本发明专利技术得到具有设置有间距分散良好的凸图案的磁记录层的磁记录介质及其制造方法以及磁记录再现装置。实施方式涉及的磁记录介质包含：在基板上依次形成的、具有包含多个凹部的凹部图案的氧化硅基底层、具有与凹部图案对应的包含多个孔的第1孔图案的非磁性基底层、和形成于非磁性基底层上并具有包含与该第1孔图案连通的多个孔的第2孔图案的磁记录层。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施方式涉及磁记录介质、磁记录介质的制造方法和磁记录再现装置。本申请以日本专利申请2014-175005号(申请日:2014年8月29日)为基础申请要求优先权。本申请通过参照该基础申请而包含基础申请的全部内容。
技术介绍
现在使用的CoCrPt-氧化物颗粒型的磁记录层中，随着记录密度的提高，需要减小CoCrPt粒子。但是，如果减小磁性粒子则热稳定性会降低。因此，曾提出了 PPM这样的介质。PPM中，在磁壁移动型的磁性层中形成孔(hole)和/或非磁性的钉扎位点(pinningsite)，采取通过将磁壁钉扎来维持位元的形态。对于钉扎位点的形成，可列举采用溅射成膜等在磁记录层中形成非磁性金属部的方法、利用具有孔凸的基底层在磁记录层中制作孔的方法等。在采用溅射成膜等形成非磁性的钉扎位点的方法中，理论上难以控制非磁性部的位置和形状，非磁性部的位置、形状的分散变大。另一方面，在用于阳极氧化氧化铝等的具有孔凸的基底的方法中，虽然在30nm以上的间距中，有报告改善位置和形状的分散，在磁记录层中形成孔的例子，但该尺寸下难以进行现有的记录密度以上的高密度化。另外，低于30nm时，难以将位置和形状的分散设为15%以下。
技术实现思路
本专利技术的课题在于得到一种具有设置有间距分散良好的凸图案的磁记录层的磁记录介质。根据实施方式，提供一种磁记录介质，其特征在于，具备:基板；形成于该基板上，并具有包含多个凹部的凹部图案的氧化硅基底层；形成于该氧化硅基底层上，并具有对应于该凹部图案的包含多个孔的第1孔图案的非磁性基底层；和形成于该非磁性基底层上，并具有包含与该第1孔图案连通的多个孔的第2孔图案的磁记录层。【附图说明】图1是表示实施方式涉及的磁记录介质的构成的模式截面图。图2A是表示实施方式涉及的磁记录介质的制造工序的一例的图。图2B是表示实施方式涉及的磁记录介质的制造工序的一例的图。图2C是表示实施方式涉及的磁记录介质的制造工序的一例的图。图3是表示实施方式涉及的磁记录介质的磁记录层的上表面形态的一例的模式图。图4是表示比较的磁记录层的上表面形态的一例的模式图。图5是磁记录层的表面SEM照片。图6是表示实施方式涉及的磁记录介质的静磁特性的图。图7是实施方式涉及的磁记录介质的截面SEM照片。图8是表示实施方式涉及的磁记录介质的再现波形的一例的图。【具体实施方式】实施方式涉及的磁记录介质，包含:基板；以及在基板上依次形成的、具有包含多个凹部的凹部图案的氧化硅基底层、具有包含多个孔的第1孔图案的非磁性基底层、和具有包含多个孔的第2孔图案的磁记录层。以规定图案排列的多个凹部、第1孔图案的多个孔、和第2孔图案的多个孔相互对应地配置。第1孔图案的多个孔和第2孔图案的多个孔被连通。再者，在此所说的孔，是指将膜整体贯穿的贯穿孔。其中，第1孔图案和第2孔图案需要连通。优选第1孔图案与第2孔图案一起被一体地形成贯穿孔，但即使在第1孔图案与第2孔图案仅仅稍微相连的情况下，只要第1孔图案与第2孔图案连通即可。另外，实施方式涉及的磁记录再现装置具有上述磁记录介质和磁头。根据实施方式，通过在具有以规定图案排列而成的包含多个凹部的凹部图案的氧化硅基底层上，依次形成取向控制用的非磁性基底层、和磁记录层，在磁记录层中，形成基于氧化娃基底层的凹部图案的孔，该孔作为PPM (Percolated Perpendicular Media)中的将磁壁停止的钉扎位点发挥功能。 