一种自清洁光栅玻璃的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种自清洁光栅玻璃的制备方法，包括以下步骤：A)将光栅玻璃依次进行亲水性处理与氨基化处理；B)将步骤A)得到的光栅玻璃依次进行氧化石墨烯的组装与还原处理；C)将步骤B)得到的光栅玻璃进行二氧化钛的组装；D)将步骤C)得到的光栅玻璃进行氟化处理。本申请提供了一种自清洁光栅玻璃的制备方法，经过光栅亲水性处理、氨基化处理、氧化石墨烯组装、氧化石墨烯的还原、二氧化钛的组装以及氟化处理步骤，将石墨烯与二氧化钛的复合结构与光栅玻璃表面条纹相结合，得到复合微纳结构，在赋予透明光栅玻璃憎水性的同时，可对有机物实现光降解，从而得到自清洁的透明光栅玻璃。

【技术实现步骤摘要】
一种自清洁光栅玻璃的制备方法
本专利技术涉及光栅玻璃
，尤其涉及一种自清洁光栅玻璃的制备方法。
技术介绍
光栅玻璃也称镭射玻璃，其以玻璃为基材，经激光表面微刻处理形成的激光装饰材料，是应用现代高新技术采用激光全息变光原理，将摄影美术与雕塑的特点融为一体，使普通玻璃在白光条件下显现出五光十色的三维立体图像。具体的，光栅玻璃是依据不同需要，利用电脑设计，激光表面处理，编入各种色彩、图形及各种色彩变换方式，在普通玻璃上形成物理衍射分光和全息光栅或其他光栅，凹与凸部形成四面对应分布或散射分布，构成不同质感、空间感，不同立面的透镜，加上玻璃本身的色彩及射入的光源，致使无数小透镜形成多次棱镜折射，从而产生不时变换的色彩和图形，具有很高的观赏与艺术装饰价值。鉴于透明光栅玻璃在实际应用过程中会受到环境中灰尘和有机污染物等的影响，因此研制出一种自清洁的透明光栅玻璃是十分有必要的。二氧化钛作为一种重要的无机半导体材料，在催化自清洁领域发挥着举足轻重的作用。石墨烯作为一种良好的电子接收体材料，与二氧化钛复合，将有利于大幅提高二氧化钛的催化效果。经独特结构设计，将石墨烯和二氧化钛构筑到光栅玻璃表面，形成独特微纳结构，在保证光栅玻璃透明性的同时，提高其光催化性能，这有望实现光栅玻璃的高性能自清洁性能。由此，本申请提供了一种自清洁光栅玻璃的制备方法。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题在于提供一种具有光降解功能的光栅玻璃的制备方法。有鉴于此，本申请提供了一种自清洁光栅玻璃的制备方法，包括以下步骤：A)，将光栅玻璃依次进行亲水性处理与氨基化处理；B)，将步骤A)得到的光栅玻璃依次进行氧化石墨烯的组装与还原处理；C)，将步骤B)得到的光栅玻璃进行二氧化钛的组装；D)，将步骤C)得到的光栅玻璃进行氟化处理。优选的，步骤A)中所述光栅玻璃的光栅间距为2～32μm，所述光栅玻璃的刻蚀深度为1～2μm。优选的，所述亲水性处理按照下述方式进行：将光栅玻璃置于体积比为3：1的浓硫酸和双氧水的混合溶液中，80℃～120℃处理1～3h，去离子水冲洗，高纯氮气吹干。优选的，所述氨基化处理按照下述方式进行：将经过亲水性处理的光栅玻璃置于1wt％～5wt％的硅烷偶联剂水溶液中浸泡3～5h，再采用去离子水冲洗，100～120℃烘干；所述硅烷偶联剂为3-氨丙基三乙氧基硅烷与3-氨丙基三甲氧基硅烷中的一种或两种。优选的，所述氧化石墨烯的组装按照下述方式进行：将步骤A)得到的光栅玻璃置于氧化石墨烯分散液中浸泡12～18h，再采用去离子水冲洗，80～100℃烘干；所述氧化石墨烯分散液的浓度为0.25～4mg/mL。