感光性元件制造技术

本发明专利技术涉及一种感光性元件，其为具有支撑膜和形成在该支撑膜上的感光层的感光性元件，支撑膜的雾度为0.01～1.0％，全光线透过率大于或等于90％，感光层含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法和印刷配线板的制造方法。
技术介绍
以前，在印刷配线板的制造领域和金属的精密加工领域中，作为用于蚀刻、镀敷等 的抗蚀剂材料，广泛使用由感光性树脂组合物形成的层（以下称为"感光层"）、支撑膜和保 护膜所构成的感光性元件。 印刷配线板例如如下操作进行制造。首先，将感光性元件的保护膜从感光层剥离 后，在电路形成用基板的导电膜上层压感光层。接着，对感光层实施图案曝光，然后使用显 影液将未曝光部分除去，形成抗蚀剂图案。然后，基于该抗蚀剂图案，实施蚀刻处理或者镀 敷处理，对导电膜进行图案化，从而形成印刷配线板。 作为除去该未曝光部分所使用的显影液，主要使用碳酸钠溶液等碱显影型。显影 液通常只要一定程度具有溶解感光层的能力即可，显影时感光层溶解于显影液中或者分散 于显影液中。 近年来随着导电膜的图案化进行微细化，对感光性元件的感光层要求与电路形成 用基板的密合性和抗蚀剂图案形成时的分辨率优异。 通常在使用感光性元件形成抗蚀剂时，将感光层层压在基板上后，不剥离支撑膜 而进行曝光。为了应对这样的曝光处理，只要支撑膜采用光透过性的材料即可。另外，为了 得到图案形成时的高分辨率，必须使支撑膜尽可能薄。另一方面，为了在支撑膜上以均匀的 厚度成品率良好地涂布感光性树脂组合物，要求支撑膜有一定程度的厚度（通常IOym~ 30 μπι)。另外，为了提高支撑膜的生产率，即为了提高支撑膜的卷绕性，通常使支撑膜中含 有无机粒子或者有机粒子。因此，以前的支撑膜有如下倾向：雾度增大，因支撑膜所含有的 粒子导致曝光时发生光散射，不能满足感光性膜的高分辨率化要求。 作为实现高分辨率化的方法，有在曝光前将感光性元件所具有的支撑膜剥离，不 隔着支撑膜进行曝光的方法。在这种情况下，也有时在感光层上直接密合光具。然而，由 于感光层通常具有一定程度的粘着性，因此在使光具直接密合于感光层上进行曝光的情况 下，除去密合的光具变得困难。另外，光具因感光层而受到污染、或者由于将支撑膜剥离而 使感光层暴露在大气中的氧中，导致光灵敏度容易降低。 为了改善上述方面，提出了各种方法。例如，在日本特开平07-333853号公报、国 际公开第2000/079344号和日本特许第4905465号公报中，提出了如下方案：通过将支撑膜 中所含的粒子的粒径、支撑膜的雾度等设为特定的范围内，从而形成分辨率等优异的抗蚀 剂图案。
技术实现思路
近年来在具有极微细配线的印刷配线板的制造领域中，投影式曝光机的使用增 加。使用投影式曝光机的情况，与以前所使用的接触式曝光机相比，有曝光照度提高、曝光 时间变短的倾向。但如果使用投影式曝光机中高性能的投影式曝光机、即开口数（也称为 "投影镜头的亮度"）小的投影式曝光机，则有时在显影后的抗蚀剂图案上产生针孔。 本专利技术是鉴于上述情况而完成的专利技术，目的在于提供一种即使在使用了开口数小 的投影式曝光机的情况下，也能够充分抑制针孔产生的感光性元件。 本专利技术提供一种感光性元件，其为具有支撑膜和形成在该支撑膜上的感光层的感 光性元件，支撑膜的雾度为0. 01~I. 0%、且支撑膜的全光线透过率大于或等于90%，感光 层含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂。 本专利技术另外提供一种抗蚀剂图案的形成方法，其包含如下工序：使用上述感光性 元件在电路形成用基板上形成感光层的感光层形成工序；对感光层的规定部分照射活性光 线形成光固化部的曝光工序；以及将光固化部以外的未曝光部除去的显影工序。 本专利技术另外提供一种抗蚀剂图案的形成方法，其包含如下工序：将上述感光性元 件按照感光层、支撑膜的顺序层叠在电路形成用基板上的层叠工序；透过支撑膜对感光层 的规定部分照射活性光线形成光固化部的曝光工序；以及将光固化部以外的未曝光部除去 的显影工序。 