本实用新型专利技术公开了一种曝光机的校验装置，包含上左右向移载机构；上照射部，设于上左右向移载机构且具有多个上光源；下左右向移载机构；下照射部，设于下左右向移载机构且具有多个下光源；前后向相对移载机构；上感光基板曝光平台，设于前后向相对移载机构、位于上照射部的下方且上部后侧设有一个以上的上光传感器；下感光基板曝光平台，设于前后向相对移载机构、位于下照射部的上方且下部后侧设有一个以上的下光传感器；光源调整部，控制上照射部与上感光基板曝光平台的相对移动及/或下照射部与下感光基板曝光平台的相对移动，及调整上光源及下光源为相同的照射强度或相同的照射能量。本实用新型专利技术的曝光机的校验装置提升了曝光机曝光的良率。
【技术实现步骤摘要】
本技术提供一种曝光机的校验装置，尤指一种可利用曝光机原始的机构及简易的装置随时调整所有的光源为相同的照射强度或相同的照射能量，以提升曝光机曝光的良率。
技术介绍
电路板为现今电子装置中的重要组件，而曝光机为目前制作电路板影像转移制程的主要设备。曝光机主要利用曝光的方式在电路板上制作线路，然而，曝光机的光源经过多次使用后，各个光源常会因自身使用寿命的关系而造成其照射强度或照射能量减弱，使得所有光源的照射强度分布不均或照射能量分布不均，降低了曝光机曝光的良率。在此之后便有检测器利用多个光传感器检测光源，然而，由于该检测器的结构复杂、成本高、分割数被限制，而且该检测器并无法对光源的照射强度分布不均或照射能量分布不均做改善。因此，如何创作出一种曝光机的校验装置，以使其可利用曝光机原始的机构及简易的装置随时调整所有的光源为相同的照射强度或相同的照射能量，以提升曝光机曝光的良率，将是本技术所欲积极揭露之处。
技术实现思路
有鉴于上述现有技术的缺陷，专利技术人有感其未臻于完善，遂竭其心智悉心研宄克月艮，进而研发出一种曝光机的校验装置，以期达到曝光机可利用原始的机构及简易的装置随时调整所有的光源为相同的照射强度或相同的照射能量，以提升曝光机曝光的良率的目的。为达上述目的及其他目的，本技术提供一种曝光机的校验装置，其包含:上左右向移载机构；上照射部，其设置于该上左右向移载机构，该上照射部具有多个上光源以向下照射；下左右向移载机构；下照射部，其设置于该下左右向移载机构，该下照射部具有多个下光源以向上照射；前后向相对移载机构，该上照射部位于该前后向相对移载机构的后部的上方，该下照射部位于该前后向相对移载机构的后部的下方；上感光基板曝光平台，其设置于该前后向相对移载机构且位于该上照射部的下方，该上感光基板曝光平台的上部后侧设置有一个以上的上光传感器，以感测这些上光源的照射强度或照射能量，该上光传感器位于该上照射部的端缘；下感光基板曝光平台，其设置于该前后向相对移载机构且位于该下照射部的上方以与该上感光基板曝光平台相对移动，该下感光基板曝光平台的下部后侧设置有一个以上的下光传感器，以感测这些下光源的照射强度或照射能量，该下光传感器位于该下照射部的端缘；以及光源调整部，其电连接该上左右向移载机构、这些上光源、该下左右向移载机构、这些下光源、该前后向相对移载机构、该上光传感器及该下光传感器，以控制该上照射部与该上感光基板曝光平台的相对移动及/或该下照射部与该下感光基板曝光平台的相对移动，及调整这些上光源及这些下光源为相同的照射强度或相同的照射能量。上述的曝光机的校验装置中，这些上光源及这些下光源为紫外光发光二极管，该上光传感器及该下光传感器为紫外光传感器。上述的曝光机的校验装置中，这些上光源及这些下光源呈矩阵排列。上述的曝光机的校验装置中，还包含光源拆换警示器，其电连接该光源调整部。借此，本技术的曝光机的校验装置可利用曝光机原始的机构及简易的装置随时调整所有的光源为相同的照射强度或相同的照射能量，以提升曝光机曝光的良率。【附图说明】图1为本技术较佳具体实施例曝光机的示意图。图2为本技术较佳具体实施例前后向相对移载机构、上感光基板曝光平台及下感光基板曝光平台的分解示意图。图3为本技术较佳具体实施例前后向相对移载机构、上感光基板曝光平台及下感光基板曝光平台的组合示意图。图4为本技术较佳具体实施例上左右向移载机构、上照射部、下左右向移载机构、下照射部、前后向相对移载机构、上感光基板曝光平台及下感光基板曝光平台的分解示意图。图5为本技术较佳具体实施例上左右向移载机构、上照射部、下左右向移载机构、下照射部、前后向相对移载机构、上感光基板曝光平台及下感光基板曝光平台的组合示意图。