优选的，所述还原处理按照下述方式进行：将经过氧化石墨烯组装的光栅玻璃与还原剂混合，120～150℃处理12～24h后依次进行去离子水与乙醇冲洗，高纯氮气吹干。优选的，所述还原剂选自苯胺、吡咯与水合肼中的一种或多种。优选的，所述二氧化钛的组装按照下述方法进行：将步骤B)得到的光栅玻璃置于0.25～4mg/mL的二氧化钛分散液中浸泡8～12h，再采用乙醇冲洗，80℃～100℃烘干，所述二氧化钛分散液的溶剂选自甲醇、乙醇、N，N-二甲基甲酰胺、乙二醇与异丙醇中的一种或多种。优选的，所述氟化处理按照下述方式进行：将组装有二氧化钛的光栅玻璃置于含氟试剂中浸泡3～6h，采用N，N-二甲基甲酰胺冲洗，乙醇冲洗，100℃～120℃烘干。优选的，所述含氟试剂选自三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、十七氟癸基三乙氧基硅烷、十二氟庚基丙基三甲氧基硅烷与六氟丁基丙基三甲氧基硅烷中的一种或多种；所述含氟试剂的浓度为1～10mmol/L。本申请提供了一种自清洁光栅玻璃的制备方法，首先将光栅玻璃进行亲水性处理，再将亲水性处理后的光栅玻璃进行氨基化处理，然后在光栅玻璃表面依次进行氧化石墨烯的组装、还原处理、二氧化钛的组装，最后进行氟化处理。本申请通过氨基化处理，使光栅玻璃带上正电荷，是光栅玻璃表面的静电自组装的基础，然后将石墨烯片组装到光栅玻璃表面，二氧化钛纳米颗粒组装到石墨烯片表面，还原氧化石墨烯将光波扩展到可见光，从而实现在可见光下光栅玻璃的光降解作用。另外，由于石墨烯片是二维平面，二氧化钛为纳米颗粒，形成的表面凸起有利于提高接触角，使光栅玻璃具有超憎水性。附图说明图1为本专利技术实施例1制备的自清洁透明光栅玻璃的扫描电镜图；图2为本专利技术实施例1制备的自清洁透明光栅玻璃与纯光栅玻璃的紫外可见光谱图；图3为本专利技术实施例1制备的自清洁透明光栅玻璃的接触角图。具体实施方式为了进一步理解本专利技术，下面结合实施例对本专利技术优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为进一步说明本专利技术的特征和优点，而不是对本专利技术权利要求的限制。本专利技术实施例公开了一种自清洁光栅玻璃的制备方法，包括以下步骤：A)，将光栅玻璃依次进行亲水性处理与氨基化处理；B)，将步骤A)得到的光栅玻璃依次进行氧化石墨烯的组装与还原处理；C)，将步骤B)得到的光栅玻璃进行二氧化钛的组装；D)，将步骤C)得到的光栅玻璃进行氟化处理。本申请提供了一种自清洁光栅玻璃的制备方法，通过静电自组装将石墨烯和二氧化钛构筑到透明光栅玻璃的表面，结合光栅玻璃表面条纹，得到复合微纳结构，在赋予透明光栅玻璃憎水性的同时，实现了对有机物的光降解，从而得到自清洁的光栅玻璃。在自清洁光栅玻璃制备的过程中，本申请首先将光栅玻璃进行亲水性处理，使光栅玻璃表面带有大量的羟基基团，实现光栅玻璃表面的亲水性，便于后续氧化石墨烯在光栅玻璃表面组装。本申请所述光栅玻璃可以按照下述的方法制备：采用激光直写技术或掩膜曝光技术在玻璃基底上制备掩膜光栅条纹，通过等离子刻蚀技术在玻璃基底上刻蚀出光栅结构。所述等离子刻蚀优选采用三氟甲烷和氩气作为反应刻蚀气体。