具有由掺杂硅墨水形成的掺杂表面触点的硅衬底和相应的方法技术

本发明专利技术涉及具有由掺杂硅墨水形成的掺杂表面触点的硅衬底和相应的方法。使用掺杂硅纳米粒子墨水和其它液体掺杂物来源可提供适合的掺杂物来源，以便如果提供适合的帽盖，就使用热工艺将掺杂物元素驱入晶体硅衬底中。适合的帽盖包括例如盖板、可能搁置于或可能不搁置于所述衬底的表面上的覆盖物、和覆盖层。可达成所需的掺杂物分布。所述掺杂纳米粒子可使用硅墨水传递。残留硅墨水可在掺杂物驱入后去除或至少部分致密化为并入产品装置中的硅材料。所述硅掺杂适合于将掺杂物引入晶体硅中以形成太阳能电池。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于使硅衬底掺杂的方法，所述方法包含：将包含掺杂物元素的掺杂物墨水沉积于所述硅衬底上以形成掺杂沉积物；在所述硅衬底上的所述掺杂沉积物上形成无机盖层；和加热所述硅衬底以将掺杂物原子驱入所述硅衬底中。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘国钧，乌马·斯里尼瓦桑，希夫库马尔·基鲁沃卢，
申请(专利权)人：纳克公司，
类型：发明
国别省市：美国;US