黑矩阵曝光图案的补正方法和装置以及曝光系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及液晶显示器制备工艺技术领域，公开了一种黑矩阵曝光图案的补正方法和装置以及曝光系统，用以提高补正精度，进而提高显示面板的显示效果。其中黑矩阵曝光图案的补正方法，包括：获得曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与掩模板之间距离的间隙调整参数，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面内，回转方向为工作台绕支撑掩模板的基台的中心轴旋转的方向；根据第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及间隙调整参数控制工作台移动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示器制备工艺
，特别涉及一种黑矩阵曝光图案的补正方法和装置以及曝光系统。
技术介绍
随着显示技术的不断发展，人们对显示装置的显示效果要求越来越高。在薄膜晶体管液晶显不装置(TFT-LCD，Thin Film Transistor一Liquid Crystal Display)行业的制备彩膜基板(CF，Color Filter)工艺中，在基板上形成黑矩阵(BM，Black Matrix)是首道工艺，但在采用掩模板进行曝光时，掩模板与基板之间没有对位标记，曝光时由于曝光设备存在波动，在基板上形成黑色矩阵曝光图案后，需要对曝光图案的位置进行补正，以保证形成的黑矩阵曝光图案中对应的每个液晶盒的位置与阵列基板达成精准对盒。因为在实际生产中，彩膜基板与阵列基板对盒时，若液晶盒的位置偏离，会导致液晶面板漏光现象的发生。现有的技术中，黑矩阵曝光图案的补正方法是通过基板的支撑台的移动调整基板的Χ，γ和Θ三个参数，其中:Χ方向和Y方向在同一水平面内，X方向和Y方向相互垂直，X和Y为水平面内的调整参数，Θ是以曝光中心为轴(Ζ轴)，在回转方向的调整参数，调整时，根据待修补区域对应的液晶盒位置的实际测量值与设计值之间的差值计算出X、Y以及Θ值，以实现对与待修补区域对应的掩模板和基板之间的相对位置的调整，进而可以对黑矩阵曝光图案正待修补的区域进行补正。如图1和图2所示，其中:图1为一种畸形黑矩阵曝光图案，图2为另一种畸形黑矩阵曝光图案，对于图1和图2所示的畸形黑矩阵曝光图案，采用现有技术中的补正方法对待修补区域01补正，补正效果不好，甚至无法补正，影响显示面板的品质。
技术实现思路
本专利技术提供了一种黑矩阵曝光图案的补正方法和装置以及曝光系统，用以提高补正精度，进而提高显示面板的显示效果。为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案:本专利技术提供了一种黑矩阵曝光图案的补正方法，包括:获得曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与所述掩模板之间距离的间隙调整参数，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面内，所述回转方向为所述工作台绕支撑掩模板的基台的中心轴旋转的方向；根据所述第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及间隙调整参数控制所述工作台移动。本专利技术提供的黑矩阵曝光图案的补正方法，可以在三维空间内对掩模板和基台的位置关系进行调整，进而可以调整基板与掩模板之间的位置关系，以便对有黑矩阵曝光图案内待修补区域进行补正，调整后形成的曝光图案更好，可以提高补正精度，进而提高显示面板的显示效果。在一些可选的实施方式中，所述获得曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与所述掩模板之间距离的间隙调整参数包括:获取基板上的黑矩阵曝光图案信息；确定黑矩阵曝光图案内的待修补区域，并确定曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与所述掩模板之间距离的间隙调整参数。在一些可选的实施方式中，所述确定黑矩阵曝光图案内的待修补区域，确定曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与所述掩模板之间距离的间隙调整参数具体包括:根据所述待修补区域对应的液晶盒的实际位置测量值与设计值之间的差值得到所述第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及间隙调整参数控制所述工作台移动。在一些可选的实施方式中，所述根据所述间隙调整参数控制所述工作台移动具体包括:根据所述间隙调整参数控制所述工作台的支撑座的高度。本专利技术还提供了一种黑矩阵曝光图案的补正装置，包括:获得模块，用于获得曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与所述掩模板之间距离的间隙调整参数，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面内，所述回转方向为所述工作台绕支撑掩模板的基台的中心轴旋转的方向；处理模块，用于根据所述第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及间隙调整参数控制所述工作台移动。在一些可选的实施方式中，所述获得模块包括:获取模块，用于获取基板上的黑矩阵曝光图案信息；计算模块，用于确定黑矩阵曝光图案内的待修补区域，并确定曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与所述掩模板之间距离的间隙调整参数。在一些可选的实施方式中，所述计算模块具体用于:根据所述待修补区域对应的液晶盒的实际位置测量值与设计值之间的差值得到所述第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及间隙调整参数控制所述工作台移动。在一些可选的实施方式中，所述处理模块具体用于:根据所述间隙调整参数控制所述工作台的支撑座的高度。本专利技术还提供了一种曝光系统，包括:用于支撑基板的工作台、位于所述工作台上方、用于支撑掩模板的基台，所述工作台背离所述基板的一面设有多个支撑座，还包括:控制装置，用于获得曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与所述掩模板之间距离的间隙调整参数，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面内，所述回转方向为所述工作台绕支撑掩模板的基台的中心轴旋转的方向；还用于根据所述第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及间隙调整参数控制所述工作台移动。在一些可选的实施方式中，上述曝光系统还包括:采集装置，用于获取基板上的黑矩阵曝光图案信息；确定装置，用于根据所述待修补区域对应的液晶盒的实际位置测量值与设计值之间的差值得到所述第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及间隙调整参数控制所述工作台移动。【附图说明】图1为一种畸形黑矩阵曝光图案；图2为另一种畸形黑矩阵曝光图案；图3为本专利技术提供的黑矩阵曝光图案的补正方法的一种流程图；图4为本专利技术提供的黑矩阵曝光图案的补正方法的另一种流程图；图5为本专利技术提供的黑矩阵曝光图案的补正装置的一种结构示意图；图6为本专利技术提供的黑矩阵曝光图案的补正装置的另一种结构示意图；图7为本专利技术提供的曝光系统的一种结构示意图；图8为本专利技术提供的曝光系统的另一种结构示意图。附图标记:01-待修补区域1-获得模块11-获取模块12-计算模块2-处理模块3-输入装置4-工作台41-支撑座5-基板6_掩模板7-控制装置8-采集装置9-确定装置【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。如图3所示，图3为本专利技术提供的黑矩阵曝光图案的补正方法的一种流程图；本专利技术提供的黑矩阵曝光图案的补正方法，包括:步骤S301:获得曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与掩模板之间距离的间隙调整参数，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面内，回转方向为工作台绕支撑掩模板的基台的中心轴旋转的方向；步骤S302:根据第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种黑矩阵曝光图案的补正方法，其特征在于，包括：获得曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与所述掩模板之间距离的间隙调整参数，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面内，所述回转方向为所述工作台绕支撑掩模板的基台的中心轴旋转的方向；根据所述第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及间隙调整参数控制所述工作台移动。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李意峰，张鹤群，孟祥明，邢宏伟，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34