微波加热设备和加热控制方法技术

本发明专利技术提出了一种微波加热设备和一种加热控制方法，微波加热设备包括：壳体和烹饪腔，壳体的内壁与烹饪腔的外壁之间形成容纳腔体；以及容纳腔体内设置有磁控管、第一波导、半导体功率源、第二波导，其中，磁控管通过第一波导与烹饪腔连接，以及第一波导用于将磁控管发射的微波传输到烹饪腔内，以作用于烹饪腔内放置的目标物；半导体功率源通过第二波导与烹饪腔连接，第二波导用于将半导体功率源发射的扰动微波传输到烹饪腔内，与磁控管发射的微波共同作用于目标物，以对目标物进行均匀加热。通过本发明专利技术的技术方案，解决了因微波加热设备内微波分布固定不变使目标物(如食物)加热不均匀的问题，提高了微波加热设备的实用性、灵活性和性价比。

【技术实现步骤摘要】
微波加热设备和加热控制方法
本专利技术涉及家用电器
，具体而言，涉及一种微波加热设备和一种加热控制方法。
技术介绍
目前，微波加热设备比如微波炉一般包括：磁控管、加热腔、炉门、控制盒、变压器、高压电容等元件。电源经变压器变成2000v高压，经二极管整流后，变成4000v高压，激励源激发出2450MHz±50MHz频率的微波，该微波进入加热腔后和其内的食物水分子发生作用，使得食物快速的加热成熟。因为微波炉的微波发射源是磁控管，频率固定，因此在微波炉的谐振腔内不加其它扰动情况下，微波分布基本固定，从而造成微波炉炉体内加热食物不均匀，无法满足用户的使用需求，限制了微波炉烹饪的发展。为解决微波炉炉体内加热食物不均匀问题，从微波炉使用至今采取了不同的技术方案来解决，目前较为主流的有如下两种方式：一种是平板微波炉，如图1所示，通过天线或者搅拌片15实现对磁控管11发出微波的扰动及牵引，实现加热食物17。系统包括：壳体10、磁控管11、高压电源12、波导13、搅拌电机14、搅拌片15、支撑板16、食物17、腔体18。另一种是转盘微波炉，如图2所示，通过支撑盘24旋转，带动食物25旋转，实现微波加热食物25。系统包括：壳体20、磁控管21、高压电源22、转盘电机23、支撑盘24、食物26、腔体25、波导27。但是，现有的技术方案存在如下缺陷：系统较复杂，需要转盘电机或者搅拌电机、转盘或者搅拌片、天线等运动部件，同时搅拌片或者天线扰动微波不能从根本上实现微波加热食物均匀性，因为食物本身不均匀，还是出现明显的冷热不均，部分过火，部分还冷的现象，给用户带来了不好的体验。因此，如何从根本上解决因微波加热设备内微波分布固定不变使目标物加热不均匀的问题，以满足用户的需求，提高微波加热设备的实用性及性价比，从而提升用户体验成为亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种微波加热设备。本专利技术的另一个目的在于提出一种加热控制方法，用于控制上述微波加热设备工作。为实现上述目的，根据本专利技术的一个实施例，提出了一种微波加热设备，包括：壳体和烹饪腔，所述壳体的内壁与所述烹饪腔的外壁之间形成容纳腔体；以及所述容纳腔体内设置有磁控管、第一波导、半导体功率源、第二波导，其中，所述磁控管通过所述第一波导与所述烹饪腔连接，以及所述第一波导用于将所述磁控管发射的微波传输到所述烹饪腔内，以作用于所述烹饪腔内放置的目标物；所述半导体功率源通过所述第二波导与所述烹饪腔连接，所述第二波导用于将所述半导体功率源发射的扰动微波传输到所述烹饪腔内，与所述磁控管发射的微波共同作用于所述目标物，以对所述目标物进行均匀加热。根据本专利技术的实施例的微波加热设备，通过与烹饪腔连接的第一波导将磁控管发射的微波传输到烹饪腔内，以作用于目标物(比如，食物)，并同时通过与烹饪腔连接的第二波导将半导体功率源发射的扰动微波传输到烹饪腔内，以与磁控管发射的微波共同作用于烹饪腔内的目标物，实现对目标物的均匀加热，如此，从根本上解决了因微波加热设备内微波分布固定不变使目标物(如食物)加热不均匀的问题，满足了用户的不同需求，提高了微波加热设备的实用性及性价比，从而提升了用户体验。