一种Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件及其制备方法技术

技术编号:12655111 阅读:194 留言:0更新日期:2016-01-06 13:23
本发明专利技术公开一种Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件,其为层状结构,由上至下依次包括Pd金属前电极、Pd-MoS2薄膜层、第一SiO2绝缘缓冲层、Si单晶基片、第二SiO2绝缘缓冲层和金属In背电极。其制备方法,主要采用直流磁控溅射技术、利用高能电子轰击Pd-MoS2靶材表面,以溅射出大量离子并在经过钝化处理后的Si单晶基片表面上沉积成薄膜;并制备出前电极与背电极层,即成。本发明专利技术的Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件,其开路电压、短路电流密度和光转换效率,相对于现有技术的同类产品,分别提高了60%、160%和300%以上。本发明专利技术的工艺简单、生产过程及产品均绿色环保,成品率高、制造成本低,适于规模化工业生产。

【技术实现步骤摘要】
一种Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件及其制备方法
本专利技术涉及一种基于半导体异质结的太阳能电池器件及其制备方法,尤其涉及一种Pd金属掺杂的MoS2异质结光伏太阳能电池器件及其制备方法。
技术介绍
光电利用即光伏发电是近些年发展最快,也是最具经济潜力的能源开发领域之一,而太阳能电池则是光伏发电系统的核心部分。一直以来,硅(Si)半导体在太阳能电池研制领域占有主导地位。同时,为实现太阳能电池转换效率的大幅提高和生产成本的显著降低,国内外研究人员不断尝试各种新型半导体材料,其中二硫化钼(MoS2)更值得关注和研究。本征MoS2属于n型半导体,其带隙宽度约为1.2-1.9eV。MoS2的带隙与可见光(1.7~3.1eV)具有良好的匹配性,能对太阳光产生较强吸收,其可见光吸收系数约为105cm-1,超过Si一个数量级。为此,MoS2已成为研制新型光伏太阳能电池器件的热点材料之一。MoS2具有层状结构特征,这一结构使该类半导体的导电性呈现各向异性特征:一方面,电子在径向(层内)上的输运能力超强。另一方面,在轴向(垂直于膜面)上,MoS2则表现出较弱的导电性,其电导率仅是径向的10-3倍。较弱的轴向导电性严重阻碍了光激发电子的输运,会导致其光伏性能大幅降低。为此,必须探索出一种有效方法来增强MoS2薄膜的轴向导电性。中国专利申请CN104465844A公开了一种二硫化钼/硅p-n结太阳能电池器件及其制备方法,该方法利用磁控溅射技术在Si半导体表面直接沉积了一层MoS2薄膜,并在该p-n结器件中观测到了明显的光伏效应。中国专利申请CN104617165A公开了一种二硫化钼/缓冲层/硅n-i-p太阳能电池器件及其制备方法,该方法利用磁控溅射技术在MoS2和Si之间插入一层缓冲层材料,从而获得了增强的光伏性能。但是,上述两种太阳能电池器件,均未采取有效技术方法改善MoS2的轴向导电性。这导致已有器件的短路电流密度较小,阻碍了其光伏性能的提高。如何有效提高MoS2薄膜的轴向导电性,进而在此基础上,进一步地,研制出一种具有较高短路电流和光伏性能的太阳能电池器件,已成为当前基于半导体异质结的太阳能电池器件
的一个重要研究方向。
技术实现思路
本专利技术的目的之一是,提供一种具有较高短路电流密度和优良光伏性能的Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件。本专利技术为实现上述目的所需要解决的技术问题是,通过过渡金属原子掺杂的方法,提高光伏太阳能电池器件的性能;即通过Pd金属掺杂,增强MoS2层与层之间的电子输运能力,从而增强其轴向导电性,从而提高光电流密度和光伏性能。本专利技术为实现上述目的所采用的技术方案是,一种Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件,其特征在于,为层状结构,由上至下依次包括Pd金属前电极、Pd-MoS2薄膜层、第一SiO2绝缘缓冲层、Si单晶基片、第二SiO2绝缘缓冲层和金属In背电极;其中:所述Si单晶基片是单面抛光,晶面取向为(100)面、导电类型为n型;所述第一SiO2绝缘缓冲层和第二SiO2绝缘缓冲层的厚度均为1-3nm;所述Pd-MoS2薄膜层、Pd金属前电极和金属In背电极的厚度分别为10-30nm、30-40nm、0.2mm;上述Pd-MoS2薄膜层中,Pd与MoS2的摩尔比为0.5-5︰95-99.5。