一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置制造方法及图纸

技术编号:11722820 阅读:170 留言:0更新日期:2015-07-11 14:00
本实用新型专利技术涉及机械加工设备领域,具体为一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置;底座环上设置有研磨盘和防水罩,防水罩的上设置有固定圈;底座环、防水罩、固定圈通过定位销相固定;研磨盘正上方设置有水管的出液口,水管的进液口设置在烧杯中,烧杯底部设置有搅拌子,且烧杯设置在磁力搅拌机上;供液管中间连接有供液泵、控制开关和压力控制阀;收集合通过回液管与烧杯连通;本实用新型专利技术的目的是提供一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置,可以自动的定时定量的添加研磨液与抛光液,同时对研磨液和抛光液搅拌,防止沉积,提高研磨质量;可以保护底座环不被腐蚀和磨损,进而保护加工的精度;还能将研磨液和抛光液进行收集和循环利用。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及机械加工设备领域,具体为一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置
技术介绍
随着科技的高速发展,人们的生活水平大幅度提升,出现了各种各样的通信方式,其中光通信占据着主导地位。在光通信产品PLC(Planar Lightwave Circuit Splitter,平面光波导分路器)的生产过程中,需要首先制作FA (Fiber Array,光纤阵列),把光纤精密组装定位到一个石英基材上的间距为250um或127um的精密V槽里,上面覆盖上一块石英盖板,最后点入UV胶水并紫外固化。再对FA端面进行研磨抛光。端面质量的好坏直接决定了 FA是否好用,PLC光学性能是否合格。在研磨抛光的过程中,需要定时定量的加研磨液与抛光液。常规的方式采取手动添加。这样就会存在一些问题,研磨液、抛光液沉积,且手动添加存在一定的误差导致研磨后的端面一致性差,研磨质量不稳定;可能忘记添加研磨液导致研磨质量差,进而影响产品的性能。光纤研磨机是一个偏向盘插入三个轴做偏心运动,研磨盘放在精度较高的底座环上,研磨盘的运行精度就在于底座环,所以保护底座环就是保护研磨机,目前不管四角加压还是中心加压都没有保护措施,研磨时有各种液体流到底座环,腐蚀或磨损底座环,导致机器报废;同时研磨液没有进行收集和循环利用,造成浪费,增大成本。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置,可以自动的定时定量的对研磨抛光过程添加研磨液与抛光液,同时对研磨液和抛光液搅拌,防止沉积,保证研磨后的端面一致性好,提高研磨质量;可以保护底座环不被腐蚀和磨损,进而保护加工的精度;还能将研磨液和抛光液进行收集和循环利用。为实现以上目的,本技术采用的技术方案是:一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置,它包括主体(I)和设置在其上的底座环(13),所述的底座环(13)上设置有与其同轴的研磨盘(14)和防水罩(16),所述的防水罩(16)的上表面设置有固定圈(15);所述的底座环(13)、防水罩(16)、固定圈(15)通过定位销(17)相固定;所述的研磨盘(14)正上方设置有供液管(5)的出液口( 502),所述的供液管(5)的进液口( 501)设置在烧杯(3)中,所述的烧杯(3)底部设置有搅拌子(4),且烧杯(3)设置在磁力搅拌机(2)上,所述的搅拌子(4)和磁力搅拌机(2)通过磁力相配合;所述的供液管(5)在进液口(501)和出液口(502)之间还依次连接有供液泵(6)、控制开关(8)和压力控制阀(9);主体(I)的侧面设置有收集合(12),所述的收集合(12)通过回液管(18)与烧杯(3)连通,且回液管(18)中间接有过滤装置(19)和回液泵(20)。进一步的,所述的防水罩(16)和固定圈(15)均设置在研磨盘(14)外围且相互接触,中间没有间隙。进一步的,所述的防水罩(16)侧面为锥形,且主体(I)与防水罩(16)底部外侧接触的地方开有水槽(11),所述的水槽(11)与收集合(12)连通。进一步的,所述的水槽(11)包括环形水槽(1101)和直型水槽(1102 ),所述的直型水槽(1102)与收集合进口(1201)相连。进一步的,所述的直型水槽(1102)底部为斜面,靠近收集合(12)的一端深。进一步的,所述的收集合进口(1201)为斜面,且其宽度为直型水槽(1102)宽度的2-5 倍。进一步的,所述的磁力搅拌机(2)的侧面设置有转速调节开关(201)和磁力调节开关(202)。进一步的,所述的供液泵(6)为蠕动泵,且其还连接有流量调节器(7)。