需要说明的是，本方案中可以使用两套或者两套以上半导体功率源与磁控管进行组合，以实现对目标物加热均匀性的提升。根据本专利技术的一个实施例，在上述技术方案中，优选地，所述半导体功率源具体用于：在预设频率范围内按照预设频率扫描步长对所述磁控管发射的微波进行频率扫描，以及在预设相位范围内按照预设相位扫描步长对所述预设频率范围内的每一个频点进行相位扫描，以根据扫描结果调整所述烹饪腔内的微波分布；以及所述半导体功率源上设置有天线，所述第二波导通过所述天线将所述半导体功率源发射的扰动微波传输到所述烹饪腔内。根据本专利技术的实施例的微波加热设备，通过半导体功率源检测烹饪腔内微波分布情况，具体地，半导体功率源在预设频率范围内按照预设频率扫描步长对烹饪腔内的由磁控管发射的微波进行频率扫描，同时在预设相位范围内按照预设相位扫描步长对预设频率范围内的每一个频点进行相位扫描，并根据扫描结果发射扰动微波，以对频率固定的磁控管发射的微波进行扰动，从而调整烹饪腔内的微波分布，实现对目标物的均匀加热，其中，预设频率范围可以根据不同的目标物的加热需要预设，另外，在半导体功率源上设置有天线，半导体功率源通过天线发射扰动微波，并通过第二波导将扰动微波传输到烹饪腔，以与磁控管发射的微波共同作用于目标物，实现对目标物进行均匀加热，如此，从根本上解决了因微波加热设备内微波分布固定不变使目标物(如食物)加热不均匀的问题，满足了用户的不同需求，提高了微波加热设备的实用性及性价比，从而提升了用户体验。根据本专利技术的一个实施例，在上述技术方案中，优选地，所述容纳腔体内还设置有：高压电源，所述高压电源与所述磁控管电连接，用于为所述磁控管提供工作电压；直流电源，所述直流电源与所述半导体功率源电连接，用于为所述半导体功率源提供工作电压。根据本专利技术的实施例的微波加热设备，在容纳腔体内还设置有与磁控管电连接的高压电源，以及与半导体功率源电连接的直流电源，用于分别为磁控管和半导体功率源提供工作电压，以确保其正常工作，进而确保微波加热设备的正常运转、功能的正常实现。根据本专利技术的一个实施例，在上述技术方案中，优选地，所述烹饪腔内设置有支撑板，所述支撑板用于支撑所述目标物；以及所述微波加热设备还包括：搅拌片和搅拌电机，所述搅拌电机与所述搅拌片电连接，用于驱动所述搅拌片工作，以对所述磁控管发出的微波进行扰动，其中，所述搅拌片设置于所述烹饪腔内，且位于所述支撑板与所述烹饪腔的底壁之间形成的空间内，以及所述搅拌电机设置于所述容纳腔体中。根据本专利技术的实施例的微波加热设备，可以在烹饪腔内设置支撑板、搅拌片和搅拌电机，其中，支撑板位于烹饪腔内，用于支撑目标物，搅拌片位于支撑板与烹饪腔的底壁之间形成的空间内，并与设置在容纳腔体中的搅拌电机电连接，搅拌电机用于驱动搅拌片工作，以对烹饪腔内的磁控管发出的微波进行扰动，进一步对烹饪腔内的微波分布进行调整，以实现对支撑板上的目标物的均匀加热，从而提升用户体验。根据本专利技术的一个实施例，在上述技术方案中，优选地，还包括：转盘和转盘电机，其中，所述转盘设置于所述烹饪腔内，用于支撑所述目标物，以及所述转盘与设置于所述容纳腔体内的所述转盘电机电连接，以驱动所述转盘工作。根据本专利技术的实施例的微波加热设备，还可以在烹饪腔内设置转盘，用于支撑目标物，以及在容纳腔体内设置转盘电机，并将转盘电机与转盘电连接，转盘电机用于驱动转盘工作，由转盘旋转来对烹饪腔内的微波进行扰动，进一步对烹饪腔内的微波分布进行调整，以实现对转盘上的目标物的均匀加热，从而提升用户体验。