基板曝光平台及曝光机制造技术

本发明专利技术提供一种基板曝光平台及具有该基板曝光平台的曝光机，本发明专利技术基板曝光平台的支撑针的表面上涂覆有具有散射作用的散射涂层，使支撑针侧面上的反射光变更为扩散光，降低光线的正反射量，从而改善曝光过程中，基板上容易形成pin mura的问题；本发明专利技术的另一种基板曝光平台，支撑针的侧面垂直于平台本体的表面，支撑针与平台本体不具有倾斜面，从而改善曝光过程中因支撑针倾斜面的反射作用而导致基板上容易形成pin mura的问题；本发明专利技术的曝光机，设有上述基板曝光平台，能够避免曝光制程中因支撑针导致的基板上形成pin mura的问题，具有高的曝光精度及解析度。

【技术实现步骤摘要】
基板曝光平台及曝光机
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种基板曝光平台及具有该基板曝光平台的曝光机。
技术介绍
在显示
，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)与有机发光二极管显示器(OrganicLightEmittingDiode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。在LTPSLCD(LowTemperaturePoly-silicon，LTPS)和AMOLED(Active-matrixorganiclight-emittingdiode)的制造过程中，会多次利用构图工艺。具体为，在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜板，然后利用曝光机对基板进行曝光，具体的，曝光机通过开启超高压水银灯发出UV紫外光线，将掩膜板上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于掩膜板的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分(正性光刻胶)，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分(负性光刻胶)，从而使光刻胶形成所需的图形。图1为现有技术中曝光机的立体结构示意图，如图1所示，曝光机包括用于承载基板的曝光平台(PlateStage)50，曝光过程中，基板放置于曝光机的曝光平台50上；如图2所示，曝光平台50与基板的接触面采用数个排列整齐的突起支撑针(pin)51用于支撑，以减少与基板的接触面积，从而避免静电击穿现象((Electro-Staticdischarge，ESD)的产生。但是，突起的支撑针51会导致光反射量差异，将支撑针51的形态投影至基板上的光刻胶上，从而形成pinmura。例如，对于液晶面板分辨率达到500PPI(PixelsPerInch，单位英寸面积像素数目)以上时，用于阵列基板的曝光机解像力需要达到2.0um以下，此时容易产生pinmura，从而影响成像品质。上述pinmura形成的主要原理为：如图2、图3所示，曝光平台50上的支撑针51通常为金属制造，且为如山丘状的带有倾斜面的圆锥体形，如图4所示，由于支撑针51为金属材质，长期使用后其表面较光滑，那么射在其倾斜面上的光大部分被正反射；从而，如图5所示，支撑针51的倾斜面上的反射光造成基板10面上的光刻胶20的能量不均，从而将支撑针51的形态分布转写至图形成像，形成pinmura。因此，有必要提供一种基板曝光平台及曝光机，以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基板曝光平台，可提高曝光机的曝光精度及解析度，能够避免曝光制程中因支撑针导致的基板上形成pinmura的问题。本专利技术的另一目的在于提供一种曝光机，能够避免曝光制程中因支撑针导致的基板上形成pinmura的问题，具有高的曝光精度及解析度。为实现上述目的，本专利技术提供一种基板曝光平台，包括平台本体、及突出于所述平台本体上的多个支撑针；所述支撑针用于支撑基板，所述支撑针表面涂覆有散射涂层。所述散射涂层的材料为陶瓷。所述平台本体与支撑针的材料相同，均为金属；所述平台本体与支撑针采用焊接或一体成型制成。所述支撑针呈圆台状，所述支撑针的侧面相对于所述平台本体的表面倾斜。所述支撑针呈圆柱状，所述支撑针的侧面相对于所述平台本体的表面垂直。本专利技术还提供一种基板曝光平台，包括平台本体、及突出于所述平台本体上的多个支撑针；所述支撑针用于支撑基板，所述支撑针的侧面相对于所述平台本体的表面垂直。所述支撑针呈圆柱状。所述平台本体与支撑针的材料相同，均为金属；所述平台本体与支撑针采用焊接或一体成型制成。所述支撑针表面涂覆有散射涂层，所述散射涂层的材料为陶瓷。