本实用新型专利技术公开了一种激光气体分析仪，包括第一柱面镜和第二柱面镜，其中所述第一柱面镜的外表面是镜面，所述第二柱面镜的内表面是镜面，第一柱面镜和第二柱面镜同轴安装，所述第一柱面镜安装在所述第二柱面镜的内部，所述第二柱面镜设有沿轴上布置的缺口，并对应所述缺口在缺口的外侧安装有沿纵向排布并且交错布置的两排弧面镜，每个弧面镜的镜面均与所述第一柱面镜正对应；还包括激光发射器和激光接收器，所述激光发射器设置在其中一排弧面镜的前端，所述激光接收器设置在远离所述激光发射器的弧面镜的后端。本实用新型专利技术通过两个同轴设置的柱面镜和两排弧面镜，实现了激光光路的多次反射，可以大大增加光路的光程距离，提高了分析仪的测量精度。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种激光气体分析仪，具体是一种光路的光程超过30米的气体检测设备，属于气体检测设备
技术介绍
可调频激光吸收光谱技术，简称TDLAS，是目前国际上最先进的气体分析技术。半导体激光器发出特定波长的激光束通过目标气体时，目标气体对激光束产生吸收导致激光强度发生衰减，激光强度的衰减程度与目标气体的含量成正比，通过测量激光强度衰减可以获得目标气体的浓度。所以一般情况下，如果想提高气体的检测精度，就需要加大光路的光程，即光的行走行程，光程越大，则测量精度越高，反之，光程越短，则测量精度越低。提高光程的方面，在设备体积一定的情况下，一般是增加多次反射的效果，实现光程的延长，但是由于目前国内在反射方面大都采用平面镜，但是平面镜一般只能在单一平面进行反射光程，很难实现多个平面的光程。本技术是采用新的光路设计，通过柱面反射的作用延长光程。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种激光气体分析仪，通过柱面结构进行多次反射之后延长光路的光程。为了解决上述技术问题，本技术提供了如下的技术方案:—种激光气体分析仪，包括第一柱面镜和第二柱面镜，其中所述第一柱面镜的外表面是镜面，所述第二柱面镜的内表面是镜面，第一柱面镜和第二柱面镜同轴安装，所述第一柱面镜安装在所述第二柱面镜的内部，所述第二柱面镜设有沿轴上布置的缺口，并对应所述缺口在缺口的外侧安装有沿纵向排布并且交错布置的两排弧面镜，每个弧面镜的镜面均与所述第一柱面镜正对应；还包括激光发射器和激光接收器，所述激光发射器设置在其中一排弧面镜的前端，所述激光接收器设置在远离所述激光发射器的弧面镜的后端。优选的，交错布置的两排弧面镜首尾相接。优选的，两排弧面镜相对于所述第一柱面镜圆心的角度为2-5度。所述两排所述弧面镜的弧度相等，并且弧面镜的长度、宽度尺寸也相等。优选的，所述第二柱面镜的直径是所述第一柱面镜的直径的至少5倍。优选的，所述第二柱面镜的直径是所述第一柱面镜的直径的12倍，并且所述第一柱面镜的直径不超过10cm。本技术有益效果:通过两个同轴设置的柱面镜和两排弧面镜，实现了激光光路的多次反射，可以大大增加光路的光程距离，提高了分析仪的测量精度。【附图说明】附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中:图1是本技术实施例的横截面结构示意图；图2是本技术实施例所述弧面镜的排布示意图；图3是本技术中的弧面镜的折射光路示意图。【具体实施方式】以下结合附图对本技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本技术，并不用于限定本技术。如图1-3所示，本技术实施例所述一种激光气体分析仪，包括第一柱面镜I和第二柱面镜2，其中所述第一柱面镜I的外表面是镜面，所述第二柱面镜2的内表面是镜面，第一柱面镜I和第二柱面镜2同轴安装，所述第一柱面镜I安装在所述第二柱面镜2的内部，所述第二柱面镜2设有沿轴上布置的缺口 3，并对应所述缺口 3在缺口 3的外侧安装有沿纵向排布并且交错布置的两排弧面镜4，每个弧面镜4的镜面均与所述第一柱面镜正对应；还包括激光发射器5和激光接收器6，所述激光发射器5设置在其中一排弧面镜的前端，所述激光接收器6设置在远离所述激光发射器的弧面镜的后端。优选的，交错布置的两排弧面镜6首尾相接。优选的，两排弧面镜6相对于所述第一柱面镜圆心的角度为2-5度。