显示面板的制作方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:13055485 阅读:57 留言:0更新日期:2016-03-23 18:33
本发明专利技术提供了一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置,该显示面板的制作方法包括:在阵列基板母板上整面形成取向膜,所述阵列基板母板包括至少一个阵列基板,每一个所述阵列基板上设置有压接区域;将所述阵列基板母板与彩膜基板母板进行对盒,形成显示面板母板,所述彩膜基板母板包括与所述阵列基板母板上阵列基板一一对应的彩膜基板;对所述显示面板母板进行切割;去除所述压接区域上的取向膜。本发明专利技术不但能够避免取向膜厚度不均的边缘区域造成面板周边显示不良,而且还能避免取向膜覆盖在压接区域上造成对盒测试时的点灯异常和模组焊接异常。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示领域,尤其涉及一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置
技术介绍
液晶显示面板(TFT-1XD)具有显示质量高、功耗低、无辐射等优点,近几年发展十分迅速,并在各个领域得到了广泛的应用,现有的液晶显示面板主要包括阵列基板、彩膜基板和液晶层,在现有的液晶显示面板制作工艺中,需要在彩膜基板以及阵列基板(TFT基板)上涂布一层取向膜(PI膜),从而实现显示。图1是现有技术中在阵列基板母板上制作取向膜的示意图,阵列基板母板100’包括多个阵列基板110’,每个阵列基板110’上均包括位于阵列基板周边的压接区域111’(即Pad区域)和显示区域(虚线框112’内的区域),各阵列基板上的取向膜120’是分别采用涂布方式单独形成的,随着液晶显示技术的发展,TFT-LCD窄边框产品的需求越来越大,然而,由于窄边框工艺要求更小的取向膜边缘余量(Edge Margin),边框越窄,取向膜越易涂布到位于阵列基板周边的压接区域上,从而造成对盒测试(Cell Test)时的点灯异常和模组焊接(Bonding)异常,同时,由于目前制作的取向膜其边缘处均会产生厚度不均(Halo)的区域,越小的取向膜边缘余量(Edge Margin),所制作的取向膜的边缘距离显示区域越近,从而容易造成面板周边不良发生。
技术实现思路
(一 )要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题是:提供一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置,能够避免取向膜厚度不均的边缘区域造成面板周边显示不良,且还能避免取向膜覆盖在压接区域上造成对盒测试时的点灯异常和模组焊接异常。( 二)技术方案为解决上述技术问题,本专利技术的技术方案提供了一种显示面板的制作方法,包括:在阵列基板母板上整面形成取向膜,所述阵列基板母板包括至少一个阵列基板,每一个所述阵列基板上设置有压接区域;将所述阵列基板母板与彩膜基板母板进行对盒,形成显示面板母板,所述彩膜基板母板包括与所述阵列基板母板上阵列基板一一对应的彩膜基板;对所述显示面板母板进行切割;去除所述压接区域上的取向膜。优选地,所述去除所述压接区域上的取向膜的步骤位于所述切割之后;所述切割后,所述压接区域上的取向膜暴露出,所述去除所述压接区域上的取向膜包括:对于每一个阵列基板,以其上的彩膜基板为遮挡从而去除其上压接区域上的取向膜。优选地,所述去除所述压接区域上的取向膜的步骤位于所述对盒之前;所述去除所述压接区域上的取向膜包括:在所述阵列基板母板上形成光刻胶图案,所述光刻胶图案包括光刻胶去除区域和光刻胶保留区域,所述光刻胶去除区域对应所述压接区域;去除所述光刻胶去除区域的取向膜后剥离所述光刻胶图案。优选地,所述阵列基板母板包括多个阵列基板。优选地,采用湿刻工艺去除所述压接区域上的取向膜。优选地,所述湿刻工艺采用的温度为60摄氏度?70摄氏度。优选地,采用干刻工艺去除所述压接区域上的取向膜。