一种皮带输送平面转弯系统技术方案

本发明专利技术涉及一种皮带输送平面转弯系统，包括直输送段和转弯输送段，在转弯输送段处设有气室，气室的上端设有气室盘槽，所述转弯输送段气室盘槽内侧的开孔率为气室盘槽外侧开孔率的１．５－３倍。普通皮带输送在转弯时，输送带内侧受到挤压应力，具有跑直的特性，容易造成气室与输送带间的摩擦。本发明专利技术通过对盘槽开孔的合理布置，加大了气室内曲面的气量，很好的控制、稳定侧向弯道力，平衡离心力，很好的实现输送带的转弯过程。

【技术实现步骤摘要】
一种皮带输送平面转弯系统
本专利技术涉及输送机械领域，更具体的说，涉及一种皮带输送平面转弯系统。
技术介绍
输送机械是工业上常用到的设备，尤其在建材、化工、矿山、码头、仓 库、车站、货场、粮站等行业和场所皆可使用，它是一种广泛通用的输送机 械。气垫带式输送机是八十年代国际和国内发展起来的新型的连续输送设 备。主要用于散体物料(砂、石、煤、铁砂、水泥、粘土等)的运输，也可用于成件(如袋装水泥、粮食等)物品的输送，其工作原理是来自鼓风机的压 力空气进入气箱，经过气箱面板上的气孔进入面板与输送带(连同物料)之 间。在正确选择气垫参数条件下，该处可形成气垫，托起输送带和物料。当 输送带以一定速度运动时，在气箱面板与输送带下表面之间，便形成气体摩 擦，使拖动机输送带的阻力大为降低，拖动功率大为减少，节能效果显著。 与托辊机相比，节能在25%以上。其次，因阻力小，且气垫沿输送方向是连 续的，输送带运行稳定而不颠簸，所以输送速度可大为提高，运输效率可提 高一倍以上。当有跑偏现象出现时，由于气垫压力自调节作用，将输送带跑 偏量限制在很小范围内， 一般跑偏量只为托辊机的一半。由于托辊数量减少 90°/。左右，维^oi作量及相应费用减少60%以上。目前国内外的气垫式皮带输送系统，由于无法成功解决平面转弯问题， 在超长距离输送中，只好在转弯路段采用分段方法。这种分段方法，需要先将前段输送的物料倒入料仓内，再经过一系列的控制系统，将料仓内的物料 转入后段输送。采用分段方法，需要配置承料仓，转料机构、闸板阀、螺旋输送机、控制仪表、设置控制点等设备，增加的设备和施工成本约在60-70 万元以上。这种增加过度环节的方法，增加了设备成本且无法实现输送高速 运行，若速度不匹配还会发生物料堆滞现象。同时，倒料的过程还会对物料 本身产生损耗，使物料的价值降低。以运煤为例，粒度适中的煤块在变成煤 粉后，销售价-格将至少降低10-20%。因此，亟需一种带有转弯系统的皮带输 送装置来解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题，在于提供了一种能降低成本，且能实现输 送高速运行的皮带输送平面转弯系统。为解决上述技术问题，专利技术人进行了一系列的研究，其技术方案如下 一种皮带输送平面转弯系统，包括直输送段和转弯输送段，在转弯输送段处 设有气室，气室的上端设有气室盘槽，所述转弯输送段气室盘槽内侧的开孔 率为气室盘槽外侧开孔率的1. 5 - 3倍。所述直输送段处设有气室，所述气室上端的气室盘槽沿输送带中心线呈 对称分布，其气室盘槽两侧和中部的开孔率为其它部分开孔率的1. 5 - 3倍。所述转弯输送段的气室为弧形，所述气室盘槽内侧的曲率半径小于气室 盘槽外侧的曲率半径。所述转弯输送段的气室盘槽外侧的曲率半径和气室盘槽中部的曲率半 径相同，所述的气室盘槽内侧的曲率半径小于气室盘槽外侧的曲率半径。转弯输送段处，气室盘槽内侧的曲率半径为气室盘槽外侧曲率半径的 0. 1 - 0. 5倍。所述输送带宽为l-2m,气室盘槽角度为25。-60。，所述气室盘槽外侧的曲率半径为450mm- 2300mm。当转弯输送段处的平面转弯曲率半径增大或减小时，转弯处气室盘槽内 侧的曲率半径也随之增大或减小。所述转弯输送段的起点段设有摩擦传动装置。所述摩擦传动装置包括传动滚筒、绕传动滚筒旋转的传动带及带动传动 滚筒旋转的传动电机，所述传动带与承载带贴合。 本专利技术的有益效果是在转弯输送段设置有气室盘槽，气室内侧的盘槽开孔数大于外侧盘槽开孔数；转弯时，输送带内侧受到挤压应力，具有跑直的特性，容易造成气室 与输送带间的摩擦，通过对盘槽开孔的合理布置，加大了气室内曲面的气量， 很好的控制、稳定侧向弯道力，平衡离心力。