根据本专利技术的一个实施例，在上述技术方案中，优选地，还包括：所述预设频率扫描步长为：1MHz～5MHz；所述预设相位范围为：0°～360°；所述预设相位扫描步长为：1°～5°。根据本专利技术的实施例的微波加热设备，通过将预设频率扫描步长优选地设置为：1MHz～5MHz，预设相位范围优选地设置为：0°～360°，预设相位扫描步长优选地设置为：1°～5°，可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微波加热设备，其特征在于，包括：壳体和烹饪腔，所述壳体的内壁与所述烹饪腔的外壁之间形成容纳腔体；以及所述容纳腔体内设置有磁控管、第一波导、半导体功率源、第二波导，其中，所述磁控管通过所述第一波导与所述烹饪腔连接，以及所述第一波导用于将所述磁控管发射的微波传输到所述烹饪腔内，以作用于所述烹饪腔内放置的目标物；所述半导体功率源通过所述第二波导与所述烹饪腔连接，所述第二波导用于将所述半导体功率源发射的扰动微波传输到所述烹饪腔内，与所述磁控管发射的微波共同作用于所述目标物，以对所述目标物进行均匀加热。

【技术特征摘要】
1.一种微波加热设备，其特征在于，包括：壳体和烹饪腔，所述壳体的内壁与所述烹饪腔的外壁之间形成容纳腔体；以及所述容纳腔体内设置有磁控管、第一波导、半导体功率源、第二波导，其中，所述磁控管通过所述第一波导与所述烹饪腔连接，以及所述第一波导用于将所述磁控管发射的微波传输到所述烹饪腔内，以作用于所述烹饪腔内放置的目标物；所述半导体功率源通过所述第二波导与所述烹饪腔连接，所述第二波导用于将所述半导体功率源发射的扰动微波传输到所述烹饪腔内，与所述磁控管发射的微波共同作用于所述目标物，以对所述目标物进行均匀加热；其中，所述半导体功率源具体用于：在预设频率范围内按照预设频率扫描步长对所述磁控管发射的微波进行频率扫描，以及在预设相位范围内按照预设相位扫描步长对所述预设频率范围内的每一个频点进行相位扫描，以根据扫描结果调整所述烹饪腔内的微波分布；以及所述半导体功率源上设置有天线，所述第二波导通过所述天线将所述半导体功率源发射的扰动微波传输到所述烹饪腔内。2.根据权利要求1所述的微波加热设备，其特征在于，所述容纳腔体内还设置有：高压电源，所述高压电源与所述磁控管电连接，用于为所述磁控管提供工作电压；直流电源，所述直流电源与所述半导体功率源电连接，用于为所述半导体功率源提供工作电压。3.根据权利要求2所述的微波加热设备，其特征在于，所述烹饪腔内设置有支撑板，所述支撑板用于支撑所述目标物；以及所述微波加热设备还包括：搅拌片和搅拌电机，所述搅拌电机与所述搅拌片电连接，用于驱动所述搅拌片工作，以对所述磁控管发出的微波进行扰动，其中，所述搅拌片设置于所述烹饪腔内，且位于所述支撑板与所述烹饪腔的底壁之间形成的空间内，以及所述搅拌电机设置于所述容纳腔体中。4.根据权利要求2所述的微波加热设备，其特征在于，还包括：转盘和转盘电机，其中，所述转盘设置于所述烹饪腔内，用于支撑所述目标物，以及所述转盘与设置于所述容纳腔体内的所述转盘电机电连接，以驱动所述转盘工作。5.根据权利要求1至4中任一项所述的微波加热设备，其特征在于，还包括：所述预设频率扫描步长为：1MHz～5MHz；所述预设相位范围为：0°～360°；所述预设相位扫描步长为：1°～5°。6.一种加热控制方法，用于控制如权利要求1至5中任一项所述的微波加热设备工作，其特征在于，所述加热控制方法包括：在开启所...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐相伟，杜贤涛，张斐娜，刘民勇，夏然，栾春，
申请(专利权)人：广东美的厨房电器制造有限公司，美的集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44