本专利技术进一步提供一种印刷配线板的制造方法，其包含对通过上述抗蚀剂图案的 形成方法形成了抗蚀剂图案的电路形成用基板进行蚀刻或者镀敷的工序。 根据本专利技术，能够提供一种即使在使用了开口数小的投影式曝光机的情况下也能 够充分地抑制针孔产生的感光性元件。【附图说明】 图1是表示本专利技术的感光性元件的优选实施方式的示意截面图。图2是显影后产 生了针孔的抗蚀剂表面的扫描型显微镜照片。图3是实施例1的显影后的抗蚀剂的侧壁形 状的扫描型显微镜照片。图4是比较例6的显影后的抗蚀剂的侧壁形状的扫描型显微镜照 片。 符号说明 1 :感光性元件、10 :支撑膜、12 :第1主面、14 :第2主面、20 :感光层。【具体实施方式】 以下，根据需要一边参照附图一边对本专利技术的优选实施方式进行详细说明。另外， 对于附图中相同要素赋予相同符号，省略重复的说明。另外，上下左右等位置关系只要没有 特别说明，就设为基于附图所示位置关系的位置关系。进一步，附图的尺寸比率不限于图示 的比率。另外，在以下的实施方式中，关于其构成要素（也包含步骤要素等），除了特别明示 的情况和被认为原理上明显是必须的情况等以外不一定是必须的，这是自不待言的。这对 于数值和范围也同样，应解释为不会不合理地限制本公开内容。另外，本说明书中的"（甲 基）丙烯酸酯"是指"丙烯酸酯"或者与其对应的"甲基丙烯酸酯"。关于"（甲基）丙烯酸"、 "（甲基）丙烯酰基"等其它类似的表达也同样。 在本说明书中，关于"层"一词，在以平面图形式进行观察时，除了整面形成的形状 的结构以外，也包含部分形成的形状的结构。在本说明书中，关于"工序"一词，不仅包含独 立的工序，即使在与其它工序不能明确区别的情况下，若能实现该工序所期望的目的，则也 包含在本用语中。在本说明书中，使用"~"表示的数值范围表示包含"~"前后所记载的 数值分别作为最小值和最大值的范围。另外，"第1"、"第2"等用语是为了使一个构成要素 与另一个构成要素相区别而使用的用语，构成要素不受上述用语限定。 本专利技术人等通过研宄判明：在上述日本特开平07-333853号公报、国际公开第 2000/079344号和日本特许第4905465号公报所记载的以前的感光性元件中，如果使用以 前所使用的开口数大的投影式曝光机，则显影后的抗蚀剂图案不产生针孔，但如果使用开 口数小的投影式曝光机，则显影后的抗蚀剂产生针孔。 本专利技术人等对显影后的抗蚀剂产生针孔的原因进行了详细研宄。首先，分别使用 接触式曝光机和投影式曝光机，确认曝光方式的不同对针孔产生的影响。在本研宄中使用 的投影式曝光机为保证了 5μπι分辨率的高性能（开口数小）机型。其结果判明，即使使用 了利用接触式曝光机未观察到针孔不良状况的感光性元件的情况下，如果使用投影式曝光 机则也产生2~3 μπι程度的针孔。另外，如果使用利用接触式曝光机产生了针孔的感光性 元件通过投影式曝光机进行曝光，则有针孔的产生数大幅度增加的倾向。 接着，确认支撑膜的种类对针孔产生的影响。由于支撑膜的光透过率和雾度受到 支撑膜所含粒子的影响，因此关于产生针孔的原因，可认为起因于支撑膜所含的粒子。本发 明人等推测：在使用开口数小的投影式曝光机的情况下，支撑膜所含的粒子变成黑点，使感 光层不曝光，显影后的抗蚀剂图案产生针孔。另一方面推测：如果使用以前所使用的开口数本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性元件，其为具有支撑膜和形成在该支撑膜上的感光层的感光性元件，所述支撑膜的雾度为0.01～1.0％，且所述支撑膜的全光线透过率大于或等于90％，所述感光层含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：久保田雅夫，
申请(专利权)人：日立化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP