【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种适用于诸如显微镜等的光学设备的焦点检测单元以及光学设备。
技术介绍
精确地检测焦点的技术已在诸如测量显微镜的光学设备中有所研究。例如，日本特开平(Hei)10-142515号公开了使用插入系统的焦点检测单元。该焦点检测单元在显微镜光学系统的像平面上形成视线双光束的图像和视线单光束的图像，将该图像投射到所观察的物体上，并将视线单光束调整为夹在视线双光束的中央，从而获得焦点。如日本特开平(Hei)10-142515号的图1所示，使用棱镜18将视线双光束和视线单光束彼此分开。与相关技术中的插入系统相比，这可以简化光学系统，并形成紧凑的焦点检测单元(日本特开平(Hei)10-142515号的第[0024]-[0026]段)。
技术实现思路
近年来，随着工件的微型化，进一步要求实现高精度化的焦点调整。在日本特开平(Hei)10-142515号公开的上述焦点检测单元中，采用狭缝掩模形成视线双光束和视线单光束。因此，投射到物体上的图案的形状、投射位置等是受限制的，因此存在无法满足实现高精度化的要求的可能性。鉴于以上情况，期望提供能够高精度地调整焦点的焦点检测单元和光学设备。根据本专利技术一实施例提供一种焦点检测单元，用于调整光学系统所形成的物体的图像的焦点，所述焦点检测单元包括：第一出射部，包括第一光调制元件，所述第一光调制元件被配置为基于入射光生成第一图案图像，所述第一出...
【技术保护点】
一种焦点检测单元，用于调整光学系统所形成的物体的图像的焦点，所述焦点检测单元包括：第一出射部，包括第一光调制元件，所述第一光调制元件被配置为基于入射光生成第一图案图像，所述第一出射部被配置为射出所生成的第一图案图像；第二出射部，包括第二光调制元件，所述第二光调制元件被配置为基于入射光生成第二图案图像，所述第二出射部被配置为射出所生成的第二图案图像；以及投射光学系统，其被配置为投射所射出的第一图案图像和所射出的第二图案图像，使得所射出的第一图案图像和所射出的第二图案图像在所述光学系统的聚焦位置处具有预定位置关系。
【技术特征摘要】
2014.05.28 JP 2014-1103621.一种焦点检测单元，用于调整光学系统所形成的物体的图像的焦点，
所述焦点检测单元包括：
第一出射部，包括第一光调制元件，所述第一光调制元件被配置为基于
入射光生成第一图案图像，所述第一出射部被配置为射出所生成的第一图案
图像；
第二出射部，包括第二光调制元件，所述第二光调制元件被配置为基于
入射光生成第二图案图像，所述第二出射部被配置为射出所生成的第二图案
图像；以及
投射光学系统，其被配置为投射所射出的第一图案图像和所射出的第二
图案图像，使得所射出的第一图案图像和所射出的第二图案图像在所述光学
系统的聚焦位置处具有预定位置关系。
2.根据权利要求1所述的焦点检测单元，其中，
所述第一图案图像具有第一中心部；
所述第二图案图像具有第二中心部；以及
所述投射光学系统投射所述第一图案图像和所述第二图案图像，使得所
述第一中心部和所述第二中心部在所述聚焦位置处彼此邻接。
3.根据权利要求1或2所述的焦点检测单元，其中，
所述第一光调制元件能够改变所述第一图案图像的形状；以及
所述第二光调制元件能够将所述第二图案图像的形状改变为与所述第
一图案图像的改变后的形状相对应的形状。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的焦点检测单元，其中，
所述第一光调制元件包括多个第一像素，并且能够改变所述多个第一像
素中的形成所述第一图案图像的第一图案图像像素的位置；以及
所述第二光调制元件包括多个第二像素，并且能够将所述多个第二像素
中的形成所述第二图案图像的第二图案图像像素的位置改变为与所述第一
\t图案图像像素的改变后的位置相对应的位置。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的焦点检测单元，其中，
所述第一光调制元件生成多个第一图案图像；
所述第二光调制元件生成分别与所述多个第一图案图像相对应的多个
第二图案图像；以及
所述投射光学系统将所述多个第一图案图像和分别与所述多个第一图
案图像相对应的所述多个第二图案图像投射到不同的投射位置，使得所述多
个第一图案图像中的各第一图案图像和所述多个第二图案图像中的对应第
二图案图像在所述光学系统的聚焦位置处具有所述预定位置关系。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的焦点检测单元，其中，
所述第一出射部射出具有预定颜色的所述第一图案图像；以及
所述第二出射部射出具有与所述预定颜色相对应的颜色的所述第二图
案图像。
7.根据权利要求6所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：森内荣介，长滨龙也，宍户裕子，
申请(专利权)人：株式会社三丰，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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