有机电致发光元件的制造方法和有机电致发光显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够抑制模糊宽度增大并且缩短成膜时间的有机EL元件的制造方法和有机EL显示装置。本发明专利技术是使用扫描蒸镀法的有机EL元件的制造方法，其特征在于，以与限制板的各开口部相对的方式在蒸镀源设置多个射出口，将与同一开口部相对的多个射出口相互分离地配置，使得由下述式(1)表示的分布之和为1以下。Ri表示与同一开口部相对的多个射出口中的射出口i的最大成膜速率，i表示1以上m以下的整数，m表示与同一开口部相对的多个射出口的个数，ri表示蒸镀工序中的射出口i的实际的成膜速率，ni为射出口i的n值(0以上的数)，θi表示将射出口i与成膜区域内的任意点连结的线段与主成膜方向所成的角。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】有机电致发光元件的制造方法和有机电致发光显示装置
本专利技术涉及有机电致发光元件(以下也称为有机EL元件)的制造方法和有机电致发光显示装置(以下也称为有机EL显示装置)。更详细而言，涉及适合于在大型基板上制造有机EL元件的有机EL元件的制造方法、和具备由该制造方法制造的有机EL元件的有机EL显示装置。
技术介绍
近年来，在各种商品和领域中应用了平板显示器，要求平板显示器进一步大型化、高画质化和低耗电化。在这样的状况下，具备利用有机材料的电场发光(ElectroLuminescence(电致发光)，以下也简记为EL)的有机EL元件的有机EL显示装置，作为全固体型且在低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优异的平板显示器，受到了高度的关注。有机EL显示装置例如在玻璃基板等基板上具有薄膜晶体管(TFT)和与TFT连接的有机EL元件。有机EL元件是能够通过低电压直流驱动进行高亮度发光的发光元件，具有依次叠层有第一电极、有机EL层和第二电极的结构。其中，第一电极与TFT连接。有机EL层具有空穴注入层、空穴输送层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子输送层、电子注入层等有机层叠层而得到的结构。全彩色显示的有机EL显示装置通常具备红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)的3色的有机EL元件作为子像素，这些子像素在基板上呈矩阵状排列，由3色的子像素构成像素。该显示装置通过使用TFT使这些有机EL元件有选择地以期望的亮度发光来进行图像显示。在这样的有机EL显示装置的制造中，与各色的子像素对应地，由有机发光材料形成发光层的图案。作为发光层图案的形成方法，近年来，提出了如下方法：使用比基板小型的掩模，在使基板相对于掩模和蒸镀源相对移动的同时进行蒸镀，由此，在比掩模大型的基板上形成有机EL元件(例如，参照专利文献1、2)。另外，作为与这样的方法相关的技术，公开了能够不生成单独膜、也没有浓度不均匀地进行共蒸镀的串联式成膜装置(例如，参照专利文献3)。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2011/034011号专利文献2：日本特开2012-193391号公报专利文献3：日本特开2009-127066号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题图15和图16是本专利技术的专利技术人进行了研究的扫描蒸镀法(在使基板移动(扫描)的同时进行蒸镀的方法)中的各部件的截面示意图。此外，图15和图16表示与基板的扫描方向正交的截面。如图15所示，在使用扫描蒸镀法形成有机EL元件的情况下，在蒸镀源的喷嘴157上依次配置限制板152、掩模153和基板170。为了防止在基板170的扫描过程中基板170与掩模153接触而损伤，基板170与掩模153分离地配置。因此，在基板170上形成的薄膜的图案171的轮廓会产生模糊(毛边)，导致实际的宽度W大于设计上的宽度w。另外，在膜厚一定的部分的两侧会产生膜厚逐渐减少的部分(以下也称为模糊部分)。本专利技术的专利技术人发现，当使成膜速率增大时，如图16所示，模糊部分的宽度(以下也称为模糊宽度)也增大。可以认为其原因是因为：当使成膜速率增大时，在喷出蒸镀流的喷嘴157附近，蒸镀颗粒的密度变高，蒸镀颗粒的平均自由程在局部变短，如在图16中用虚线表示的那样，喷嘴157假想地变大。当模糊宽度变大时，难以制作高精细面板和高性能面板。可以认为，在专利文献3中记载的技术中，当使成膜速率增大时，也会产生同样的技术问题。本专利技术是鉴于上述现状而做出的，其目的在于提供能够抑制模糊宽度增大并且缩短成膜时间的有机EL元件的制造方法和有机EL显示装置。用于解决技术问题的手段本专利技术的一个方案可以为一种有机电致发光元件的制造方法，上述制造方法可以包括蒸镀工序，在使基板与掩模分离的状态下，在使上述基板相对于1个以上的蒸镀源、限制板和上述掩模相对移动的同时，使蒸镀颗粒附着在上述基板上，形成薄膜的图案，上述1个以上的蒸镀源、上述限制板、上述掩模和上述基板可以依次配置，在上述限制板可以设置有多个开口部，在上述1个以上的蒸镀源，可以与上述多个开口部中的各个开口部相对地设置有多个射出口，在上述蒸镀工序中，可以在ri＜Ri的条件下进行蒸镀，与同一开口部相对的多个射出口可以相互分离地配置，使得由下述式(1)表示的分布之和为1以下。