【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种晶体制备装置，特别涉及一种晶体频率微调机。
技术介绍
晶体一次成型后其频率有的达标有的会不达标，因此需要对晶体频率进行微调。现有技术中的频率微调机的挡板在微调圈和蒸发舱之间，钼舟离得远，因此喷得散，银皮容易夹在微调圈和蒸发舱之间，因此对银的浪费比较大，不容易清理，并且喷射效果不好。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种设计合理，使用方便的晶体频率微调机。本技术所要解决的技术问题是通过以下的技术方案来实现的，本技术是一种晶体频率微调机，包括设在工作台上的底盘，底盘上罩有真空罩，真空罩内形成真空腔室，在底盘的下方设有与真空腔室相连的抽真空机组，其特点是：在真空腔室内设有旋转盘，旋转盘上装有固定晶体的微调圈，在微调圈内设有蒸发舱，在微调圈外设有与蒸发舱配合的频率测试头，正对频率测试头的蒸发舱前舱壁上设有喷射孔，在蒸发舱内设有蒸镀机构，蒸镀机构与蒸发舱前舱壁之间设有与喷射孔配合的挡板。本技术所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，所述的晶体频率微调机中：所述蒸镀机构包括两个钼舟和两个电极柱，两个钼舟分别通过钼杆与同侧的电极柱相连。本技术所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案来进一步实现，所述的晶体频率微调机中：在蒸发舱的后方设有驱动挡板左右运动的电磁装置，所述的电磁装置包括两根水平设置并正对的电磁杆，两根电磁杆之间设有吸附间隙，在吸附间隙处设有穿过蒸发舱的后舱壁与挡板相连的金属档杆。本技术所要解决的技术问题还可以通过以下的技术方案...
【技术保护点】
一种晶体频率微调机，包括设在工作台上的底盘，底盘上罩有真空罩，真空罩内形成真空腔室，在底盘的下方设有与真空腔室相连的抽真空机组，其特征在于：在真空腔室内设有旋转盘，旋转盘上装有固定晶体的微调圈，在微调圈内设有蒸发舱，在微调圈外设有与蒸发舱配合的频率测试头，正对频率测试头的蒸发舱前舱壁上设有喷射孔，在蒸发舱内设有蒸镀机构，蒸镀机构与蒸发舱前舱壁之间设有与喷射孔配合的挡板。
【技术特征摘要】
1.一种晶体频率微调机，包括设在工作台上的底盘，底盘上罩有真空罩，真空罩内形成真空腔室，在底盘的下方设有与真空腔室相连的抽真空机组，其特征在于：在真空腔室内设有旋转盘，旋转盘上装有固定晶体的微调圈，在微调圈内设有蒸发舱，在微调圈外设有与蒸发舱配合的频率测试头，正对频率测试头的蒸发舱前舱壁上设有喷射孔，在蒸发舱内设有蒸镀机构，蒸镀机构与蒸发舱前舱壁之间设有与喷射孔配合的挡板。
2.根据权利要求1所述的晶体频率微调机，其特征在于：所述蒸镀机构包括两个钼舟...
【专利技术属性】
技术研发人员：王骥，关维国，朱木典，朱柳典，许萍，白长庚，
申请(专利权)人：江苏海峰电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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