本申请所述光栅玻璃的间距优选为2～32μm，更优选为4～25μm，所述光栅玻璃的刻蚀深度优选为1μm～2μm。按照本专利技术，所述光栅玻璃的亲水性处理具体为：将光栅玻璃置于体积比为3:1的浓硫酸和双氧水的混合溶液中，80℃～120℃处理1～3h后取出，再采用去离子水清洗3～4遍，高纯氮气吹干。本专利技术然后将光栅玻璃进行氨基化处理。所述氨基化处理是为了使得光栅玻璃带上正电荷，这是基于静电自组装技术来实现在光栅玻璃表面构筑各种结构单元，正电荷与负电荷材料相互吸引，从而实现在光栅玻璃表面可控组装。本申请所述氨基化处理优选按照下述方式进行：将经过亲水性处理的光栅玻璃置于质量分数为1wt％～5wt％的硅烷偶联剂水溶液中浸泡3～5h，再采用去离子水冲洗3～4遍，100～120℃烘干。上述过程中，所述硅烷偶联剂优选为3-氨丙基三乙氧基硅烷与3-氨丙基三甲氧基硅烷中的一种或两种。按照本专利技术，然后在经过氨基化处理的光栅玻璃表面组装氧化石墨烯，使氧化石墨烯通过静电吸附作用铺设于光栅结构表面。作为优选方案，在光栅玻璃表面沉积氧化石墨烯的过程具体为：将经过氨基化处理的光栅玻璃置于氧化石墨烯分散液中浸泡12～18h，再采用去离子水冲洗3～4遍，80～100℃烘干。在上述过程中，所述氧化石墨烯分散液的制备方法为：将氧化石墨烯置于去离子水中，采用40～100kHz的超声处理1～本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自清洁光栅玻璃的制备方法，包括以下步骤：A)，将光栅玻璃依次进行亲水性处理与氨基化处理；B)，将步骤A)得到的光栅玻璃依次进行氧化石墨烯的组装与还原处理；C)，将步骤B)得到的光栅玻璃进行二氧化钛的组装；D)，将步骤C)得到的光栅玻璃进行氟化处理。

【技术特征摘要】
1.一种自清洁光栅玻璃的制备方法，包括以下步骤：A)，将光栅玻璃依次进行亲水性处理与氨基化处理；B)，将步骤A)得到的光栅玻璃依次进行氧化石墨烯的组装与还原处理；C)，将步骤B)得到的光栅玻璃进行二氧化钛的组装；D)，将步骤C)得到的光栅玻璃进行氟化处理；所述氧化石墨烯的组装按照下述方式进行：将步骤A)得到的光栅玻璃置于氧化石墨烯分散液中浸泡12～18h，再采用去离子水冲洗，80～100℃烘干；所述氧化石墨烯分散液的浓度为0.25～4mg/mL；所述二氧化钛的组装按照下述方法进行：将步骤B)得到的光栅玻璃置于0.25～4mg/mL的二氧化钛分散液中浸泡8～12h，再采用乙醇冲洗，80℃～100℃烘干，所述二氧化钛分散液的溶剂选自甲醇、乙醇、N，N-二甲基甲酰胺、乙二醇与异丙醇中的一种或多种。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤A)中所述光栅玻璃的光栅间距为2～32μm，所述光栅玻璃的刻蚀深度为1～2μm。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述亲水性处理按照下述方式进行：将光栅玻璃置于体积比为3：1的浓硫酸和双氧水的混合溶液中，80℃～120℃处理1～3h，去离子水冲洗，高纯氮气吹干。4.根据权利要求1所述的制...

【专利技术属性】
技术研发人员：王艳艳，彭长四，浦东林，戎晨，李权，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32