实施方式涉及的磁记录介质的制造方法包括:制作形成氧化硅的材料和自组织化材料混合而成的涂布溶液，并在基板上涂布涂布溶液，使得到的涂布膜发生相分离，形成具有包含氧化硅材料和有机成分的海状的相、以及包含有机成分的岛状的相的海岛相。进行加热使有机成分分解，形成在相当于岛状的相的部分具有包含多个凹部的凹部图案的氧化硅基底层，在氧化硅基底层上形成非磁性基底层，在非磁性基底层上形成磁记录层。另外，作为自组织化材料使用例如二嵌段共聚物制作出的氧化硅的孔图案，有各孔的尺寸分散变小、例如变为15%以下的倾向，能够在磁记录层内形成均匀的钉扎位点。另外，可以将氧化硅基底层的多个凹部的直径设为10nm以上，并且将多个凹部以30nm以下的间距有规则地排列。通过将凹部的直径设为10nm以上，并将凹部间的距离设为30nm以下，能够将磁记录层中的孔间连结而形成磁记录层的晶界，由此能够利用钉扎位点阻止磁壁。以下，对于实施方式，参照附图进行说明。图1是表示实施方式涉及的磁记录介质的构成的模式截面图。如图所示，实施方式涉及的磁记录介质10，包含:基板1 ;形成于基板1上的具有包含多个凹部5的凹部图案的氧化硅基底层2 ;具有与凹部图案对应的包含多个孔6的第1孔图案的非磁性基底层3 ;和形成于非磁性基底层3上，并具有包含与第1孔图案连通的多个孔7的第2孔图案磁记录层4。图2A?图2C是表示图1所示的磁记录介质10的制造方法的一例的模式截面图。实施方式涉及的磁记录介质的制造方法中，首先，制作将氧化硅材料例如旋涂玻璃(S0G)和自组织化材料例如PS (聚苯乙烯)-ΡΕ0 (聚苯乙烯-聚氧化乙烯)二嵌段共聚物混合而成的涂布溶液。接着，采用例如旋涂法在基板上涂布涂布溶液，形成自组织化膜13。通过将自组织化膜13在例如三氯甲烷和辛烷的气氛下滞留5小时，使自组织化膜13发生相分离。由此，如图2A所示，形成海岛相，所述海岛相含有包含PS的岛状聚合物相12、和包围岛状聚合物相12并包含含有SOG的PEO的连续而成的海状聚合物相11。作为促进自组织化的方法，可以在室温的大气中滞留20小时。接着，通过在例如氮气氛下将基板加热到500°C，作为自组织化膜13中的有机材料的PS、PE0分解，如图2B所示，相当于岛状聚合物相12的部分成为凹坑5，形成在相当于海状聚合物相11的部分具有包含多个凹坑5的凹部图案的包含S0G的氧化硅基底层2。其后，在氧化硅基底层2上采用溅射形成非磁性基底层6。得到的非磁性基底层3具有对应于凹部图案的包含多个孔6的第1孔图案。接着，在非磁性基底层3上采用溅射形成磁记录层4。得到的磁记录层4具有包含与第1孔图案连通的多个孔7的第2孔图案。这样，得到如图1所示的磁记录介质。将形成于氧化硅基底层2的凹部5的直径设为A、间距设为L、磁记录层4的磁性粒的直径设为R，可以规定实施方式涉及的磁记录介质的条件。图3是表示实施方式涉及的磁记录介质的磁记录层的上表面形态的一例的模式图。在实施方式涉及的磁记录介质中，如图3所示，可将各孔7连结而形成磁记录层4的晶界11。通过该晶界11的构成，磁壁能够将孔连结而被钉扎。作为用于制作具有这样的当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种磁记录介质，其特征在于，具备：基板；氧化硅基底层，其形成于该基板上，并具有包含多个凹部的凹部图案；非磁性基底层，其形成于该氧化硅基底层上，并具有对应于该凹部图案的包含多个孔的第1孔图案；和磁记录层，其形成于该非磁性基底层上，并具有包含与该第1孔图案连通的多个孔的第2孔图案。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：渡部彰，及川壮一，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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