优选地,所述干刻工艺采用的反应气体包括以下的至少一种:六氟化硫、氧气。为解决上述技术问题,本专利技术还提供了一种显示面板,所述显示面板采用上述的制作方法制成。为解决上述技术问题,本专利技术还提供了一种显示装置,包括上述的显示面板。(三)有益效果本专利技术提供的显示面板的制作方法,通过在阵列基板母板上整面形成取向膜,使所形成的取向膜厚度不均的边缘区域能够远离阵列基板的显示区域,而后再去除阵列基板压接区域上的取向膜,不但能够避免取向膜厚度不均的边缘区域造成面板周边显示不良,而且还能避免取向膜覆盖在压接区域上造成对盒测试时的点灯异常和模组焊接异常。【附图说明】图1是现有技术中在阵列基板母板上制作取向膜的示意图;图2是本专利技术实施方式提供的一种显示面板的制作方法的流程图;图3?6是本专利技术实施方式提供的一种制作显示面板的示意图;图7是本专利技术实施方式提供的一种采用湿刻工艺去除压接区域上取向膜的示意图;图8是本专利技术实施方式提供的另一种显示面板的制作方法的流程图。【具体实施方式】下面结合附图和实施例,对本专利技术的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术,但不用来限制本专利技术的范围。本专利技术实施方式提供了一种显示面板的制作方法,包括:在阵列基板母板上整面形成取向膜,所述阵列基板母板包括至少一个阵列基板,每一个所述阵列基板上设置有压接区域;将所述阵列基板母板与彩膜基板母板进行对盒,形成显示面板母板,所述彩膜基板母板包括与所述阵列基板母板上阵列基板一一对应的彩膜基板;对所述显示面板母板进行切割;去除所述压接区域上的取向膜。本专利技术实施方式提供的显示面板的制作方法,通过在阵列基板母板上整面形成取向膜,使所形成的取向膜厚度不均的边缘区域能够远离阵列基板的显示区域,而后再去除阵列基板压接区域上的取向膜,不但能够避免取向膜厚度不均的边缘区域造成面板周边显示不良,而且还能避免取向膜覆盖在压接区域上造成对盒测试时的点灯异常和模组焊接异常。其中,在本专利技术实施方式提供的显示面板的制作方法中,去除压接区域上的取向膜的步骤可以位于对盒之前,也可以位于切割之后。参见图2,图2是本专利技术实施方式提供的一种显示面板的制作方法的流程图,该制作方法包括S11?S14 ;S11:在阵列基板母板上整面形成取向膜,所述阵列基板母板包括至少一个阵列基板,每一个所述阵列基板上设置有压接区域;例如,对于图3所示的阵列基板母板,其上形成有多个阵列基板(TFT基板)110,每一个阵列基板上设置有显示区域(虚线框112内的区域)以及压接区域(Pad区域)111,在该阵列基板母板上涂布形成取向膜时,不需再对取向膜的图案以及边缘余量(EdgeMargin)进行管控,只需采用全涂布的方式在该阵列基板母板的整面上涂覆取向液,再进行固化(包括预固化和主固化)工艺,从而如图4所示在该阵列基板母板的整面上制作取向膜120,从图4可以看出,由于取向膜120在阵列基板母板整面形成,其边缘距离各阵列基板的显示区域较远,即使在固化的过程中取向膜的边缘处产生厚度不均的区域,也不会对显示区域造成不良影响;S12:将经过步骤S11处理后的阵列基板母板与彩膜基板母板进行对盒,形成显示面板母板,所述彩膜基板母板包括与所述阵列基板母板上阵列基板一一对应的彩膜基板(CF基板);当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:在阵列基板母板上整面形成取向膜,所述阵列基板母板包括至少一个阵列基板,每一个所述阵列基板上设置有压接区域;将所述阵列基板母板与彩膜基板母板进行对盒,形成显示面板母板,所述彩膜基板母板包括与所述阵列基板母板上阵列基板一一对应的彩膜基板;对所述显示面板母板进行切割;去除所述压接区域上的取向膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李伟罗会月申载官安赫宇黎关超
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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