本发明专利技术涉及一种使用标记系统(1)尤其是激光系统将结构尤其是标记和/或铭文引入到至少一个元件(12；24)中的方法，其中，该至少一个元件(12；24)相对于轴(16)布置。该方法特征在于以下步骤：a)将轴(16)布置在标记系统(1)中或者将轴连同相对于轴(16)布置的元件(12；24)布置在标记系统(1)中；b)相对于标记系统(1)的参考点，优选地零点确定轴的位置，优选地枢转点；以及c)将结构引入到元件(12；24)中。本发明专利技术还涉及生产角度测量系统或其部件的方法以及使用这种方法生产的角度测量系统或角度测量系统的部件。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种借助于标记系统将结构，尤其是标记或铭文施加到至少一个元件的方法，并且涉及一种生产角度测量系统或角度测量系统的部件的方法，以及涉及一种借助于该方法生产的角度测量系统或角度测量系统的部件。
技术介绍
在角度测量系统中，用于确定角度的刻度总是必须在高精确度的情况下来施加。从现有技术，具体地说从DE 100 19 499已知一种铭刻方法，其中，信号载体附接在具有旋转轴线的铭刻装置中，且信号载体绕该旋转轴线旋转。当施加标记时，信号载体的中心相对于旋转轴线的偏心距被探测，并且校正后的数值被考虑。同样从现有技术，例如DE 10 2005 021 504已知，调节在铭刻系统的支承装置上待设有标记的主体，其中，调节通过在主体和支承装置上的标记的相互对准来进行。然而，已知方法的缺点是，虽然考虑了待设有铭文的信号载体或元件相对于铭刻系统的参考轴线的偏心距，但元件在铭刻之后被安装到角度测量系统上，该系统可同样具有制造公差或不平衡。因为制造公差乃至角度测量系统自身的支座的动态不平衡并未被考虑，这又导致在距离测量或角度测量过程中的不准确。为了抵消这些问题，角度测量系统自身必须制造成具有极高精确度，这是非常昂贵且复杂的。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种用于在元件上，具体地说在允许精确测量的角度测量系统的元件上生产结构的简化方法。该目的通过如权利要求1所述的生产结构的方法、如权利要求16所述的生产角度测量系统或角度测量系统的部件的方法以及如权利要求20所述的测量系统或测量系统的部件实现。术语“部件”被理解成是指单件式部件或多件式部件。根据本专利技术，提供了一种通过标记系统，具体地说激光系统将结构，具体地说标记和/或铭文施加到至少一个元件的方法，其中所述至少一个元件相对于轴布置。本专利技术基于这样的想法:在第一步骤a)中，将元件会随后布置或附接到其上的轴和/或轴连同相对于该轴布置的元件布置在标记系统中。在第二步骤b)中，确定轴相对于标记系统的参考点，优选地原点的位置和/或旋转中心，并且接着在步骤c)中，结构施加到相对于轴布置的元件。因此，确定的不是如现有技术中元件自身的偏心距，而是元件相对于其布置的轴位置，优选地其旋转中心，并且因此降低了制造不准确度并且也考虑了轴支座的动态不平衡。此外，由于当施加结构时元件已经处于其组装位置，因此可以大大地简化角度测量系统的生产。根据专利技术方法的另一有利实施例，考虑轴的位置和/或旋转中心的确定来施加结构。这意味着，与其中当施加结构时，元件偏心距对校正数值来说是决定性的现有技术相比，在本专利技术方法中，当施加结构时根本不用考虑该元件偏心距，而仅对轴的位置或旋转中心感兴趣。由于元件不必布置在另一轴上，而是留在测量轴上，因此这是特别有可能的。根据另一有利实施例，轴和/或具有相对于轴布置的元件的轴紧接步骤a)的所有步骤期间留在标记系统中。以有利的方式，因为避免了由于从标记系统移除轴而导致的缺陷，所以可以进一步提高精确度。同时，该方法因不必再次测量轴的位置而可以被简化。根据另一有利实施例，使用测量体，具体地用于确定轴的位置和/或旋转中心与标记系统的参考点的关系，其中，测量体优选地以形状配合的方式放置在轴上。通过该专利技术性的测量体，轴相对于标记系统的参考点的位置或旋转中心可以被唯一地确定。因此，测量体可以形成为主动测量体和/或被动测量体。作为模范地，提供信号的传感器可以被视为主动测量体，其中信号可以用于(主动地)确定轴的位置，并且其中主动测量体将测量到的信号例如直接传递到标记系统乃至到控制系统，该控制系统又连接到标记系统。可替代地或此外，也可以使用优选地通过标记系统预测量的被动测量体，从而又可以确定轴的位置或旋转中心。为此，标记例如可以施加到测量体上，该标记通过标记系统来探测。根据标记所位于的位置，标记系统可接着确定轴的位置或旋转中心。这种标记可以事先施加到测量体，但也能够通过标记系统施加并且接着测量该标记。然而，同时也能够仅从测量体的几何形状确定轴的位置或旋转中心。无论什么设计，测量体自身有利地允许简单快速地确定轴的位置或旋转中心，并且因此又简化了方法。如果测量标记施加到测量体上，则特别有利的是，标记系统照射测量标记，该标记系统优选地包括至少一个适当辐射源用于确定轴的位置和/或旋转中心，其中测量标记优选地形成成使得当用辐射源照射时，测量标记呈现出在至少一个有结构位置处和在无结构位置处不同的反射行为。由于辐射源通常已经设置在标记系统上，因此以这样的方式形成的测量标记可以用于以特别简单的方式确定轴的位置或旋转中心。根据又一有利实施例，测量体在施加结构之前从轴移除。因此，可以确保轴留在标记系统中，同时仅测量体被移除。本专利技术方法的另一有利步骤包括:轴的旋转，用于确定轴的位置和/或旋转中心。轴自身的位置或其旋转中心可以在该旋转之前和/或之后乃至在该旋转期间被测量，或者放置在轴上的测量体可以如上所述有助于唯一地确定轴的位置或其旋转中心。当然，替代轴，装置也可以绕轴旋转，其中，在这种情况下，测量体优选地放置在设备而不是轴上。根据另一有利实施例，用于确定轴的旋转中心和/或轴的位置的步骤的所施加的标记系统的能量密度比用于施加结构的步骤所施加的低。如果标记系统形成为激光系统，则是特别优选的。如上面已经描述的，标记系统还可以设计成扫描施加到测量体的测量标记。然而，为了做到这而没有造成损害，有利的是，设定标记系统的能量密度使得没有结构损害或影响发生在测量体上。如果能量密度低于所用材料的标记阈值，则是特别优选的。这例如意味着，当使用激光时，激光可以在第一能量密度下致动或使用，该第一能量密度对测量体的材料和/或设有结构的元件没有影响，并且仅用于确定轴的位置或旋转中心。与第一能量相比，第二能量密度调整成使得结构可以施加到元件。因为在结构的区域中，元件的材料特性由于由辐射源、具体地说由激光施加的能量密度而被改变，所以这种结构大多是永久性的。根据另一有利实施例，专利技术方法包括将元件附接到轴或到包括轴的装置的步骤，其中附接元件的步骤发生在步骤a)，S卩，将轴布置在标记系统中的步骤之前，或在在步骤c)，即，施加结构之前。再一次，轴优选地保留在标记系统中，并且因此缺陷不会由于轴从标记系统移除而出现。替代地，为了将元件附接到轴，轴可以再次从标记系统去除。可以进一步有利于再次实施确定位置的步骤。由于当元件附接到轴或相对于轴布置时，结构仅施加到元件，因此元件的偏心距是否已经被确定是不相关的。在本专利技术方法中，避免缺陷的决定性因素是元件附接到或布置在其上的轴的位置的测量。根据另一有利实施例，本专利技术方法可以不仅用于向单个元件提供结构，而且用于向相对于轴布置的多个元件提供结构。因此，对于任何另外的元件，仅实施附接步骤和施加结构的步骤。因此，可以再次简化和促进方法。当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种利用标记系统(1)将结构施加到至少一个元件(12；24)的方法，所述标记系统(1)尤其是激光系统，所述结构尤其是标记和/或铭文，其中所述至少一个元件(12；24)相对于轴(16)布置，所述方法的特征在于以下步骤：a)将所述轴(16)或具有相对于所述轴(16)布置的所述元件(12；24)的所述轴布置在所述标记系统(1)中；b)确定所述轴(16)的相对于所述标记系统(1)的参考点优选地原点的位置和/或旋转中心；c)将结构施加到所述元件(12；24)。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：兰多夫·卡尔·霍彻，
申请(专利权)人：兰多夫·卡尔·霍彻，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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