根据本发明专利技术的优选方案，通过包含式(1)表示的环硫化合物和式(2)表示的环硫化合物的光学材料用组合物，可以稳定且廉价地保管式(2)表示的环硫化合物，并且可以提供耐光性良好的光学材料。(式(1)中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)(式(2)中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及环硫化合物，其适合用于塑料透镜、棱镜、光纤维、信息记录基盘、滤光 器等光学材料，尤其是塑料透镜。
技术介绍
塑料透镜为轻质且富于韧性，染色也容易。塑料透镜所特别要求的性能是低比重、 高透明性及低黄色度，作为光学性能的高折射率和高阿贝数、高耐热性、高强度等。高折射 率使透镜的薄壁化成为可能，高阿贝数减少了透镜的色差。 近年来，以高折射率和高阿贝数为目的，报道了众多的具有硫原子的有机化合物。 其中，已知具有硫原子的聚环硫化合物的折射率和阿贝数的均衡性良好（专利文献1)。另 外，由于聚环硫化合物能够与各种化合物反应，因此为了提高物性，提出了与各种化合物的 组合物（专利文献2~5)。 然而，因为环硫化合物的反应性高，所以难以长期保存，提出了冷藏保管的方法 (专利文献6)、添加具有卤素基团的环氧化合物的方法（专利文献7)。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开平09-110979号公报 专利文献2 :日本特开平10-298287号公报 专利文献3 :日本特开2001-002783号公报 专利文献4 :日本特开2001-131257号公报 专利文献5 :日本特开2002-122701号公报 专利文献6 :日本特开2000-327677号公报 专利文献7 :日本特开2005-272418号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题 但是，由于冷藏保存中需要专用的冷藏库，提高了成本，并且，具有卤素基团的环 氧化合物导致来自卤素的耐光性恶化，因此要求改善。 即，本专利技术的课题在于提供一种能够稳定且廉价地保管环硫化合物等聚合性化合 物、并且能够得到耐光性良好的光学材料的光学材料用组合物。 用于解决问题的方案 本专利技术人鉴于上述状况反复深入研宄，结果发现，通过以下所示的本专利技术，能够解 决上述课题。即，本专利技术的方案如下所述。 < 1 >一种环硫化合物，其由下述式⑴表示。【主权项】1. 一种环硫化合物，其由下述式（1)表示，式（1)中，m表示O~4的整数，η表示O~2的整数。2. -种光学材料用组合物，其包含权利要求1所述的环硫化合物和聚合性化合物。3. 根据权利要求2所述的光学材料用组合物，其中，所述环硫化合物的含量为0.0 Ol~ 5. 0质量％。4. 根据权利要求2或3所述的光学材料用组合物，其包含95. 0~99. 999质量％的所 述聚合性化合物。5. 根据权利要求2~4中任一项所述的光学材料用组合物，其包含下述式（2)表示的 环硫化合物作为所述聚合性化合物，式（2)中，m表示0~4的整数，η表示0~2的整数。6. 根据权利要求5所述的光学材料用组合物，其包含40~99. 999质量％的所述式（2) 表示的环硫化合物。7. -种光学材料的制造方法，其特征在于，在权利要求2~6中任一项所述的光学材料 用组合物中添加相对于该光学材料用组合物的总量为0.0001质量％~10质量％的聚合催 化剂进行聚合固化，从而制造光学材料。8. -种光学材料，通过权利要求7所述的光学材料的制造方法而得到。9. 一种光学透镜，其含有权利要求8所述的光学材料。10. -种环硫化合物的制造方法，其为权利要求1所述的下述式（1)表示的环硫化合物 的制造方法，其具有： 通过硫化氢或多硫醇化合物与表卤代醇化合物的反应，得到下述式（3)表示的化合物 的工序； 使得到的式（3)表示的化合物与碱反应，使脱卤化氢反应推进，得到下述式（4)表示的 化合物的工序；和 使得到的式（4)表示的化合物与硫杂化剂反应，得到上述式（1)表示的化合物的工序，式（1)中，m表示O~4的整数，η表示O~2的整数，式（3)中，X表不:齒原子，m表不;O~4的整数，η表不;O~2的整数，式⑷中，X表不:齒原子，m表不;O~4的整数，η表不;O~2的整数D【专利摘要】根据本专利技术的优选方案，通过包含式(1)表示的环硫化合物和式(2)表示的环硫化合物的光学材料用组合物，可以稳定且廉价地保管式(2)表示的环硫化合物，并且可以提供耐光性良好的光学材料。(式(1)中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)(式(2)中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)【IPC分类】C07D331-02, C08G75-06【公开号】CN104768942【申请号】CN201480002905【专利技术人】仮屋薗和贵, 青木崇, 冈田浩之, 堀越裕 【申请人】三菱瓦斯化学株式会社【公开日】2015年7月8日【申请日】2014年3月12日【公告号】EP2902389A1, US20150259477, WO2014142138A1本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种环硫化合物，其由下述式(1)表示，式(1)中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：仮屋薗和贵，青木崇，冈田浩之，堀越裕，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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