进一步的,进入到研磨机中的供液管(5)、控制开关(8)和压力控制阀(9)均固定在研磨臂(10)上,且出液口(502)为可以任意弯折的柔性管道。进一步的,所述的过滤装置(19)包括有沉淀池一(1901)、粗过滤器(1902)、沉淀池二( 1903)和精过滤器(1904),沉淀池一(1901)与粗过滤器(1902)相连,粗过滤器(1902)与沉淀池二( 1903)相连,沉淀池二( 1903)与精过滤器(1904)相连,且沉淀池一(1901)与收集合(12)相连。本技术的有益效果:1、本技术一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置,设置了防水罩,可以防止研磨时各种液体流到底座环上,保护底座环不被腐蚀和磨损,进而保护加工的精度。2、设置了控制开关和压力控制阀,可以自动的定时定量的对研磨抛光过程添加研磨液与抛光液,保证适时适量的添加研磨液和抛光液,进而保证研磨的质量。3、主体上设置了水槽,并且连接到收集合,可以将研磨液进行收集,并且设置了回液管,可以将收集的研磨液循环利用。4、设置了搅拌装置,可以防止研磨液和抛光液沉积,进而保证研磨后的产品端面一致性良好,提尚广品的质量。5、采用的是磁力搅拌机进行搅拌,节省了人力,同时设置了转速调节开关和磁力调节开关,可以控制搅拌子的转速和高度,防止研磨液和抛光液逸出烧杯。6、蠕动泵连接有流量调节器,可以控制泵的抽液流量,保证泵的抽液量处于一个合适的值,不会损坏压力控制阀和控制开关。7、回液管中间连接了过滤装置,且过滤装置中设置了粗过滤器和精过滤器,能很好的将收集的研磨液中的残渣除掉。【附图说明】图1为一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置的结构示意图。图2为搅拌部分的立体示意图。图3为防护部分的俯视图。图4为图1中A的局部放大图。图5为过滤装置的结构示意图。图中所述文字标注表示为:1、主体;2、磁力搅拌机;3、烧杯;4、搅拌子;5、供液管;6、供液泵;7、流量调节器;8、控制开关;9、压力控制阀;10、研磨臂;11、水槽;12、收集合;13、底座环;14、研磨盘;15、固定圈;16、防水罩;17、定位销;18、回液管;19、过滤装置;20、回液泵;201、转速调节开关;202、磁力调节开关;501、进液口 ;502、出液口 ;1101、环形水槽;1102、直型水槽;1201、收集合进口 ;1901、沉淀池一 ;1902、粗过滤器;1903、沉淀池二 ;1904、精过滤器。【具体实施方式】为了使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案,下面结合附图对本技术进行详细描述,本部分的描述仅是示范性和解释性,不应对本技术的保护范围有任何的限制作用。如图1至图5所示,本技术的具体结构为:一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置,它包括主体I和设置在其上的底座环13,所述的底座环13上设置有与其同轴的研磨盘14和防水罩16,所述的防水罩16的上表面设置有固定圈15 ;所述的底座环13、防水罩16、固定圈15通过定位销17相固定;所述的研磨盘14正上方设置有供液管5的出液口 502,所述的供液管5的进液口 501设置在烧杯3中,所述的烧杯3底部设置有搅拌子4,且烧杯3设置在磁力搅拌机2上,所述的搅拌子4和磁力搅拌机2通过磁力相配合;所述的供液管5在进液口 501和出液口 502之间还依次连接有供液泵6、控制开关8和压力控制阀9 ;主体I的侧面设置有收集合12,所述的收集合12通过当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于FA端面研磨的滴液循环及防护装置,它包括主体(1)和设置在其上的底座环(13),其特征在于,所述的底座环(13)上设置有与其同轴的研磨盘(14)和防水罩(16),所述的防水罩(16)的上表面设置有固定圈(15);所述的底座环(13)、防水罩(16)、固定圈(15)通过定位销(17)相固定;所述的研磨盘(14)正上方设置有供液管(5)的出液口(502),所述的供液管(5)的进液口(501)设置在烧杯(3)中,所述的烧杯(3)底部设置有搅拌子(4),且烧杯(3)设置在磁力搅拌机(2)上,所述的搅拌子(4)和磁力搅拌机(2)通过磁力相配合;所述的供液管(5)在进液口(501)和出液口(502)之间还依次连接有供液泵(6)、控制开关(8)和压力控制阀(9);主体(1)的侧面设置有收集合(12),所述的收集合(12)通过回液管(18)与烧杯(3)连通,且回液管(18)中间接有过滤装置(19)和回液泵(20)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈波
申请(专利权)人:新中合光电科技保靖有限公司
类型:新型
国别省市:湖南;43

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