含氮杂环化合物制造技术

本发明专利技术的含氮杂环化合物或其可药用盐例如可用作用于例如皮肤病等的预防和/或治疗药剂等。本发明专利技术提供了一种由通式(I)表示的杂环化合物或其可药用盐等，其例如可以作为预防和/或治疗药剂用于皮肤病等。[在所述式中，例如，XA是CH等，R1是任选具有取代基的环烷基等，L是键等，YA是-NH-等，R2是氢原子等，R3A是式(R3A-1)(其中R3是羟基等)，并且R4A是式(R4A-1)(其中R4与R5各自相同或不同，表示氢原子等)。]

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种由式(I)表示的含氮杂环化合物或其可药用盐，(其中，XA表示CH或氮原子，R1表示任选地具有取代基的环烷基、任选地具有取代基的芳基、任选地具有取代基的芳香族杂环基或任选地具有取代基的脂族杂环基，L表示键或亚烷基，YA表示‑NH‑、‑O‑、‑NH‑C(＝O)‑、‑S‑、‑NH‑NR1a‑(其中R1a表示低级烷基)或键(条件是YA和L不同时表示键)，R2表示氢原子、氰基、卤素、任选地具有取代基的低级烷基或任选地具有取代基的低级烷氧基，R3A表示下式(R3A‑1)或(R3A‑2){其中，R3表示羟基、任选地具有取代基的低级烷基、任选地具有取代基的芳基或‑NR3aR3b[其中，R3a与R3b相同或不同，并各自表示氢原子、任选地具有取代基的低级烷基、任选地具有取代基的低级烷氧基、任选地具有取代基的环烷基、任选地具有取代基的芳基、任选地具有取代基的芳香族杂环基、任选地具有取代基的脂族杂环基或‑C(＝O)R3c(其中，R3c表示任选地具有取代基的低级烷基、任选地具有取代基的低级烷氧基、任选地具有取代基的低级烷基氨基、任选地具有取代基的环烷基氨基或任选地具有取代基的环烷基)，或者R3a和R3b与相邻的氮原子一起形成任选地具有取代基的含氮杂环基]，并且R3d表示氢原子、低级链烷酰基、芳酰基或低级烷基氨甲酰基}，并且R4A表示下式(R4A‑1)、(R4A‑2)、(R4A‑3)、(R4A‑4)、(R4A‑5)或(R4A‑6)[其中，R4与R5相同或不同，并各自表示氢原子、羟基、氰基、任选地具有取代基的低级烷基、任选地具有取代基的芳基、任选地具有取代基的低级烷氧基或‑C(＝O)R4c(其中R4c表示氨基、任选地具有取代基的烷基或任选地具有取代基的低级烷氧基)，或者R4和R5与相邻的碳原子一起形成任选地具有取代基的脂族杂环基，R6、R7、R8和R9表示任选地具有取代基的芳基，R10与R11相同或不同，并各自表示氢原子、羟基、氰基、任选地具有取代基的低级烷基、任选地具有取代基的芳基、任选地具有取代基的低级烷氧基或‑C(＝O)R4c(其中R4c表示氨基、任选地具有取代基的烷基或任选地具有取代基的低级烷氧基)，或者R10和R11与相邻的碳原子一起形成任选地具有取代基的脂族杂环基])。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：内田贤司，金井寿美，本间正一，荒武诚士，石森达也，
申请(专利权)人：协和发酵麒麟株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP