坦化膜4。 图2表示液晶显示装置的一例的构成概念图。且表示液晶显示装置中的有源矩阵 (active matrix)基板的示意性截面图,具有作为层间绝缘膜的硬化膜17。 图3表示具有触摸屏的功能的液晶显示装置的一例的构成概念图。 图4表示具有触摸屏的功能的液晶显示装置的另一例的构成概念图。 1、16、440 :TFT (薄膜晶体管) 2 :布线 3、8、280、420 :绝缘膜 4 :平坦化膜 5 :第一电极 6、14、15:玻璃基板 7、18、282:接触孔 10 :液晶显示装置 12 :背光单元 17 :硬化膜 19:IT0透明电极 20 :液晶 22、122、330 :彩色滤光片 110:像素基板 111、127:偏光板 112、123:透明基板 113、370:共通电极 114:绝缘层 115:像素电极 116、121、350 :取向膜 120:相向基板 124 :相位差膜 125:传感用检测电极 126 :接着层 130 :传感部 140、400 :液晶层 200 :下部显示板 210 :第1绝缘基板 220 :栅电极 240 :栅极绝缘膜 2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性组合物,其特征在于含有:作为成分A的聚合性单体、作为成分B的具有碱显影性基的化合物、作为成分C的光聚合引发剂、作为成分D的聚合抑制剂、作为成分E的分子内具有一个选自由三级氨基及芳香族含氮杂环基所组成的组群中的基团的胺化合物、以及作为成分F的溶剂,且成分A含有分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基的聚合性单体,相对于感光性组合物的总固体成分量,成分E的含量为10质量%以下。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:崎田享平米泽裕之
申请(专利权)人:富士胶片株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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