上述技术方案直接带来的技术效果是,从制备材料和结构两方面着手,在现有技术的基础上,通过Pd金属对MoS2薄膜的掺杂,有效提高了薄膜的轴向导电性,利于光激发电子在薄膜内的输运,使得光伏太阳能电池器件在短路电流、开路电压、光转化效率等综合性能方面取得了突破性的改善和显著的提升:检测结果表明,采用上述技术方案所制得的Pd-MoS2光伏太阳能电池器件,其在30mWcm-2的白光照条件下,光激发电流密度为9.3mAcm-2,开路电压0.39V,转化效率4.6%。上述光伏性能参数与未掺杂器件的比较分别提高超过160%、60%和300%。为更好地理解上述技术方案,现从原理上进行详细说明:1、Pd金属对MoS2薄膜的掺杂达到的技术效果有三个方面:(1)实现金属元素填充,提高薄膜轴向导电性;(2)降低薄膜内的缺陷密度,减少光电子复合中心,提高光电流密度;(3)调制MoS2薄膜的能带结构,增加异质结界面内建电场,提高开路电压。2、上述技术方案中,SiO2绝缘缓冲层采用热氧化的化学方法制备,使得SiO2绝缘缓冲层能有效地钝化Si单晶基片表面,减小光生电子空穴对的复合,缓冲层的厚度为1-3nm,能保证光生载流子在隧穿效应下,穿过绝缘氧化层。3、上述技术方案中,采用30-40nm的Pd金属薄膜作为前电极主要原因:(1)Pd金属具有很好的热稳定性和化学稳定性,能在空气环境中保持良好的电子收集和传送能力(2)Pd金属不易氧化,能保证器件性能稳定。4、上述技术方案中,采用0.2mm的In金属薄膜作为背电极,这是基于In金属在空气中具有很好的化学稳定性,不易与氧气发生氧化反应,保证了在异质结内形成均匀的电场。5、上述技术方案中,采用的是电阻率为1-10Ωcm的n型Si,该电阻率能满足在Si内具有较高的载流子浓度,同时能与MoS2薄膜形成异质结,保证了在耗尽区内光生电子空穴对的快速分离。实验证明,上述技术方案的Pd-MoS2光伏太阳能电池器件,具有短路电流密度高、开路电压大及光转化效率高等优点。优选为,上述第一SiO2绝缘缓冲层和第二SiO2绝缘缓冲层是采用过氧化氢热氧化方法,分别对Si单晶基片的上、下两个表面进行氧化制得的;所述Pd-MoS2薄膜层是采用直流磁控溅射方法沉积于所述第一SiO2缓冲层表面上的;所述金属In背电极是通过热熔法固结在所述第二SiO2绝缘缓冲层上的。该优选技术方案直接带来的技术效果是,制备方法简单、产品质量稳定性与一致性更好。本专利技术的目的之二是,提供一种上述的Pd-MoS2光伏太阳能电池器件的制备方法,其工艺简单、成品率高、对环境友好,适于规模化工业生产。本专利技术为实现上述目的所采用的技术方案是,一种如权利要求1所述的Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步,Pd-MoS2靶材制备步骤按摩尔份数,分别取纯度为99.99%以上的Pd金属颗粒0.5-5份、纯度为99.9%以上的MoS2颗粒95-99.5份,共混后入球磨机粉磨至粒径为500-800目的粉体;将粉磨制得的粉体,装入压片机模具,置于压片机上,压片机的压力为20-25MPa、压制时间为1小时,压制成厚度3-5mm,直径60mm的圆柱状靶材;第二步,硅基片表面钝化步骤选取电阻率为1-10Ω·cm、晶面取向为(100)面n型Si单晶基片,依次在酒精、丙酮和去离子水中超声清洗180s;取出并置于体积百分比浓度为4%的氢氟酸溶液中超声清洗60s;取出并用氮气吹干;然后,将吹干后的Si单晶基片放入盛有体积分数为30%过氧化氢溶液的烧杯中,将烧杯放入水浴锅中,在95℃条件下水浴加热20min,以进行表面钝化;取出,置于去离子水中清洗一分钟;取出并用高纯氮气吹干,即完成Si单晶基片的表面钝化,制得具有SiO2绝缘缓冲层的Si衬底;第三步,Pd-MoS2薄膜层表面沉积步骤将钝化后的Si单晶基片衬底装入托盘、放入真空腔,并将真本文档来自技高网
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一种Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件及其制备方法

