气室的密封方法技术

技术编号:12853302 阅读:136 留言:0更新日期:2016-02-11 17:37
本发明专利技术提供气室的密封方法,不给予气室主体、气室内部的气体热负荷而提高气室的密封的精度。气室的密封方法具备接合工序,在该接合工序中,利用光学元件使从激光光源照射的激光会聚于设置有将具有开口部的气室主体与堵住开口部的盖体接合的密封材料的气室主体与盖体的接合部分,而对接合部分进行加热,边使激光会聚于接合部分,边朝盖体按压气室主体的方向加压,从而将盖体与气室主体接合。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
公知一种密封电子部件、半导体的封装的技术。例如,在专利文献1记载了使用光学加热机构,边使照射功率维持分布,边使玻璃部件表面产生规定的温度分布而熔融密封部件。在专利文献2中记载了一种玻璃基板的密封系统,包括:激光加工组装体,其用于将沿着配置于玻璃基板之间的多个显示器封装而配置的密封材料加热熔融来形成气密性密封部;移送组装体,其用于向配置于激光加工组装体的下方的作业台供给玻璃基板;以及缓冲组装体,其以通过移送组装体向作业台连续地供给玻璃基板的方式持有玻璃基板,作业台包括:临时位置排列机构,其在移送组装体配置玻璃基板时对玻璃基板进行一次排列;精密排列机构,其用于对玻璃基板进行二次排列;以及多个喷射口,它们向与从激光加工组装体照射的光束照射方向对置的方向喷射空气。专利文献1:日本特开2002-137939号公报专利文献2:日本专利第4665260号公报然而,作为对由生物体的心脏等产生的磁场进行检测的生物磁测定装置,使用光栗浦式的磁传感器。该磁传感器使用封入有碱金属气体的气室。作为,具有利用盖体密封设置于气室的孔的方法。在密封该气室的工序中,存在如下情况:在利用密封材料接合气室主体与盖体的情况下,为了接合而加热密封材料,由此导致给予气室、气室内部的气体热负荷。专利文献1以及2所记载的技术,虽然能够通过在比较大的范围内的加热进行大范围的密封,但是无法提高微小的区域的密封的精度。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,不给予气室主体、气室内部的气体热负荷而提高气室的密封的精度。本专利技术提供一种,是气室的开口部的密封方法,其特征在于,采用使激光会聚的光学元件、与用于密封上述开口部的盖体,使上述激光会聚于用于将上述气室与上述盖体接合的密封材料,通过向按压上述盖体与上述气室的方向施加压力,将上述气室与上述盖体接合。根据该密封方法,不给予气室主体、气室内部的气体热负荷,而提高气室的密封的精度。在本专利技术的优选的方式中,其特征在于,上述压力是通过使用上述光学元件进行加压而产生的压力。根据该密封方法,与不利用光学元件进行加压的情况相比,能够使密封气室的密封部件的结构简单。在另一优选的方式中,其特征在于,上述加压的施力点在上述开口部的内侧。根据该密封方法,与施力点不位于开口部的内侧的情况相比,能够均衡地对盖体进行加压,密封的精度变高。在又一优选的方式中,其特征在于,上述气室与上述盖体的接合是在真空的状态下进行。根据该密封方法,在真空的状态下进行的气室的密封的精度变高。【附图说明】图1是表示磁测定装置的构成的框图。图2是气室阵列的外观图。图3是气室的剖视图。图4是表不气室的制造工序的流程图。图5是表示第一实施方式所涉及的的图。图6是表示第二实施方式所涉及的的图。图7是表示第三实施方式所涉及的的图。图8是表示第四实施方式所涉及的的图。图9是表示变形例1所涉及的的图。图10是表示变形例2所涉及的的图。符号说明:1...磁测定装置;10...气室阵列;11...气室;20...栗浦光照射单元;30...探测光照射单元;40...检测单元;111...主室;112...排气管;113...盖体;201...激光光源;202...透镜;203...加压用基板。【具体实施方式】1.第一实施方式(1)构成图1是表示一实施方式所涉及的磁测定装置1的构成的框图。磁测定装置1是将由心脏产生的磁场(心磁)或者由脑产生的磁场(脑磁)等由生物体产生的磁场作为生物体的状态的指标而进行测定的生物体状态测定装置。磁测定装置1具有气室阵列10、栗浦光照射单元20、探测光照射单元30以及检测单元40。气室阵列10具有多个气室。