相位差膜的制造方法技术

技术编号:12354093 阅读:182 留言:0更新日期:2015-11-19 04:10
本发明专利技术提供改善了支撑体与光学各向异性层之间的密合性以及液晶取向不良少的相位差膜的制造方法。相位差膜的制造方法包含以下工序:准备含有增塑剂和/或光学特性调整剂的带状支撑体的工序;在所述支撑体上涂布在溶解或溶胀所述支撑体的溶剂中溶解有棒状聚合性液晶化合物、取向控制剂和取向辅助剂的原料液,形成膜的涂布工序;通过干燥涂布在所述支撑体上的膜,形成使所述溶剂渗入到所述支撑体内部的涂膜的干燥工序;按照所述涂膜的内部温度达到使所述取向控制剂和所述取向辅助剂向所述涂膜表面移动的温度的方式,对所述涂膜加热的热处理工序;按照所述涂膜的内部温度达到将所述取向控制剂和所述取向辅助剂的位置固定的温度的方式进行冷却的冷却工序;和对所述涂膜照射活性放射线,将所述涂膜固化的固化工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有使液晶化合物取向而成的光学各向异性层的相位差膜的制造方 法。
技术介绍
近年来,液晶显示装置的用途极速扩展,被用在手机、笔记本用显示器、电视、液晶 投影仪等中。 -般来说,液晶显示装置通过以TN(TwistedNematic,扭曲向列)模式、 VA(VerticalAlignment,垂直取向)模式、IPS(In_PlaneSwitching,面内切换)模式、 0CB(0pticallyCompensatoryBend,光学补偿弯曲)模式、ECB(ElectricallyControlled Birefringence,电控双折射)模式等显示模式使液晶工作,对通过液晶的光进行电控制而 将明暗差异显示在画面上。由此,液晶显示装置显示文字或图像。 作为这样的液晶显示装置,一般来说已知TFT(ThinFilmTransistor,薄膜晶体 管)-LCD。近年来,随着液晶显示装置的用途进一步扩展,对由视野角导致的亮度或色度变 化小的显示装置的期望增高。为了对应该期望,IPS模式的液晶显示装置的研究不断进展。 IPS模式多被用作平板电脑等的显示器,画面的亮度大大提高。因此,作为显示品质降低的 原因,以往并非问题的黑显示时的对角方向上的微小漏光变得明显。 对于这样的问题,专利文献1中记载了下述方法:在具有中间层的支撑体上涂布 将棒状的聚合性液晶化合物溶解在有机溶剂中而成的涂布液,将涂布液干燥,将干燥后的 涂布液加热,对经加热的涂布液照射活性放射线使其固化,从而形成光学各向异性层。 另外,专利文献2中记载了下述方法:在支撑体上形成阻挡层和中间层,由其上涂 布含有液晶性化合物的涂布液,将该涂布液的温度提高至相转变温度以上后,经过保持在 相转变温度以下的干燥-加热处理-固化工序,形成光学各向异性层。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2010-211110号公报 专利文献2 :日本特开2002-277637号公报
技术实现思路
专利技术欲解决的技术问题 专利文献1的方法中,由于取向锚固力(anchoringstrength)弱且加热时间不 足,因此无法避免取向缺陷的发生。 另外,专利文献2的方法中,由于需要形成2层中间膜,因此工序变得繁琐,中间膜 形成时的涂布液中未使用溶解支撑体的溶剂,因此存在支撑体与中间膜的密合性能差的问 题。 如上所述,为了在支撑体上使液晶取向,多在支撑体上设置中间层、在中间层上形 成液晶相。这是由于,中间层具有使液晶取向的功能以及防止支撑体组成成分向液晶膜扩 散的功能。 但是,由于需要形成中间层的工艺,因此存在制造成本上升、尘埃等性能品质上的 问题。因而,本申请专利技术者们深入研究了在不形成中间层的情况下进行取向的方法。 当不使用中间层而在支撑体上直接形成液晶垂直取向膜时,需要对支撑体的表面 进行摩擦处理或等离子体处理等特別的表面处理。该表面处有制造成本上升、尘埃等混入 所导致的品质下降的可能。 另外,通过涂布形成光学各向异性层(也称作液晶层)时,在IPS模式用相位差膜 的情况下,支撑体与液晶层之间的密合性(密合力)不足、液晶层剥落的问题变得明显。密 合性的不足认为是由于没有使支撑体与液晶层结合的因子。 作为液晶层形成用的涂布液的溶剂,使用将支撑体溶解或溶胀的溶剂来提高支撑 体-液晶层之间的密合性。但是,取向不良发生、密合性与取向之间的权衡问题变得明显。 因此,专利技术者们进行了深入研究的结果发现,液晶取向不良的原因是支撑体中的 成分溶出并混入到液晶层中,阻碍了液晶取向而发生取向缺陷。 本专利技术是考虑到这样的课题而完成的,其目的在于改善支撑体与光学各向异性层 之间的密合性、提供液晶取向不良少的。 