玻璃板的制造方法、及玻璃板的研磨装置制造方法及图纸

技术编号:12863047 阅读:45 留言:0更新日期:2016-02-13 11:35
本发明专利技术的目的在于提供一种可提高玻璃板的端面研磨效率的玻璃板的制造方法、及玻璃板的研磨装置。玻璃板的制造方法中,使由第1磁场形成构件(22)及第2磁场形成构件(23)所形成的磁场保持的研磨浆料(24),与第1磁场形成构件(22)及第2磁场形成构件(23)一起绕旋转轴(21)旋转,于此状态下,使玻璃板(92)的端部(92a)接触研磨浆料(24),而对端部(92a)进行研磨。利用磁通集中构件(25),使从第1磁场形成构件(22)朝向第2磁场形成构件(23)的磁通集中,从而增加磁通密度。磁通集中构件(25)是安装于第1磁场形成构件(22及第2磁场形成构件(23)上的磁性体。使玻璃板(92)的端部(92a),接触通过磁通集中构件(25)而磁通密度得到增加的空间所保持的研磨浆料(24)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术设及一种玻璃板的制造方法、及玻璃板的研磨装置
技术介绍
玻璃板在制造工序中,会被切断成所需的尺寸。例如,液晶显示器、等离子显示器 等平板显示器用玻璃基板、触控用玻璃基板、及保护用玻璃基板等的制造工序包含如下工 序,即,在称为母玻璃的大型玻璃板上形成划线而进行切断。玻璃板的切断面上通常会形成 细微裂痕或非常锋利的边缘。为了除去形成于该切断面的边缘,而进行切断面的倒角。例 如,W截面成为R形状的方式,对切断面进行倒角。经倒角后的切断面进一步通过使用研磨 轮的研磨加工而被精加工成镜面状。 在专利文献1 (国际公开第2012/067587号公报)中,公开了一种在玻璃板的端面 研磨加工中使用磁性流体的技术。使用磁性流体的研磨加工中,是在一对磁铁之间保持含 研磨粒的磁性流体,使玻璃板的端面接触磁性流体,于此状态下,使玻璃板的端面与磁性流 体相对移动,由此对玻璃板的端面进行研磨。利用磁性流体的研磨加工中,是使磁性流体追 随被加工物的形状而进行研磨加工,因此,对被加工物的损伤相对较少。因此,在玻璃板的 端面的研磨加工中使用保持磁性流体的研磨轮的情况下,与使用含金刚石研磨粒的研磨轮 的研磨加工相比,能获得更平滑的端面。 阳00引 国际公开第2012/067587号公报
技术实现思路
但是,在保持磁性流体的现有研磨轮中,一对磁铁周围的空间内存在的磁通的密 度较低,磁性流体的保持力不充分。因此,现有的研磨轮有如下问题:玻璃板的端面研磨效 率较低,为了获得所需品质的端面,要花费非常长的时间。因此,要求提高研磨轮的一对磁 铁周围的空间内存在的磁通的密度,增加磁性流体的保持力,W提高玻璃板的研磨效率。 本专利技术的目的在于提供一种可提高玻璃板的端面研磨效率的玻璃板的制造方法、 及玻璃板的研磨装置。 本专利技术的玻璃板的制造方法中,使被第1磁场形成构件及第2磁场形成构件所形 成的磁场保持的磁性体研磨粒,与第1磁场形成构件及第2磁场形成构件一起绕旋转轴旋 转,于此状态下使玻璃板的端部接触磁性体研磨粒,从而对端部进行研磨。该玻璃板的制造 方法中,利用磁通集中构件,使从第1磁场形成构件朝向第2磁场形成构件的磁通集中,从 而增加磁通的密度。磁通集中构件是安装于第1磁场形成构件及第2磁场形成构件上的磁 性体。该玻璃板的制造方法是使玻璃板的端部,接触被利用磁通集中构件而磁通密度得到 增加的空间保持的磁性体研磨粒。 该玻璃板的制造方法是如下方法,即,使玻璃板的端面接触绕旋转轴旋转的磁性 体研磨粒而进行研磨。磁性体研磨粒是被第1磁场形成构件及第2磁场形成构件所形成的 磁场保持。磁通集中构件设为,在保持磁性体研磨粒的空间的至少一部分空间内使磁通集 中,从而增加磁通的密度。在利用磁通集中构件而磁通密度得到增加的空间内,第1磁场形 成构件及第2磁场形成构件的磁性体研磨粒的保持力比其他空间内的保持力大。磁性体研 磨粒的保持力越高,那么在玻璃板的端面已接触磁性体研磨粒的情况下,磁性体研磨粒便 越难W移动。由此,因旋转的磁性体研磨粒而施加于玻璃板端面的研磨压力变高,玻璃板的 端面研磨能力也变高。因此,该玻璃板的制造方法可提高玻璃板的端面研磨效率。 此外,该玻璃板的制造方法优选为,在第1磁场形成构件与第2磁场形成构件之间 的空间、W及第1磁场形成构件及第2磁场形成构件的、旋转轴的径向外侧的空间的至少一 个空间内,磁通的密度因磁通集中构件而得到增加。 该玻璃板的制造方法中,W磁力线通过磁通集中构件之中的方式设置磁通集中构 件,该磁力线从第1磁场形成构件朝向第2磁场形成构件,且通过磁性体研磨粒所保持的空 间。