本实用新型专利技术提供了一种曝光镜头保护结构，其包括镜筒，所述镜筒内最底端镜片通过光学胶固定在镜筒内壁，所述镜片下端设置有保护玻璃，所述保护玻璃与镜筒内壁无缝连接，所述保护玻璃下方还设有若干通气结构，所述通气结构在镜筒内所述保护玻璃下方产生向下的气流。本实用新型专利技术提供的保护镜头可以隔绝曝光镜头和挥发油墨有机气体直接接触，同时提供的保护玻璃可以单独拆卸，方便更换，不对曝光镜头的成像质量产生影响；同时通过压缩过滤空气对保护玻璃下表面进行保护。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及PCB光刻机领域，尤其涉及PCB行业内用于对曝光镜头的保护结构。
技术介绍
光刻镜头是PCB光刻机的核心部件，光刻镜头在设计过程中需要考虑防灰尘，防有机挥发性气体进入。防焊油墨是PCB在PCB电路板制造中不可缺少的部分。但油墨具有挥发性，且属于有机气体，在曝光过程中，挥发的油墨必然会对曝光镜头产生污染，影响曝光镜头的质量，甚至导致曝光镜头无法使用，以至报废。
技术实现思路
本技术提供了一种曝光镜头保护结构，其包括镜筒，所述镜筒内最底端镜片通过光学胶固定在镜筒内壁，所述镜片下端设置有保护玻璃，所述保护玻璃与镜筒内壁无缝连接，所述保护玻璃下方还设有若干通气结构，所述通气结构在镜筒内所述保护玻璃下方产生向下的气流。较佳地，所述通气结构包括所述镜筒表面的通气口与设于所述通气孔内的通气管，所述通气管出口位于所述镜筒内朝下设置。较佳地，所述通气孔与通气管数量为多个，所述通气管口设于所述保护玻璃边缘的下方。较佳地，所述通气管通入的空气经过净化的不含有机气体的压缩空气。较佳地，，所述保护玻璃其下端连接有压圈，所述保护玻璃通过压圈与所述镜筒连接。较佳地，所述压圈通过螺纹与所述镜头连接。本技术具有以下有益效果:本技术提供的保护镜头可以隔绝曝光镜头和挥发油墨有机气体直接接触，同时提供的保护玻璃可以单独拆卸，方便更换，不对曝光镜头的成像质量产生影响；同时通过压缩过滤空气对保护玻璃下表面进行保护。当然，实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。【附图说明】为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例提供的曝光镜头保护结构示意图。【具体实施方式】下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。本技术实施例提供了一种曝光镜头保护结构，其包括镜筒2，镜筒2内最底端镜片1通过光学胶固定在镜筒2内壁，镜片1下端设置有保护玻璃5，保护玻璃5与镜筒2内壁无缝连接，保护玻璃5下方还设有若干通气结构，所述通气结构在镜筒2内保护玻璃5下方产生向下的气流。其中所述通气结构包括镜筒2表面的通气口与设于所述通气孔内的通气管4，通气管4出口位于镜筒2内并朝下设置。所述通气孔与通气管4数量为多个，通气管4的管口设于保护玻璃5边缘的下方。通气管4通入的空气经过净化的不含有机气体的压缩空气。保护玻璃5其下端连接有压圈3，保护玻璃5通过压圈3与镜筒2连接，压圈3通过螺纹与镜筒2连接。本技术提供的保护玻璃5可以通过压圈3单独拆卸更换。本技术提供的保护镜头可以隔绝曝光镜头和挥发油墨有机气体直接接触，同时提供的保护玻璃可以单独拆卸，方便更换，不对曝光镜头的成像质量产生影响；同时通过压缩过滤空气对保护玻璃下表面进行保护。以上公开的本技术优选实施例只是用于帮助阐述本技术。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该技术仅为所述的【具体实施方式】。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本技术的原理和实际应用，从而使所属
技术人员能很好地理解和利用本技术。本技术仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。【主权项】1.一种曝光镜头保护结构，其特征在于，包括镜筒，所述镜筒内最底端镜片通过光学胶固定在镜筒内壁，所述镜片下端设置有保护玻璃，所述保护玻璃与镜筒内壁无缝连接，所述保护玻璃下方还设有若干通气结构，所述通气结构在镜筒内所述保护玻璃下方产生向下的气流。2.如权利要求1所述的曝光镜头保护结构，其特征在于，所述通气结构包括所述镜筒表面的通气口与设于所述通气孔内的通气管，所述通气管出口位于所述镜筒内朝下设置。3.如权利要求2所述的曝光镜头保护结构，其特征在于，所述通气孔与通气管数量为多个，所述通气管口设于所述保护玻璃边缘的下方。4.如权利要求3所述的曝光镜头保护结构，其特征在于，所述通气管通入的空气经过净化的不含有机气体的压缩空气。5.如权利要求1所述的曝光镜头保护结构，其特征在于，所述保护玻璃其下端连接有压圈，所述保护玻璃通过压圈与所述镜筒连接。6.如权利要求5所述的曝光镜头保护结构，其特征在于，所述压圈通过螺纹与所述镜头连接。【专利摘要】本技术提供了一种曝光镜头保护结构，其包括镜筒，所述镜筒内最底端镜片通过光学胶固定在镜筒内壁，所述镜片下端设置有保护玻璃，所述保护玻璃与镜筒内壁无缝连接，所述保护玻璃下方还设有若干通气结构，所述通气结构在镜筒内所述保护玻璃下方产生向下的气流。本技术提供的保护镜头可以隔绝曝光镜头和挥发油墨有机气体直接接触，同时提供的保护玻璃可以单独拆卸，方便更换，不对曝光镜头的成像质量产生影响；同时通过压缩过滤空气对保护玻璃下表面进行保护。【IPC分类】G03F7/20, G02B7/02【公开号】CN205038436【申请号】CN201520536020【专利技术人】张磊, 王晓光, 卫功文 【申请人】合肥芯硕半导体有限公司【公开日】2016年2月17日【申请日】2015年7月21日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光镜头保护结构，其特征在于，包括镜筒，所述镜筒内最底端镜片通过光学胶固定在镜筒内壁，所述镜片下端设置有保护玻璃，所述保护玻璃与镜筒内壁无缝连接，所述保护玻璃下方还设有若干通气结构，所述通气结构在镜筒内所述保护玻璃下方产生向下的气流。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张磊，王晓光，卫功文，
申请(专利权)人：合肥芯硕半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
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