用于去除软磁产品表面涂层的方法技术

本发明专利技术涉及一种用于去除软磁产品表面涂层的方法，其特征在于，所述用于去除软磁产品表面涂层的方法包括以下步骤：将需要去表面涂层的软磁产品装入容器；将所述容器置入烤箱；设定烘烤的时间和温度；进行烘烤；清理所述软磁产品表面的残留；完成清理。在本发明专利技术所述的用于去除软磁产品表面涂层的方法中，不但可以对所述软磁产品的表面涂层进行批量处理，而去还可以同时对不同尺寸的软磁产品进行表面涂层的处理，提高不良产品重复利用率的同时也降低了处理工时和生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于一种工艺制程，特别涉及一种。
技术介绍
表面涂层通常是指在产品的表面覆盖的一层材料层，其功用可依照需要而包括表面修饰、耐磨、包覆、改质以及增加新特性等等。目前常用的表面涂层材料有紫外线、固化型涂料以及纳米涂料等等。在软磁产品的工艺过程中，也会对软磁产品的表面添加涂层以满足后续工艺的需求。然而当涂层材料覆盖于软磁产品的表面后，若所形成的涂层品质不良时，就需要对涂层进行消除返工，以提高软磁产品的利用率。现有技术中，消除软磁产品的表面涂层都是用砂带机将软磁产品表面的涂层磨掉，如果磨不掉，就要对所述软磁产品进行报废处理。但是选用现有方法对软磁产品的表面涂层进行消除时，同时会伴有以下几点缺陷:1、无法批量消除，效率低下；2、砂带机对需要消除表面涂层的软磁产品尺寸要求高，如果软磁产品的尺寸较小，则无法进行磨损；3、在用砂带机对软磁产品表面的涂层进行消除的过程中容易产生报废，严重浪费成本；4、是消除软磁产品表面涂层的过程中，涂层磨掉的厚度不容易把握，会影响重新喷涂的效果；5、若消除涂层不良，则无法重新利用该软磁产品。公开于该专利技术
技术介绍
部分的信息仅仅旨在加深对本专利技术的一般
技术介绍
的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种，以解决现有技术中存在的问题。为达上述目的，本专利技术的技术解决方案是提供一种，所述包括以下步骤:将需要去表面涂层的软磁产品装入容器；将所述容器置入烤箱；设定烘烤的时间和温度；进行烘烤；清理所述软磁产品表面的残留；完成清理。优选地，所述软磁产品的尺寸一致。优选地，所述软磁产品的尺寸不同。优选地，所述容器的熔点高于所述软磁产品的熔点。优选地，所述容器为铁筐。优选地，所述烤箱为能承受高温的高温烤箱。优选地，所述烘烤的温度为低于所述软磁产品的特性损害温度，且高于所述表面涂层的分解温度。优选地，所述清理过程是通过操控机器完成。优选地，所述清理过程是通过人工完成。通过运用本专利技术所述的，能够达到以下目的及效果:1、本专利技术所述的能够适用于对各种不同尺寸的软磁产品进行清除表面涂层处理；2、在本专利技术所述的使用过程中，不过担心传统方法中的涂层磨掉的厚度，从而降低了报废品的产生；3、本专利技术所述的能够使因涂层不良而产生的不良品进行重新利用；4、由于本专利技术所述的能够对大批量、不同尺寸的软磁产品同时进行表面涂层的去除，因此能够提高对于软磁产品表面涂层去除的效率。通过纳入本文的附图以及随后与附图一起用于说明本专利技术的某些原理的【具体实施方式】，本专利技术的方法和装置所具有的其它特征和优点将变得清楚或更为具体地得以阐明。【附图说明】图1为本专利技术所述的的工作步骤流程图。应当了解，所附附图并非按比例地显示了本专利技术的基本原理的图示性的各种特征的略微简化的画法。本文所公开的本专利技术的具体设计特征包括例如具体尺寸、方向、位置和外形将部分地由具体所要应用和使用的环境来确定。在这些图形中，贯穿附图的多幅图形，附图标记引用本专利技术的同样的或等同的部分。【具体实施方式】本专利技术提供一种，所述包括以下步骤:将需要去表面涂层的软磁产品装入容器；将所述容器置入烤箱；设定烘烤的时间和温度；进行烘烤；清理所述软磁产品表面的残留；完成清理。以下结合附图对本专利技术所述的的工作流程进行更近一步地详细说明。图1为本专利技术所述的的工作步骤流程图。如图1所示，在本专利技术所述的中，先进行将需要去表面涂层的软磁产品装入容器的步骤。优选地，所述容器的熔点高于所述软磁产品的熔点。在该步骤中，所述软磁产品的尺寸不同。作为选择，所述软磁产品的尺寸也可以是相同的，或者是几种不同尺寸和类型的。在本专利技术所述的中，所述软磁产品的尺寸不限。 进一步地，所述容器为铁筐。作为选择，所述容器也可以选用其他熔点高于所述软磁产品熔点的材料或者结构，本专利技术不以此为限。将所述容器置入烤箱的步骤。优选地，所述烤箱为能够承受高温烘烤的烤箱。设定烘烤的时间和温度的步骤。本专利技术所述的中，所述烘烤的温度为低于所述软磁产品的特性损害温度，且高于所述表面涂层的分解温度。然后进行启动烤箱，对烤箱中的软磁产品进行烘烤。烘烤过后，将所述软磁产品从烤箱中取出，对所述软磁产品表面的残留进行清理。优选地，所述清理过程为机械批量作业。作为选择，所述清理过程也可以通过人工完成。完成以上步骤，完成对所述软磁产品表面涂层的清理。通过运用本专利技术所述的，能够达到以下目的及效果:1、本专利技术所述的能够适用于对各种不同尺寸的软磁产品进行清除表面涂层处理；2、在本专利技术所述的使用过程中，不过担心传统方法中的涂层磨掉的厚度，从而降低了报废品的产生；3、本专利技术所述的能够使因涂层不良而产生的不良品进行重新利用；4、由于本专利技术所述的能够对大批量、不同尺寸的软磁产品同时进行表面涂层的去除，因此能够提高对于软磁产品表面涂层清理的效率。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例，所述的较佳实施例只是对本专利技术举例说明而非限制。凡依本专利技术权利要求范围所做的均等变化、修饰及改进，皆应属本专利技术权利要求的涵盖范围。【主权项】1.一种，其特征在于，所述包括以下步骤: 将需要去表面涂层的软磁产品装入容器； 将所述容器置入烤箱； 设定烘烤的时间和温度； 进行烘烤； 清理所述软磁产品表面的残留； 完成清理。2.根据权利要求1所述的，其特征在于，所述软磁产品的尺寸一致。3.根据权利要求1所述的，其特征在于，所述软磁产品的尺寸不同。4.根据权利要求3所述的，其特征在于，所述容器的熔点高于所述软磁产品的熔点。5.根据权利要求4所述的，其特征在于，所述容器为铁筐。6.根据权利要求5所述的，其特征在于，所述烤箱为能承受高温的高温烤箱。7.根据权利要求6所述的，其特征在于，所述烘烤的温度为低于所述软磁产品的特性损害温度，且高于所述表面涂层的分解温度。8.根据权利要求7所述的，其特征在于，所述清理过程是通过操控机器完成。9.根据权利要求7所述的，其特征在于，所述清理过程是通过人工完成。【专利摘要】本专利技术涉及一种，其特征在于，所述包括以下步骤：将需要去表面涂层的软磁产品装入容器；将所述容器置入烤箱；设定烘烤的时间和温度；进行烘烤；清理所述软磁产品表面的残留；完成清理。在本专利技术所述的中，不但可以对所述软磁产品的表面涂层进行批量处理，而去还可以同时对不同尺寸的软磁产品进行表面涂层的处理，提高不良产品重复利用率的同时也降低了处理工时和生产成本。【IPC分类】B32B38/10【公开号】CN105082721【申请号】CN201410184701【专利技术人】周维波 【申请人】惠州铂科磁材有限公司【公开日】2015年11月25日【申请日】2014年5月4日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于去除软磁产品表面涂层的方法，其特征在于，所述用于去除软磁产品表面涂层的方法包括以下步骤：将需要去表面涂层的软磁产品装入容器；将所述容器置入烤箱；设定烘烤的时间和温度；进行烘烤；清理所述软磁产品表面的残留；完成清理。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周维波，
申请(专利权)人：惠州铂科磁材有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44