【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于处理衬底的载体装置,其特征在于包括:第一载体板,所述第一载体板具有第一多个腔,所述第一多个腔中的每个腔的尺寸被设计为接收衬底的第一侧;第二载体板,所述第二载体板具有第二多个腔,所述第二多个腔中的每个腔的尺寸被设计为当所述第一载体板与所述第二载体板彼此接触地放置时接收所述衬底的第二侧;以及磁体组件,所述磁体组件被配置为将所述第一载体板和所述第二载体板保持在一起,使得所述衬底被保持在所述第一载体板和所述第二载体板之间的位置,所述磁体组件具有定位在沿所述第一载体板或所述第二载体板的一侧形成的凹口内的至少一个磁体。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:H·J·C·托克,A·Q·杨,S·韦伯斯特,
申请(专利权)人:苹果公司,
类型:新型
国别省市:美国;US
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