其中，Ri表示与上述同一开口部相对的上述多个射出口中的射出口i的最大成膜速率，i表示1以上m以下的整数，m表示与上述同一开口部相对的上述多个射出口的个数，ri表示上述蒸镀工序中的上述射出口i的实际的成膜速率，ni为上述射出口i的n值(0以上的数)，θi表示将上述射出口i与成膜区域内的任意点连结的线段与主成膜方向所成的角。以下，也将该有机电致发光元件的制造方法称为本专利技术的制造方法。以下对本专利技术的制造方法的优选实施方式进行说明。此外，以下的优选实施方式可以适当相互组合，另外，将以下的2个以上的优选实施方式相互组合而得到的实施方式也是优选实施方式之一。与上述同一开口部相对的上述多个射出口可以沿着上述基板的相对移动方向配置。与上述同一开口部相对的上述多个射出口的上述最大成膜速率、上述实际的成膜速率和上述n值可以相互相等。此外，在此，最大成膜速率相互相等是指其差为以下，实际的成膜速率相互相等是指其差为以下，n值相互相等是指其差为0.1以下。与上述同一开口部相对的上述多个射出口中的至少2个射出口的上述最大成膜速率、上述实际的成膜速率和上述n值中的至少1个可以相互不同。此外，在此，最大成膜速率相互不同是指其差大于实际的成膜速率相互不同是指其差大于n值相互不同是指其差大于0.1。当设与上述同一开口部相对的上述多个射出口中相距最远的2个射出口间的距离为D，设上述基板的相对移动方向上的上述掩模的开口的长度为A，设上述掩模的厚度为T，设上述掩模与上述2个射出口中的各个射出口的距离为L时，可以满足D≤A×(T+L)/T的关系。本专利技术的另一个方案可以为一种有机电致发光显示装置，其具备由本专利技术的制造方法制造的有机电致发光元件。本专利技术的又一个方案可以为一种蒸镀装置，其具备1个以上的蒸镀源、限制板和掩模，上述蒸镀装置，在使基板与上述掩模分离的状态下，在使上述基板相对于上述1个以上的蒸镀源、上述限制板和上述掩模相对移动的同时进行蒸镀，上述1个以上的蒸镀源、上述限制板、上述掩模和上述基板依次配置，在上述限制板设置有多个开口部，在上述1个以上的蒸镀源，与上述多个开口部中的各个开口部相对地设置有多个射出口。专利技术效果根据本专利技术，能够实现能够抑制模糊宽度增大并且缩短成膜时间的有机EL元件的制造方法和有机EL显示装置。附图说明图1是具备由实施方式1的有机EL元件的制造方法制造的有机EL元件的有机EL显示装置的截面示意图。图2是表示图1所示的有机EL显示装置的显示区域内的结构的平面示意图。图3是表示图1所示的有机EL显示装置的TFT基板的结构的截面示意图，相当于图2中的A-B线的截面。图4是用于对实施方式1的有机EL显示装置的制造工序进行说明的流程图。图5是实施方式1的发光层蒸镀工序中的各部件的立体示意图。图6是实施方式1的发光层蒸镀工序中的各部件的截面示意图。图7表示实际形成的薄膜的图案与该薄膜的图案的设定上的图案的X轴方向上的膜厚分布。图8是预测膜厚分布之和的计算用的射出口和基板的示意图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机电致发光元件的制造方法，其特征在于：所述制造方法包括蒸镀工序，在使基板与掩模分离的状态下，在使所述基板相对于1个以上的蒸镀源、限制板和所述掩模相对移动的同时，使蒸镀颗粒附着在所述基板上，形成薄膜的图案，所述1个以上的蒸镀源、所述限制板、所述掩模和所述基板依次配置，在所述限制板设置有多个开口部，在所述1个以上的蒸镀源，与所述多个开口部中的各个开口部相对地设置有多个射出口，在所述蒸镀工序中，在ri＜Ri的条件下进行蒸镀，与同一开口部相对的多个射出口相互分离地配置，使得由下述式(1)表示的分布之和为1以下，cos(ni+3)θi×ri/Ri  (i)，其中，Ri表示与所述同一开口部相对的所述多个射出口中的射出口i的最大成膜速率，i表示1以上m以下的整数，m表示与所述同一开口部相对的所述多个射出口的个数，ri表示所述蒸镀工序中的所述射出口i的实际的成膜速率，ni为所述射出口i的n值，该n值为0以上的数，θi表示将所述射出口i与成膜区域内的任意点连结的线段与主成膜方向所成的角。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.06.21 JP 2013-1311201.一种有机电致发光元件的制造方法，其特征在于：所述制造方法包括蒸镀工序，在使基板与掩模分离的状态下，在使所述基板相对于1个以上的蒸镀源、限制板和所述掩模相对移动的同时，使蒸镀颗粒附着在所述基板上，形成薄膜的图案，所述1个以上的蒸镀源、所述限制板、所述掩模和所述基板依次配置，在所述限制板设置有多个开口部，在所述1个以上的蒸镀源，与所述多个开口部中的各个开口部相对地设置有多个射出口，在所述蒸镀工序中，在ri＜Ri的条件下进行蒸镀，与同一开口部相对的多个射出口相互分离地配置，使得由下述式(1)表示的分布之和为1以下，其中，Ri表示与所述同一开口部相对的所述多个射出口中的射出口i的最大成膜速率，i表示1以上m以下的整数，m表示与所述同一开口部相对的所述多个射出口的个数，ri表示所述蒸镀工序中的所述射出口i的实际的成膜速率，ni为所述射出口i的n值，该n值为0以上的数，θi表示将所述射出口i与成膜区域内的任意点连结的线段与主...

【专利技术属性】
技术研发人员：井上智，菊池克浩，川户伸一，越智贵志，小林勇毅，市原正浩，松本荣一，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP