本发明专利技术提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，该显示装置可以利用射到阵列基板的不透明图案的光线，从而提高背光源的利用率，进而改善因开口率低导致背光源利用率低的问题。一种阵列基板，包括：衬底、以及设置在所述衬底出光侧的不透明图案，还包括：与所述不透明图案对应、且设置在所述衬底入光侧的透明微结构，所述透明微结构用于通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径。本发明专利技术适用于阵列基板、包括该阵列基板的显示装置的制作。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
IXD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)已经广泛应用于显示领域中。IXD —般包括显示面板和背光源，其中，显示面板包括:对盒的彩膜基板和阵列基板、以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶。由于液晶本身不发光，LCD需要背光源提供光线以实现显不ο随着IXD行业不断向前发展，高分辨率IXD需求激增。高分辨率IXD中，阵列基板上的信号线(例如:数据线和栅线)排布非常密集。信号线一般由金属材料制成，而金属材料具有极强的反光能力，那么，当背光源发出的光垂直射向显示面板时，射到信号线上的光线会在背光源的反射片与信号线之间来回往返，这样，该部分光线不能用于显示，导致背光源的利用率较低。而当LCD的分辨率越高，如数据线和栅线等信号线排布越密集，那么LCD中不能透过光线的区域越大，即LCD的开口率越低，这样会进一步降低背光源的利用率。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，该显示装置可以利用射到阵列基板的不透明图案的光线，从而提高背光源的利用率，进而改善因开口率低导致背光源利用率低的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案:—方面，提供了一种阵列基板，包括:衬底、以及设置在所述衬底出光侧的不透明图案，还包括:与所述不透明图案对应、且设置在所述衬底入光侧的透明微结构，所述透明微结构用于通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径。可选的，所述阵列基板还包括:设置在所述衬底和所述透明微结构之间的反射层。可选的，所述透明微结构为微棱镜或微透镜。可选的，所述阵列基板还包括:设置在所述衬底的入光侧且覆盖所述透明微结构的透明层，其中，所述透明层的折射率和所述透明微结构的折射率不同。可选的，在所述透明微结构为凸透镜的情况下，所述透明微结构的折射率小于所述透明层的折射率；在所述透明微结构为凹透镜的情况下，所述透明微结构的折射率大于所述透明层的折射率。可选的，所述不透明图案为栅线和数据线，所述透明微结构与所述栅线和/或所述数据线对应。可选的，所述反射层的材料为金属，所述透明微结构和所述透明层的材料均为光阻。本专利技术的实施例提供了一种阵列基板，包括:衬底、以及设置在衬底出光侧的不透明图案，该阵列基板还包括:与不透明图案对应、且设置在衬底入光侧的透明微结构，透明微结构用于通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径。这样，该阵列基板应用到显示装置时，该阵列基板的透明微结构可以通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径，那么，该部分光线射到不透明图案的角度也随之改变，进而在经过不透明图案的反射后，可以重新利用该部分光线，使得该部分光线用于显示，从而提高背光源的利用率，进而改善因开口率低导致背光源利用率低的问题。另一方面，提供了一种显示装置，包括:背光源和显示面板，所述背光源包括:发光组件和反射片，其中，所述反射片位于所述发光组件中远离所述显示面板的一侧，所述显示面板包括:上述任一项所述的阵列基板。该显示装置可以利用射到阵列基板的不透明图案的光线，从而提高背光源的利用率，进而改善因开口率低导致背光源利用率低的问题。再一方面，提供了一种阵列基板的形成方法，所述方法包括:在衬底上形成透明微结构，所述透明微结构与所述衬底上的不透明图案对应、且设置在所述衬底入光侧，所述透明微结构用于通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径。可选的，在衬底上形成透明微结构之后，所述方法还包括:在所述衬底的入光侧形成覆盖所述透明微结构的透明层，其中，所述透明层的折射率和所述透明微结构的折射率不同。本专利技术的实施例提供了一种阵列基板的形成方法，通过该方法形成的阵列基板设置有透明微结构，该阵列基板应用到显示装置时，该阵列基板的透明微结构可以通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径，那么，该部分光线射到不透明图案的角度也随之改变，进而在经过不透明图案的反射后，可以重新利用该部分光线，使得该部分光线用于显示，从而提高背光源的利用率，进而改善因开口率低导致背光源利用率低的问题。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图一；图2a为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图二；图2b为沿图2a的C-D方向的剖面图；图3为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图三；图4为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图四；图5为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图五；图6为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图六；图7为沿图6的A-B方向的剖面图；图8为本专利技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图；图9为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的形成方法的流程示意图。附图标记:1-阵列基板；100_不透明图案；10_透明微结构；11_衬底；12_反射层；14_凸透镜；15-凹透镜；16-透明层；17_栅线；18-数据线；2_背光源；21_发光组件；22_反射片；3-显不面板；4_彩膜基板；5_液晶；300_光线。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，在本专利技术的描述中，“背光侧”是指靠近背光源的一侧，例如，不透明图案背光侧是指不透明图案靠近背光源的一侧。实施例一本专利技术实施例提供了一种阵列基板，参考图1所示，该阵列基板包括:衬底11、以及设置在衬底11出光侧的不透明图案100，该阵列基板还包括:与不透明图案100对应、且设置在衬底11入光侧的透明微结构10，透明微结构10用于通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径。上述阵列基板的不透明图案是指光线不能透过的薄膜或者层结构，当然，上述阵列基板还包括透明图案(即光线可以透过的薄膜或者层结构)。本领域技术人员根据公知常识以及现有技术可以获知，阵列基板可以包括栅线、数据线、公共电极线等信号线，进一步的，还可以包括薄膜晶体管和像素电极等，由于栅线、数据线、公共电极线和薄膜晶体管均采用不透光材料制作，因此，栅线、数据线、公共电极线和薄膜晶体管均可以是上述的不透明图案；而像素电极一般采用透明的IT0(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)制作，其可以是上述的透明图案。本专利技术实施例对于不透明图案和透明图案的结构不做限定，具体根据实际情况而定。上述阵列基板中，透明微结构与不透明图案对应是指:透明微结构在衬底上的投影的边界不超出不透明图案在衬底上的投影的边界。具体的，透明微结构在衬底上的投影的边界可以与不透明图案在衬底上的投影的边界重合，或者，透明微结构在衬底上的投影的边界可以位于不透明图案在衬底上的投影的边界以内。为了可以利用更多的射向不透明图案的光线，以进一步地提高背光源的利本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种阵列基板，包括：衬底、以及设置在所述衬底出光侧的不透明图案，其特征在于，还包括：与所述不透明图案对应、且设置在所述衬底入光侧的透明微结构，所述透明微结构用于通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张振宇，廖燕平，胡巍浩，夏天宇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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