在水平转弯的起始段配置了辅 助的摩擦传动装置，降低了转弯起点的张力，因此，可以进一步减少曲率半 径，可使转弯角度变得更大。采用上述技术手段，可以实现皮带输送的平面 转弯。附图说明图1为本专利技术皮带输送机输送带平面图2为本专利技术直输送段气室盘槽截面示意图3为本专利技术转弯输送段气室盘槽截面示意图4为本专利技术直输送段气室盘槽开孔分布结构示意图5为本专利技术转弯输送段气室盘槽开孔分布结构示意图6为配置有辅助摩擦传动装置的平面示意图7为图6中的摩擦传动装置结构示意图8为本专利技术受力分析图。附图中，各标号所代表的部件列表如下1、输送带 2、气室 3、气室盘槽内侧 4、气室盘槽外侧5、摩擦传 动装置6、传动滚筒7、传动带8、气室盘槽中部具体实施方式以下结合附图对本专利技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本 专利技术，并非用于限定本专利技术的范围。本专利技术同样可以用于直输送段为非气垫式的带式输送设备，在转弯输送 段的上下输送带1之间设置有气室装置即可实现转弯功能。以下主要针对气 垫式带式输送机进行描述。如图l所示，是带有转弯输送段的平面结构示意图，其中直输送段气室 盘槽截面结构如图2所示，转弯输送段气室盘槽截面结构如图3所示。其中， 气室盘槽的横截面为弧形，直输送段气室盘槽截面呈对称分布，转弯输送段 气室盘槽截面左右不对称，其中气室盘槽外侧4的曲率半径和气室盘槽中部 8的曲率半径相同，气室盘槽内侧3的曲率半径R2小于气室盘槽外侧4的曲 率半径Rl,即气室盘槽内侧3的高度要高于气室盘槽外侧4的高度。设定带 宽为1 ~ 2米、盘槽角6为25 ~ 60度、外侧曲率半径Rl范围450mm~ 2300mm、 内侧曲率半径R2的范围为(0. 1 ~ 0. 5 ) Rl。其中转弯输送段的平面转弯曲 率半径p同气室盘槽内侧3弧线的曲率半径R2变化一致，即，当转弯输送 段处的平面转弯曲率半径p增大或减小时，转弯处气室盘槽内侧3的曲率半 径R2也随之增大或减小，具体可以从表1中的实验数据中看出。在高速运 行状况下，由于输送段气室盘槽内侧3的外端被抬高，可以避免由于气室盘 槽内侧3受挤压应力的作用使气室2同输送带1产生摩擦，气室盘槽内侧3 外端的抬高量随着转弯角度(3的曲率半径p的变化而变化，转弯竭度P越 大，气室盘槽内侧3外端的抬高量也越大。图4为直输送段气室盘槽开孔分布示意图，从图中可以看出，直输送段气室盘槽的开孔分布为对称结构，两侧和中部开孔率较大，其他位置的开孔率较小，两侧和中部的开孔率为其他位置开孔率的1. 5 - 3倍。图5是转弯输送段气室盘槽开孔分布示意图，从图中可以看出，转弯输 送段的气室盘槽外侧4处的开孔率同直输送段两侧的开孔率相同，气室盘槽 内侧3处的开孔率为气室盘槽外侧4处的开孔率的1. 5 - 3倍。此种开孔分 布有利于调整气膜压力，使此段输送带1在气孔喷出的气流和气膜压力的共 同作用下形成反作用力，用来平衡转弯时在输送带上所产生的离心力，有利 于输送带1的平稳转弯。图6是在水平转弯的起点段配置有辅机摩擦传动装置5，通过此装置可 以对转弯输送段的输送带l施加一驱动力，降低转弯起始点所受的张力，由 于降低了输送带转弯起点所受的张力，进而可以适当减少转弯段的曲率半 径，增大转弯角度(3 ,有利于输送带的转弯。图7为摩擦传动装置结构简图， 包括传动滚筒6、绕传动滚筒旋转的传动带7及带动传动滚筒旋转的传动电 机，所述传动带7与输送带1贴合，上下传动带7之间设有气室。 下面是有关转弯输送段曲率半径的计算分析，如本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种皮带输送平面转弯系统，包括直输送段和转弯输送段，在转弯输送段处设有气室，气室的上端设有气室盘槽，其特征在于：所述转弯输送段气室盘槽内侧的开孔率为气室盘槽外侧开孔率的１．５－３倍。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张开元，
申请(专利权)人：张开元，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]