所述两排所述弧面镜6的弧度相等，并且弧面镜的长度、宽度尺寸也相等。优选的，所述第二柱面镜2的直径是所述第一柱面镜I的直径的至少5倍。优选的，所述第二柱面镜2的直径是所述第一柱面镜I的直径的12倍，并且所述第一柱面镜I的直径不超过10cm。在使用的过程中，激光发射器5发射的光束7通过缺口 3进入第二柱面镜2中，呈2-5度的倾角照射在第一柱面镜I上，通过第一柱面镜I和第二柱面镜2之间的多次反射，再通过缺口射出至所述弧面镜4，弧面镜4经过两次反射以后再次通过缺口找设置第一柱面镜I上，如此反复，直至最后通过缺口射入激光接收器6上，整个过程中的光路无限延长，可通过射入角度控制里面的光程，可远远超过30米的距离，提高了测量精度。本技术有益效果:通过两个同轴设置的柱面镜和两排弧面镜，实现了激光光路的多次反射，可以大大增加光路的光程距离，提高了分析仪的测量精度。以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。【主权项】1.一种激光气体分析仪，包括第一柱面镜和第二柱面镜，其特征在于，其中所述第一柱面镜的外表面是镜面，所述第二柱面镜的内表面是镜面，第一柱面镜和第二柱面镜同轴安装，所述第一柱面镜安装在所述第二柱面镜的内部，所述第二柱面镜设有沿轴上布置的缺口，并对应所述缺口在缺口的外侧安装有沿纵向排布并且交错布置的两排弧面镜，每个弧面镜的镜面均与所述第一柱面镜正对应；还包括激光发射器和激光接收器，所述激光发射器设置在其中一排弧面镜的前端，所述激光接收器设置在远离所述激光发射器的弧面镜的后端O2.如权利要求1所述的激光气体分析仪，其特征在于，交错布置的两排弧面镜首尾相接。3.如权利要求1所述的激光气体分析仪，其特征在于，两排弧面镜相对于所述第一柱面镜圆心的角度为2-5度。4.如权利要求1所述的激光气体分析仪，其特征在于，所述两排所述弧面镜的弧度相等，并且弧面镜的长度、宽度尺寸也相等。5.如权利要求1所述的激光气体分析仪，其特征在于，所述第二柱面镜的直径是所述第一柱面镜的直径的至少5倍。6.如权利要求5所述的激光气体分析仪，其特征在于，所述第二柱面镜的直径是所述第一柱面镜的直径的12倍，并且所述第一柱面镜的直径不超过10cm。【专利摘要】本技术公开了一种激光气体分析仪，包括第一柱面镜和第二柱面镜，其中所述第一柱面镜的外表面是镜面，所述第二柱面镜的内表面是镜面，第一柱面镜和第二柱面镜同轴安装，所述第一柱面镜安装在所述第二柱面镜的内部，所述第二柱面镜设有沿轴上布置的缺口，并对应所述缺口在缺口的外侧安装有沿纵向排布并且交错布置的两排弧面镜，每个弧面镜的镜面均与所述第一柱面镜正对应；还包括激光发射器和激光接收器，所述激光发射器设置在其中一排弧面镜的前端，所述激光接收器设置在远离所述激光发射器的弧面镜的后端。本技术通过两个同轴设置的柱面镜和两排弧面镜，实现了激光光路的多次反射，可以大大增加光路的光程距离，提高了分析仪的测量精度。【IPC分类】G01N21/01, G01N21/39【公开号】CN204924902【申请号】CN201520633070【专利技术人】安文成 【申请人】北京安赛克科技有限公司【公开日】2015年12月30日【申请日】2015年8月20日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种激光气体分析仪，包括第一柱面镜和第二柱面镜，其特征在于，其中所述第一柱面镜的外表面是镜面，所述第二柱面镜的内表面是镜面，第一柱面镜和第二柱面镜同轴安装，所述第一柱面镜安装在所述第二柱面镜的内部，所述第二柱面镜设有沿轴上布置的缺口，并对应所述缺口在缺口的外侧安装有沿纵向排布并且交错布置的两排弧面镜，每个弧面镜的镜面均与所述第一柱面镜正对应；还包括激光发射器和激光接收器，所述激光发射器设置在其中一排弧面镜的前端，所述激光接收器设置在远离所述激光发射器的弧面镜的后端。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：安文成，
申请(专利权)人：北京安赛克科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11
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