由此,在与玻璃板端面接触的磁性体研磨粒所保持的空间内,磁通的密度增加。因此, 该玻璃板的制造方法可提高玻璃板的端面研磨效率。 此外,该玻璃板的制造方法优选为,第2磁场形成构件相对于第1磁场形成构件所 处一侧的相反侧的空间、W及第1磁场形成构件相对于第2磁场形成构件所处一侧的相反 侧的空间的至少一个空间内,磁通的密度因磁通集中构件而得到增加。 该玻璃板的制造方法中,W磁力线通过磁通集中构件之中的方式设置磁通集中构 件,该磁力线从第1磁场形成构件朝向第2磁场形成构件,且通过磁性体研磨粒所保持的空 间。由此,在与玻璃板端面接触的磁性体研磨粒所保持的空间内,磁通的密度增加。因此, 该玻璃板的制造方法可提高玻璃板的端面研磨效率。 本专利技术的玻璃板的研磨装置具备旋转轴、第1磁场形成构件、第2磁场形成构件、 磁性体研磨粒、及磁通集中构件。第1磁场形成构件连结于旋转轴,且绕旋转轴旋转。第2 磁场形成构件连结于旋转轴,且绕旋转轴旋转。磁性体研磨粒是被第1磁场形成构件及第 2磁场形成构件所形成的磁场保持。磁通集中构件是安装于第1磁场形成构件及第2磁场 形成构件上的磁性体。磁通集中构件使从第1磁场形成构件朝向第2磁场形成构件的磁通 集中,从而增加磁通的密度。被利用磁通集中构件而磁通密度得到增加的空间保持的磁性 体研磨粒,与第1磁场形成构件及第2磁场形成构件一起绕旋转轴旋转,于此状态下与玻璃 板的端部接触,而对端部进行研磨。 此外,该玻璃板的研磨装置优选为,磁通集中构件在第1磁场形成构件与第2磁场 形成构件之间的空间、W及第1磁场形成构件及第2磁场形成构件的、旋转轴的径向外侧的 空间的至少一个空间内,使磁通的密度增加。 此外,该玻璃板的研磨装置优选为,磁通集中构件至少安装于第1磁场形成构件 及第2磁场形成构件的、旋转轴的径向外侧,且具有磁通集中槽。磁通集中槽是如下槽,即, 在磁通集中构件的旋转轴的径向外侧的表面,与旋转轴的中屯、轴成直角。 该玻璃板的研磨装置中,玻璃板的端面与被形成于磁通集中构件的磁通集中槽的 内侧空间保持的磁性体研磨粒接触,而进行研磨。磁通集中构件W使磁通集中槽的内侧空 间的磁通密度增加的方式设置。 此外,该玻璃板的研磨装置优选为,磁通集中构件进一步在旋转轴的中屯、轴方向 安装于第1磁场形成构件及第2磁场形成构件的每一个。 该玻璃板的研磨装置中,W磁力线通过磁通集中构件之中的方式设置磁通集中构 件,该磁力线从第1磁场形成构件朝向第2磁场形成构件,且通过磁通集中槽。由此,磁通集 中槽中的磁通的密度增加。因此,该玻璃板的制造装置可提高玻璃板的端面研磨效率。另 夕F,磁通集中构件也可W设置于第1磁场形成构件与第2磁场形成构件之间。 此外,该玻璃板的研磨装置优选为,第1磁场形成构件在旋转轴的中屯、轴方向上 与第2磁场形成构件邻接。 此外,该玻璃板的研磨装置优选为,第1磁场形成构件及第2磁场形成构件具有尺 寸相同的圆筒形状。此外,第1磁场形成构件及第2磁场形成构件的中屯、轴优选位于旋转 轴的中屯、轴上。此外,磁通集中槽的位于旋转轴的径向最内侧的点、与旋转轴的中屯、轴之间 的距离,优选等于第1磁场形成构件及第2磁场形成构件的外径。 该玻璃板的研磨装置中,沿着旋转轴的中屯、轴观察的情况下,磁通集中槽的最深 的点位于与第1磁场形成构件及第2磁场形成构件的外周面相同的位置上。 此外,该玻璃板的研磨装置优选为,磁通集中构件使磁通集中槽的内侧空间的磁 通的密度增加。 本专利技术的玻璃板的制造方法、及玻璃板的研磨装置可提高玻璃板的端面研磨效 率。【附图说明】 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种玻璃板的制造方法,使由磁场形成构件所形成的磁场保持的磁性体研磨粒,与所述磁场形成构件一起绕旋转轴旋转,于此状态下,使玻璃板的端部接触所述磁性体研磨粒,而对所述端部进行研磨,所述磁场形成构件是包含供所述旋转轴贯通的上表面及下表面、以及位于所述旋转轴周围的侧面的圆筒形状的磁铁,且沿着所述旋转轴磁化,所述端部是在形成于所述侧面的研磨空间内被研磨,所述磁场形成构件在所述上表面、所述下表面及所述侧面安装有磁通集中构件,该磁通集中构件是将从所述上表面或所述下表面流出的磁力线导入所述研磨空间的磁性体。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:板仓慧三隅宝
申请(专利权)人:安瀚视特控股株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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