压印材料制造技术

本发明专利技术的课题是提供一种对膜基材具有充分的密合性且耐擦伤性优异，在脱模时可容易地将树脂膜从模具上剥离的压印材料。解决手段是一种压印材料，含有(A)N,N’-二甲基丙烯酰胺等特定的丙烯酰胺类、(B)具有氧化烯单元且在末端具有2至6个聚合性基团的化合物，且该氧化烯单元为氧化乙烯单元、氧化丙烯单元、或它们的组合的化合物及(C)光聚合引发剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种压印材料（压印用膜形成组合物）、及由该材料制作且转印有图 案的膜。更详言而言，涉及一种在固化后、脱模时可容易地将树脂膜从模具上剥离的压印材 料、以及由该材料制作、与基板的密合性优异，且耐擦伤性也优异的转印有图案的膜。
技术介绍
1995年，现普林斯顿大学的Chou教授等提出了一种纳米压印光刻技术这样的新 技术（专利文献1)。纳米压印光刻技术为使具有任意图案的模具与形成有树脂膜的基材接 触，对该树脂膜加压，并且使用热或光作为外部刺激，将目标图案形成于固化的该树脂膜的 技术，该纳米压印光刻技术与现有半导体器件制造中的光刻技术等相比，具有可简单?便宜 地进行纳米级加工的优点。 因此，纳米压印光刻技术为代替光刻技术，可期待在半导体器件、光学器件、显示 器、存储介质、生物芯片等的制造中应用的技术，因此，对于纳米压印光刻技术中使用的光 纳米压印光刻技术用固化性组合物，进行有各种各样的报道（专利文献2、专利文献3)。 另外，在光纳米压印光刻技术中，作为以高效率批量生产转印有图案的膜的方法， 提出了辊对辊方式。以往的光纳米压印光刻技术中所提出的辊对辊方式使用柔性膜作为基 材，且作为用于纳米压印光刻技术的材料（以下，本说明书中简称为"压印材料"），使用不 加入溶剂以使图案尺寸不易变化的无溶剂型的材料的方法成为主流。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :美国专利第5772905号说明书 专利文献2 :日本特开2008-105414号公报 专利文献3 :日本特开2008-202022号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题 如上所述，以往所提出的压印材料使用无溶剂型的材料，但有时压印后的膜和基 材薄膜无法构建适合的密合性。 另外，在纳米压印光刻技术中使用高价的模具的情况下，要求模具的长寿命化，但 在脱模时，若将固化的树脂膜从模具上剥下时所需的力（以下，本说明书中简称为"脱模 力"。）大，则树脂容易附着于模具，模具容易变得无法使用。因此，对压印材料而言，要求低 脱模力性（可容易地将固化的树脂膜从模具上剥离的特性）。 另外，在固体摄像装置、太阳能电池、LED装置、显示器等制品中，对于作为用于其 内部或表面的光学部件而制作的结构物，有时要求耐擦伤性。 然而，以往虽然公开了各种压印材料，但对于与膜基材具有充分的密合性且脱模 力（可容易地将固化的树脂膜从模具上剥离的特性）小，而且耐擦伤性优异的材料没有具 体的研究或报告。 本专利技术是基于上述情况而完成的，其所要解决的课题在于，提供一种在使用压印 材料来形成树脂膜时，对于膜基材具有充分的密合性且耐擦伤性优异，在脱模时可容易地 将树脂膜从模具上剥离的压印材料，以及提供一种由该材料制作的转印有图案的膜。 具体而言，其目的在于提供如下的压印材料：在形成在评价涂膜的密合性的划格 试验中没有剥离，且脱模力为〇. 5g/cm以下，并且对于转印图案后的膜进行钢丝棉擦伤试 验时几乎未产生伤痕（产生的伤痕为1条以下）的膜。 用于解决课题的手段 本专利技术人等为了解决上述课题进行了潜心研究，结果出乎意料地发现通过使用包 含具有氧化丙烯单元及/或氧化乙烯单元且在末端具有聚合性基团的化合物和规定的（甲 基）丙烯酰胺化合物及光聚合引发剂的材料作为压印材料，在将模具面上通过该材料的光 固化而转印有模具图案的固化被膜从模具面上剥时所测量的脱模力非常小，另外，由该材 料制作的转印有图案的膜和基材的密合性优异，且即使在该图案上进行钢丝棉擦伤试验也 几乎未产生伤痕，以至完成了本专利技术。 即，对本专利技术而言，作为第1观点，涉及一种压印材料，含有下述（A)成分、（B)成 分及（C)成分。 ㈧成分：下述式⑴所示的化合物 (B)成分：具有氧化烯且在末端具有2至6个聚合性基团的化合物，且该氧化烯为 氧化乙烯单元、氧化丙烯单元或它们的组合 (C)成分：光聚合起始剂 (式中，R1表示氢原子或甲基，R2表示氢原子或碳原子数1至3的烷基，η表示1 或2， 在η为1的情况下， R3表示可被选自以下取代基中的至少1个取代基取代的碳原子数1至12的烷基： 羟基、羧基、乙酰基、1个或2个氢原子可被甲基取代的氨基、磺酸基及碳原子数1 至4的烷氧基， 在η为2的情况下， R3表示可被选自以下取代基中的至少1个取代基取代的碳原子数1至12的亚烷 基： 羟基、羧基、乙酰基、1个或2个氢原子可被甲基取代的氨基、磺酸基及碳原子数1 至4的烷氧基。） 作为第2观点，涉及第1观点所述的压印材料，基于（A)成分及（B)成分的合计质 量，（A)成分以0. 05质量％以上且10质量％以下的量存在。 作为第3观点，涉及第1观点或第2观点所述的压印材料，还含有作为（D)成分的 聚硅氧烷化合物。 作为第4观点，涉及第1观点~第3观点中任一项所述的压印材料，还含有作为 (E) 成分的表面活性剂。 作为第5观点，涉及第1观点~第4观点中任一项所述的压印材料，还含有作为 (F) 成分的溶剂。 作为第6观点，涉及第1观点~第5观点中任一项所述的压印材料，⑶成分为具 有2个聚合性基团的化合物。 作为第7观点，涉及第1观点~第6观点中任一项所述的压印材料，⑶成分为具 有2个选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基及烯丙基中的至少1种聚合性基团的化合 物。 作为第8观点，涉及一种转印有图案的膜，是由第1观点~第7观点中任一项所述 的压印材料制作的。 作为第9观点，涉及一种光学部件，在基材上具备第8观点所述的转印有图案的 膜。 作为第10观点，涉及一种固体摄像装置，在基材上具备第8观点所述的转印有图 案的膜。 作为第11观点，涉及一种LED器件，其在基材上具备第8观点所述的转印有图案 的膜。 作为第12观点，涉及一种半导体元件，具备第8观点所述的转印有图案的膜。 作为第13观点，涉及一种太阳能电池，在基材上具备第8观点所述的转印有图案 的膜。 作为第14观点，涉及一种显示器，在基材上具备第8观点所述的转印有图案的膜。 作为第15观点，涉及一种电子器件，在基材上具备第8观点所述的转印有图案的 膜。 专利技术效果 本专利技术的压印材料通过含有在分子中具有氧化丙烯单元及/或氧化乙烯单元且 在末端具有2至6个聚合性基团的化合物以及上述式（1)所示的化合物，由该压印材料制 作的固化膜可获得对膜基材的充分的密合性，且该固化膜具有低脱模力性，并且具有高耐 擦伤性。 另外，本专利技术的压印材料可光固化，且在从模具面上剥离时不会产生图案的局部 剥离，因此，可得到正确地形成有期望图案的膜。因此，可形成良好的光压印的图案。 另外，本专利技术的压印材料可在任意基材上制膜，另外，所形成的膜和膜基材具有充 分的密合性，且该膜具有低脱模力和耐擦伤性。因此，压印后所形成的转印有图案的膜可适 合用于固体摄像装置、太阳能电池、LED装置、显示器等要求耐擦伤性的光学部件的制造。 此外，本专利技术的压印材料通过变更上述（B)成分的化合物的种类及含有比例，可 控制固化速度、动态粘度、膜厚。因此，本专利技术的压印材料可设计对应于制造的装置种类和 曝光工艺及烧成工艺的种类的材料，且可扩大工艺余量（process margin)，因此，可适合用 于光学部件的制造。【具体实施方式】 (A)成分的化合物为下述式（1)所示的化合物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种压印材料，含有下述(A)成分、(B)成分及(C)成分，(A)成分：下述式(1)所示的化合物，(B)成分：具有氧化烯单元且在末端具有2～6个聚合性基团的化合物，该氧化烯单元为氧化乙烯单元、氧化丙烯单元或它们的组合，(C)光聚合引发剂，式中，R1表示氢原子或甲基，R2表示氢原子或碳原子数1～3的烷基，n表示1或2，在n为1的情况下，R3表示可被选自以下取代基中的至少1个取代基取代的碳原子数1～12的烷基：羟基、羧基、乙酰基、1或2个氢原子可被甲基取代的氨基、磺酸基及碳原子数1～4的烷氧基，在n为2的情况下，R3表示可被选自以下取代基中的至少1个取代基取代的碳原子数1～12的亚烷基：羟基、羧基、乙酰基、1或2个氢原子可被甲基取代的氨基、磺酸基及碳原子数1～4的烷氧基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林淳平，加藤拓，铃木正睦，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP