本实用新型专利技术提出了一种用于分子束外延工艺中碲锌镉衬底的转移夹具，其包括上夹板和下夹板，所述上夹板和所述下夹板分别包括：基板，所述基板上设置有沉降槽，所述沉降槽的侧壁上设置有用于支撑衬底的凸台，当所述上夹板扣合于所述下夹板上时，所述上夹板的沉降槽对应所述下夹板的沉降槽，以形成容纳所述衬底的空腔，可以方便地将衬底转移至分子束外延设备中，并且避免衬底表面受到污染。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及分子束外延工艺
，尤其涉及一种用于分子束外延工艺中碲锌镉衬底的转移夹具。
技术介绍
目前，红外焦平面探测器得到较广的应用，而红外焦平面技术正向着大阵列、双多色等三代焦平面技术方向发展。其中，基于碲镉汞材料的焦平面探测器由于其较高的量子效率、截止波长在全谱段可调等诸多优点占据着绝对的市场份额。而实现碲镉汞材料的外延过程中，晶格匹配的碲锌镉衬底始终是外延碲镉汞的最佳选择。由于液相外延技术无法实现多层异质外延进而无法实现双多色材料外延、材料表面起伏较大等无法克服的缺点，因此，分子束外延技术在该
中扮演者越来越重要的角色。在进行碲锌镉基碲镉汞外延工艺过程中，衬底的清洗和转移是一项关键的技术。具体地:碲锌镉衬底在清洗时，衬底的正面需要向上以便喷洗和保证清洗的质量，在转移过程中同样需要衬底的正面向上，以避免划伤衬底的表面。但是，在将衬底装入分子束外延生长腔室时，由于分子束外延设备的结构关系需要将衬底翻转过来正面向下安放在镂空的钼拖上面。现有技术中，通常使用聚四氟乙烯材料的镊子将碲锌镉衬底材料夹起，之后使用真空吸笔吸住衬底背面再放在材料外延所用的钼拖上。存在的难题是:1、镊子的力度需要掌握，因为碲锌镉衬底极脆，用力过大会导致衬底碎裂，而在使用吸笔时候用力不够可能将衬底碰落；2、需要在密闭的超净柜里进行，操作过程要戴着厚的橡胶手套，由此加大了操作难度；3、为了保证清洗后的材料表面不被二次污染，操作过程要尽可能的快速进行。上述三个难题要求操作人员的技术熟练度极高。因此，需要一种用于分子束外延工艺中碲锌镉衬底的转移夹具，以解决现有技术中存在的上述技术问题。
技术实现思路
本技术提供一种用于分子束外延工艺中碲锌镉衬底的转移夹具，可以方便地将衬底转移至分子束外延设备中，并且避免衬底表面受到污染。本技术采用的技术方案是:—种用于分子束外延工艺中碲锌镉衬底的转移夹具，其包括上夹板和下夹板，所述上夹板和所述下夹板分别包括:基板，所述基板上设置有沉降槽，所述沉降槽的侧壁上设置有用于支撑衬底的凸台，当所述上夹板扣合于所述下夹板上时，所述上夹板的沉降槽对应所述下夹板的沉降槽，以形成容纳所述衬底的空腔。优选地，所述沉降槽的周缘设置有限位件，当所述上夹板扣合于所述下夹板时，所述上夹板上的限位件与所述下夹板上的限位件配合，以限制所述上夹板和所述下夹板沿所述上夹板和所述下夹板的接触面相对移动。优选地，所述沉降槽的形状为矩形，所述限位件设置在所述沉降槽的对角线上，所述上夹板上的限位件为限位孔，所述下夹板上的限位件为与所述限位孔配合的凸起部。优选地，所述沉降槽的侧边相对设置有与所述沉降槽贯通的外扩耳，并且所述外扩耳的深度大于所述凸台的深度，所述外扩耳沿所述沉降槽的侧边的长度大于用于夹持所述衬底的镊子尖部的长度。优选地，相比于所述衬底的宽度和长度，所述沉降槽的宽度和长度对应地多出0.5mmο优选地，所述凸台沿所述沉降槽的横截面方向的宽度为0.1_。优选地，所述凸台的深度为0.65mm。优选地，所述凸台的上表面距离所述沉降槽的底部为0.5mm。优选地，所述转移夹具采用聚四氟乙烯材料制成。采用上述技术方案，本技术至少具有下列效果:采用本技术的用于分子束外延工艺中碲锌镉衬底的转移夹具在转移碲锌镉彻底时操作简单，方便地将衬底以简单的方式快速地转移到分子束外延设备中，并且在衬底的转移过程中，避免了衬底表面的污染。【附图说明】图1为本技术一个优选实施例转移夹具的下夹板的俯视示意图；图2为图1所示下夹板的沿A-A线的剖视示意图；图3为图1所示下夹板的沿B-B线的剖视示意图。其中，1-基板;2_沉降槽;3_凸台;4_外扩耳;5_凸起部;6_限位孔。【具体实施方式】为更进一步阐述本技术为达成预定目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对本技术进行详细说明如后。本技术提供的用于分子束外延工艺中碲锌镉衬底的转移夹具包括上夹板和下夹板。下面将详细地描述本技术的转移夹具及其各个部分。如图1和图2所示，作为本专利技术的一个优选实施例，上夹板和下夹板分别包括:基板1，基板I上设置有沉降槽2，沉降槽2的侧壁上设置有用于支撑衬底的凸台3，当上夹板扣合于下夹板上时，上夹板的沉降槽2对应下夹板的沉降槽2，以形成容纳衬底的空腔。凸台3的作用是支撑衬底，衬底可以放置在凸台3上，仅是衬底的边缘抵靠在凸台3上，而衬底的下方没有接触到沉降槽的底部。进一步地，上夹板和下夹板可以是一模一样的，当上夹板扣合在下夹板上时，上夹板的沉降槽2对应下夹板的沉降槽2，由此当放置好衬底于下夹板的凸台3上后，上夹板的沉降槽2和下夹板的沉降槽2形成空腔。从而，在通过扣合好的上夹板和下夹板做一个翻转后，上夹板被翻转到下夹板的下方，以完成对衬底的上表面和下表面的对调。即，如果衬底的上表面原来朝上的，经过翻转后，衬底的上表面朝上。从而避免了现有技术中，操作人员通过双手操作镊子和吸笔来完成衬底的上表面与下表面的对调，使得这个工序的操作简单、方便，降低了对操作人员的操作要求。如图1所示，作为优选地，沉降槽2的周缘设置有限位件，当上夹板扣合于下夹板时，上夹板上的限位件与下夹板上的限位件配合，以限制上夹板和下夹板沿上夹板和下夹板的接触面相对移动。限位件的设置目的是防止在将扣合的上夹板和下夹板翻转时，出现上夹板和下夹板的相对错动，而使得衬板掉出，甚至掉落的情况，由此确保衬底的安全当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于分子束外延工艺中碲锌镉衬底的转移夹具，其特征在于，包括上夹板和下夹板，所述上夹板和所述下夹板分别包括：基板，所述基板上设置有沉降槽，所述沉降槽的侧壁上设置有用于支撑衬底的凸台，当所述上夹板扣合于所述下夹板上时，所述上夹板的沉降槽对应所述下夹板的沉降槽，以形成容纳所述衬底的空腔。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王经纬，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第十一研究所，
类型：新型
国别省市：北京;11
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