本专利技术还提供一种曝光机，包括以上所述的基板曝光平台。本专利技术的有益效果：本专利技术提供的一种基板曝光平台，支撑针的表面上涂覆有具有散射作用的散射涂层，使支撑针上的反射光变更为扩散光，降低光线正反射量，从而改善曝光过程中，基板上容易形成pinmura的问题；本专利技术提供的另一种基板曝光平台，支撑针的侧面垂直于所述平台本体的表面，支撑针与平台本体不具有倾斜面，从而改善曝光过程中因支撑针倾斜面的反射作用而导致基板上容易形成pinmura的问题；本专利技术的曝光机，设有上述基板曝光平台，能够避免曝光制程中因支撑针导致的基板上形成pinmura的问题，具有高的曝光精度及解析度。附图说明下面结合附图，通过对本专利技术的具体实施方式详细描述，将使本专利技术的技术方案及其他有益效果显而易见。附图中，图1为现有一种曝光机的立体结构示意图；图2为图1的曝光机的曝光平台的局部放大图；图3为图2的曝光平台在支撑针处的剖面结构示意图；图4为图3的支撑针的斜面上反射光的分布示意图；图5为现有曝光平台曝光过程中在基板上形成的mura的示意图；图6为本专利技术一实施例的基板曝光平台在支撑针处的剖面结构示意图；图7为图6的支撑针的侧面上反射光的分布示意图；图8为图7的基板曝光平台在曝光过程中的光反射的示意图；图9为本专利技术的另一实施例的基板曝光平台在支撑针处的剖面结构示意图；图10为图9的基板曝光平台在曝光过程中的光反射的示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。本专利技术首先提供一种基板曝光平台，图6为本专利技术基板曝光平台的一实施例在支撑针处的剖面结构示意图，该基板曝光平台包括平台本体100、及突出于所述平台本体100上的多个支撑针110；所述支撑针100用于支撑基板200，所述支撑针100表面涂覆有散射涂层120。具体的，所述散射涂层120的材料为陶瓷，以使支撑针110的表面粗糙化。具体的，所述平台本体100与支撑针110的材料相同，均为金属，所述平台本体100与支撑针110之间可以采用焊接制成，也可以采用一体成型制成。具体的，所述支撑针110呈圆台状，所述支撑针的侧面相对于所述平台本体100的表面倾斜。所述支撑针110也可以呈圆柱状，此时所述支撑针110的侧面相对于所述平台本体100的表面垂直。如图7所示，光射在支撑针110上时，由于支撑针110的表面涂覆有陶瓷材料的散射涂层，从而使支撑针110的表面粗糙化，其上的反射光变更为扩散光，正反射光的成分大大降低，曝光过程中，如图8所示，由于支撑针110的侧面上散射涂层120的作用，将射在支撑针110表面的光进行散射，使得基板200上的光刻胶210接收的光线较为均匀，从而改善曝光过程中，基板上容易形成pinmura的问题。图9所示为本专利技术基板曝光平台的另一实施例在支撑针处的剖面结构示意图，该基板曝光平台，包括平台本体100、及突出于所述平台本体上的多个支撑针110’。所述支撑针110’用于支撑基板200，所述支撑针110’的侧面相对于所述平台本体100的表面垂直。具体的，所述支撑针110’呈圆柱状。具体的，所述平台本体100与支撑针110’的材料相同，均为金属；所述支撑针110’与所述平台本体100之间可以采用焊接制成，也可以采用一体成型制成。所述支撑针110’的表面也可以涂覆散射涂层，所述散射涂层的材料可以是陶瓷。如图10所示，曝光过程中，光射在支撑针110’上时，由于支撑针1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板曝光平台，其特征在于，包括平台本体、及突出于所述平台本体上的多个支撑针；所述支撑针用于支撑基板，所述支撑针表面涂覆有散射涂层。

【技术特征摘要】
1.一种基板曝光平台，其特征在于，包括平台本体、及突出于所述平台本体上的多个支撑针；所述支撑针用于在曝光过程中支撑涂有光刻胶的基板，所述支撑针侧面涂覆有散射涂层，从而使支撑针的表面粗糙化，曝光过程中，通过散射涂层的作用，将射在支撑针表面的光进行散射，使得基板上的光刻胶接收的光线较为均匀。2.如权利要求1所述的基板曝光平台，其特征在于，所述散射涂层的材料为陶瓷。3.如权利要求1所述的基板曝光平台，其特征在于，所述平台本体与支撑针的材料相同，均为金属；所述平台本体与支撑针采用焊接或一体成型制成。4.如权利要求1所述的基板曝光平台，其特征在于，所述支撑针呈圆台状，所述支撑针的侧面相对于所述平台本体的表面倾斜。5.如权利要求1所述的基板曝光平台，其特征在于，所述支撑针呈圆柱状，所述支撑针的侧面相对于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁磊，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42