主要部件附图标记:I 曝光机11上左右向移载机构12上照射部121上光源13下左右向移载机构14下照射部141下光源15前后向相对移载机构16上感光基板曝光平台161上光传感器17下感光基板曝光平台171下光传感器18光源调整部19光源拆换警示器10 机壳【具体实施方式】为充分了解本技术的目的、特征及技术效果，兹借由下述具体的实施例，并结合附图，对本技术做详细说明，说明如下:请参考图1至图5，如图所示，本技术提供一种曝光机的校验装置，其包含上左右向移载机构11、上照射部12、下左右向移载机构13、下照射部14、前后向相对移载机构15、上感光基板曝光平台16、下感光基板曝光平台17及光源调整部18。其中，该上左右向移载机构11可于其下方承载及移动该上照射部12在左右向(横向)移动，该上左右向移载机构11可具有马达、轨道、滚轮及传动带(或齿轮组及传动链条)等以承载及移动该上照射部12 ;该上照射部12可设置于该上左右向移载机构11的下方，该上照射部12具有多个上光源121以向下照射，这些上光源121可借由多个电路模块控制其开、关及照射强度；该下左右向移载机构13可于其上方承载及移动该下照射部14在左右向(横向)移动，该下左右向移载机构13可具有马达、轨道、滚轮及传动带(或齿轮组及传动链条)等以承载及移动该下照射部14 ;该下照射部14可设置于该下左右向移载机构13的上方，该下照射部14具有多个下光源141以向上照射，这些下光源141可借由多个电路模块控制其开、关及照射强度，这些上光源121与这些下光源141为相同光源。另外，该上照射部12位于该前后向相对移载机构15的后部的上方，该下照射部14位于该前后向相对移载机构15的后部的下方，该前后向相对移载机构15可位于该上左右向移载机构11及该下左右向移载机构13之间，该前后向相对移载机构15可于其中间承载及相对移动该上感光基板曝光平台16及该下感光基板曝光平台17，该前后向相对移载机构15可具有马达、轨道、滚轮及传动带(或齿轮组及传动链条)等以承载及相对移动该上感光基板曝光平台16及该下感光基板曝光平台17，意即当该上感光基板曝光平台16移动至前方取出曝光完成的感光基板及再放置欲曝光的感光基板时，该下感光基板曝光平台17位于后方曝光感光基板，当该上感光基板曝光平台16移动至后方曝光感光基板时，该下感光基板曝光平台17位于前方取出曝光完成的感光基板及再放置欲曝光的感光基板。再者，该上感光基板曝光平台16设置于该前后向相对移载机构15且位于该上照射部12的下方，该上感光基板曝光平台16的上部后侧设置有一个以上的上光传感器161，以感测这些上光源121的照射强度或照射能量，该上光传感器161位于该上照射部12的端缘；该下感光基板曝光平台17设置于该前后向相对移载机构15且位当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光机的校验装置，其包含：上左右向移载机构；上照射部，其设置于该上左右向移载机构，该上照射部具有多个上光源以向下照射；下左右向移载机构；下照射部，其设置于该下左右向移载机构，该下照射部具有多个下光源以向上照射；前后向相对移载机构，该上照射部位于该前后向相对移载机构的后部的上方，该下照射部位于该前后向相对移载机构的后部的下方；上感光基板曝光平台，其设置于该前后向相对移载机构且位于该上照射部的下方，该上感光基板曝光平台的上部后侧设置有一个以上的上光传感器，以感测这些上光源的照射强度或照射能量，该上光传感器位于该上照射部的端缘；下感光基板曝光平台，其设置于该前后向相对移载机构且位于该下照射部的上方以与该上感光基板曝光平台相对移动，该下感光基板曝光平台的下部后侧设置有一个以上的下光传感器，以感测这些下光源的照射强度或照射能量，该下光传感器位于该下照射部的端缘；以及光源调整部，其电连接该上左右向移载机构、这些上光源、该下左右向移载机构、这些下光源、该前后向相对移载机构、该上光传感器及该下光传感器，以控制该上照射部与该上感光基板曝光平台的相对移动及/或该下照射部与该下感光基板曝光平台的相对移动，及调整这些上光源及这些下光源为相同的照射强度或相同的照射能量。...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林志持，林震洋，
申请(专利权)人：志圣工业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。