用于解决课题的方法 本专利技术的一个方式中,具备以下工序:准备含有增塑剂和/ 或光学特性调整剂的带状支撑体的工序;在连续行进的支撑体上涂布在溶解或溶胀支撑体 的溶剂中溶解有棒状聚合性液晶化合物、取向控制剂和取向辅助剂的原料液,形成膜的涂 布工序;通过干燥涂布在支撑体上的膜,将取向控制剂和取向辅助剂的位置固定、且形成使 溶剂渗入到支撑体内部〇. 3ym以上的涂膜的干燥工序;按照涂膜的内部温度达到使取向 控制剂和取向辅助剂向涂膜表面移动的温度的方式对涂膜加热25秒以上的热处理工序; 在热处理工序后,按照涂膜的内部温度达到将取向控制剂和取向辅助剂的位置固定的温度 的方式进行冷却的冷却工序;和在冷却工序后,对残留溶剂比率小于3质量%的涂膜照射 活性放射线,将涂膜固化,形成光学各向异性层的固化工序。 优选原料液中所含的溶剂相对于支撑体的原材料的溶解度参数SP值具有 ±2 范围内的溶解度参数SP值。 优选原料液除了对支撑体进行溶解、溶胀的溶剂之外,还含有其他多种溶剂。 优选在干燥工序中包含以0.I以下的干燥速度将膜干燥的工序。 优选支撑体为纤维素系膜。 专利技术效果 根据本专利技术,可以制造支撑体与光学各向异性层之间的密合性得到改善、液晶取 向不良少的相位差膜。【附图说明】 图1是相位差膜的制造设备的概略构成图。 图2A是表示液晶化合物、取向控制剂、取向辅助剂的作用的说明图。 图2B是表示液晶化合物、取向控制剂、取向辅助剂的作用的说明图。 图2C是表示液晶化合物、取向控制剂、取向辅助剂的作用的说明图。 图2D是表示液晶化合物、取向控制剂、取向辅助剂的作用的说明图。 图3是表不实施例的结果的表图。 图4是表不实施例的结果的表图。【具体实施方式】 以下根据【附图说明】本专利技术的优选实施方式。本专利技术通过以下的优选实施方式进行 说明,但可以在不脱离本专利技术范围的情况下利用多种手法进行变更,可以利用本实施方式 以外的其他实施方式。因此,本专利技术范围内的全部变更包含在权利要求的范围内。 这里,图中用相同符号表示的部分是具有相同功能的相同要素。另外,本说明书中 使用"~"表示数值范围时,"~"所示的上限、下限的数值也包含在数值范围内。 () 本方式的包含以下工序:准备含有增塑剂和/或光学特性 调整剂的带状支撑体的工序;在连续行进的支撑体上涂布将棒状聚合性液晶化合物、取向 控制剂和取向辅助剂溶解在将支撑体溶解或溶胀的溶剂中而成的原料液,形成膜的涂布工 序;通过将涂布在支撑体上的膜干燥,将取向控制剂和取向辅助剂的位置固定,且形成使溶 剂渗入到支撑体内部〇. 3ym以上的涂膜的干燥工序;按照涂膜的内部温度达到使取向控 制剂和取向辅助剂在涂膜表面上移动的温度的方式,对涂膜加热25秒以上的热处理工序; 在热处理工序后,为了使涂膜的内部温度达到将取向控制剂和取向辅助剂的位置固定的温 度进行冷却的冷却工序;在冷却工序后,对残留溶剂比率小于3质量%的涂膜照射活性放 射线,将涂膜固化,形成光学各向异性层的固化工序。 在支撑体上以涂布方式直接形成光学各向异性层时,使用将支撑体溶解或溶胀的 溶剂,制作含有聚合性液晶化合物、取向控制剂和取向辅助剂的原料液。通过使用将支撑体 溶解或溶胀的溶剂,在干燥工序中溶剂渗入到支撑体内部、形成支撑体与膜混合的区域。通 过在此状态下进行活性线照射、固化,可以提高支撑体与光学各向异性层之间的密合性。其 中,使渗入厚度为〇. 3ym以上地进行渗入时,更牢固地密合。 另一方面,利用含有将支撑体溶解或溶本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种相位差膜的制造方法,其包含以下工序:准备含有增塑剂及光学特性调整剂中的至少1种的带状支撑体的工序;在连续行进的所述支撑体上涂布在溶解或溶胀所述支撑体的溶剂中溶解有棒状聚合性液晶化合物、取向控制剂和取向辅助剂的原料液,形成膜的涂布工序;通过干燥涂布在所述支撑体上的膜,将所述取向控制剂和所述取向辅助剂的位置固定、且形成使所述溶剂渗入到所述支撑体内部0.3μm以上的涂膜的干燥工序;按照所述涂膜的内部温度达到使所述取向控制剂和所述取向辅助剂向所述涂膜表面移动的温度的方式,对所述涂膜加热25秒以上的热处理工序;在所述热处理工序后,按照所述涂膜的内部温度达到将所述取向控制剂和所述取向辅助剂的位置固定的温度的方式进行冷却的冷却工序;和在所述冷却工序后,对残留溶剂比率小于3质量%的所述涂膜照射活性放射线,将所述涂膜固化,形成光学各向异性层的固化工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:安藤广敏冲和宏
申请(专利权)人:富士胶片株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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