在气室内封入有碱金属气体(例如,铯(Cs))。栗浦光照射单元20输出与碱金属原子相互作用的栗浦光(例如,相当于铯的D1线的波长894nm的光)。栗浦光具有圆偏振光成分。若照射栗浦光,则激发碱金属原子的最外壳电子,产生自旋极化。自旋极化后的碱金属原子通过被测定物所产生的磁场B而进行进动。一个碱金属原子的自旋极化随着时间的经过而缓和,但是由于栗浦光为CW(Continuous Wave)光,因此自旋极化的形成与缓和同时平行且连续地重复。其结果为,若作为原子的集团整体来看,则形成稳定的自旋极化。探测光照射单元30输出具有直线偏振光成分的探测光。在穿透气室的前后,探测光的偏振面因法拉第效应而旋转。偏振面的旋转角是磁场B的函数。检测单元40检测探测光的旋转角。检测单元40具有:光检测器,其输出与入射的光的光量对应的信号;处理器,其处理信号;以及存储器,其存储数据。处理器使用从光检测器输出的信号来计算磁场B的大小。处理器将表示计算出的结果的数据写入存储器。这样,用户能够得到由被测定物产生的磁场B的信息。图2是气室阵列10的外观图。在该例子中,气室阵列10具有在xy平面上二维配置的多个(2X2个)气室11。图3是构成气室阵列10的气室11的II1-1II剖视图。该剖面与xz平面平行。气室11是在内部封入有碱金属气体的长方体的室(箱)。气室11使用石英玻璃或者硼硅酸盐玻璃等具有透光性的材料而形成。气室11例如通过玻璃成型而制造。此外,气室11也可以通过玻璃加工而形成。气室11具有封入碱金属气体的主室111。主室111通过排气管112朝向外部开口。排气管112形成为管状的形状。排气管112的一端连接于真空栗(省略图示),经由排气管112进行排气或者根据需要封入碱金属气体。排气管112的开口部被盖体113密封。盖体113是由与气室11的主体相同的材料(例如,石英玻璃)制造。在盖体113,在与包围气室11的排气管112的开口部的位置对置的位置,涂覆密封材料。利用该密封材料将盖体113与气室主体接合,来密封气室11。盖体113的与排气管112接合的接合面优选表面粗糙的所谓梨皮面,以便提高与密封材料的接合强度。在该例子中,密封材料使用熔点比气室11的主体的材料的玻璃低的低熔点玻璃料。(2)制造方法 图4是表不气室11的制造工序的流程图。在步骤S10(涂敷工序)中,在气室11的内壁形成涂层。涂层例如使用石蜡。涂层通过干法或者湿法而涂覆。在步骤S20(安瓿收纳工序)中,在气室11收纳安瓿。在安瓿的内部封入碱金属固体。在步骤S30(密封工序)中,密封气室11。气室11的密封是在真空加热的环境下进行。图5是表示气室11的密封方法的图。在图5所示的例子中,使用激光光源201、透镜202、加压用基板203实现气室11的密封。激光光源201照射用于加热气室11的主体与盖体113的接合部分的激光P。透镜202是对从激光光源201照射的激光P进行会聚的光学元件。在盖体113与气室11的主体的接合部分Q,在包围气室11的开口部的位置环形地涂覆密封材料204。在该例子中,密封材料204也可使用在较高的温度下进行接合的材料。在气室11的接合部分Q重叠配置盖体113。进而在盖体113的上方配置加压用基板203来作为密封材料204的加压机构。激光光源201与透镜202以激光通过透镜202会聚于接合部分Q的位置关系来设置。加压用基板203是向盖体113按压于气室11的主体的方向加压的加压机构。在该例子中,作为加压用基板203,使用供激光穿透的透明基板。通过透镜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气室的密封方法,是气室的开口部的密封方法,其特征在于,采用使激光会聚的光学元件、与用于密封所述开口部的盖体,使所述激光会聚于用于将所述气室与所述盖体接合的密封材料,通过向按压所述盖体与所述气室的方向施加压力,将所述气室与所述盖体接合。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:藤井永一长坂公夫
申请(专利权)人:精工爱普生株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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