【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种曝光系统，具体是一种激光直写垂直双面曝光系统，属于直写式光刻机快速扫描曝光
技术介绍
直写式光刻技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式光刻技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位。利用该技术可以缩短工艺流程，并降低生产成本。目前市场上主流的直写式光刻机大多以单工件台方式进行扫描曝光，先将被曝光工件的A面曝光完成后，再进行翻版，然后对B面进行曝光。在单工件台系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统，各操作流程均已经达到耗时的上限，很难再缩短某个操作步骤的操作时间，即单工件台的直写式光刻机由于各操作流程的串行性质，已很难再提高产能。
技术实现思路
针对上述现有技术存在的问题，本专利技术提供一种激光直写垂直双面曝光系统，能够提高产能，大大提高工作的效率。为了实现上述目的，本专利技术采用的一种激光直写垂直双面曝光系统，所述系统包括基座和被曝光工件，其特征在于，所述被曝光工件垂直放置于基座的上方，所述被曝光工件的一端与基座活动连接；在所述被曝光工件的两侧分别设有左移动光路和右移动光路，所述左移动光路和右移动光路分别与被曝光工件垂直。所述被曝光工件沿Y方向移动时，所述左移动光路和右移动光路分别沿Z方向移动。所述曝光系统能够同时曝光被曝光工件的两面。所述被曝光工件包括PCB板和硅片。与现有技术相比，本专利技术中将被曝光工件垂直放置于基座的上方并且能够沿Y轴方向移动，此时，设置在被曝光工件两侧的移动光路分别沿Z轴方向移动，这样能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使...
【技术保护点】
一种激光直写垂直双面曝光系统，所述系统包括基座（3）和被曝光工件（1），其特征在于，所述被曝光工件（1）垂直放置于基座（3）的上方，所述被曝光工件（1）的一端与基座（3）活动连接；在所述被曝光工件（1）的两侧分别设有左移动光路（4）和右移动光路（2），所述左移动光路（4）和右移动光路（2）分别与被曝光工件（1）垂直。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵华，张伟，陈旻峰，
申请(专利权)人：江苏影速光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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