【技术保护点】
一种Pd‑MoS2异质结光伏太阳能电池器件,其特征在于,为层状结构,由上至下依次包括Pd金属前电极、Pd‑MoS2薄膜层、第一SiO2绝缘缓冲层、Si单晶基片、第二SiO2绝缘缓冲层和金属In背电极;其中:所述Si单晶基片是单面抛光,晶面取向为(100)面、导电类型为n型;所述第一SiO2绝缘缓冲层和第二SiO2绝缘缓冲层的厚度均为1‑3nm;所述Pd‑MoS2薄膜层、Pd金属前电极和金属In背电极的厚度分别为10‑30nm、30‑40nm、0.2mm;上述Pd‑MoS2薄膜层中,Pd与MoS2的摩尔比为0.5‑5︰95‑99.5。

【技术特征摘要】
1.一种Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件,其特征在于,为层状结构,由上至下依次包括Pd金属前电极、Pd-MoS2薄膜层、第一SiO2绝缘缓冲层、Si单晶基片、第二SiO2绝缘缓冲层和金属In背电极;其中:所述Si单晶基片是单面抛光,晶面取向为(100)面、导电类型为n型;所述第一SiO2绝缘缓冲层和第二SiO2绝缘缓冲层的厚度均为1-3nm;所述Pd-MoS2薄膜层、Pd金属前电极和金属In背电极的厚度分别为10-30nm、30-40nm、0.2mm;上述Pd-MoS2薄膜层中,Pd与MoS2的摩尔比为0.5-5︰95-99.5。2.根据权利要求1所述的Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件,其特征在于,所述第一SiO2绝缘缓冲层和第二SiO2绝缘缓冲层是采用过氧化氢热氧化方法,分别对Si单晶基片的上、下两个表面进行氧化制得的;所述Pd-MoS2薄膜层是采用直流磁控溅射方法沉积于所述第一SiO2缓冲层表面上的;所述金属In背电极是通过热熔法固结在所述第二SiO2绝缘缓冲层上的。3.一种如权利要求1所述的Pd-MoS2异质结光伏太阳能电池器件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步,Pd-MoS2靶材制备步骤按摩尔份数,分别取纯度为99.99%以上的Pd金属颗粒0.5-5份、纯度为99.9%以上的MoS2颗粒95-99.5份,共混后入球磨机粉磨至粒径为500-800目的粉体;将粉磨制得的粉体,装入压片机模具,置于压片机上,压片机的压力为20-25MPa、压制时间为1小时,压制成厚度3-5mm,直径60mm的圆柱状靶材;第二步,硅基片表面钝化步骤选取电阻率为1-10Ω·cm、晶面取向为(100)面n型Si单晶基片,依次在酒精、丙酮和去离子水中超声清洗180s;取出并置于体积百分比浓度为4%的氢氟酸溶液中...

【专利技术属性】
技术研发人员:郝兰众刘云杰高伟韩治德薛庆忠
申请(专利权)人:中国石油大学华东
类型:发明
国别省市:山东;37

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